[實用新型]一種曝光機光強調節裝置

有效

• 申請號: 201720595338.5
• 申請日: 2017-05-25
• 公開（公告）號: CN206741198U
• 公開（公告）日: 2017-12-12
• 發明（設計）人: 胡超;薛棟;寧鵬飛
• 申請（專利權）人: 昆山國顯光電有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京布瑞知識產權代理有限公司11505
• 代理人: 孟潭

技術領域

本實用新型涉及光學領域，特別涉及一種曝光機光強調節裝置。

背景技術

圖1為現有技術中入射積光器40的光輻照通道結構示意圖。如圖1所示，現有曝光機入射積光器40的光輻照通道包括順序設置的點光源01、集光器(即Elliptical mirror)02、反射板03、中繼鏡頭組(即Relay Lens)04、分光裝置10和分光裝置10輸出端口上的模塊快門(即Module shutter)20，點光源01產生高功率光通量，通過集光器02形成點光源01的準平行光線，進一步通過反射板03和中繼鏡頭組04改變光線的傳遞方向和光線的平行特性，光線由分光裝置10的輸入端口輸入，分光裝置10將光通量分配至各輸出端口輸出，輸出端口設置的模塊快門20用來作為光通量輸出的開關。模塊快門20和積光器40間形成照射光路05，通過積光器40輸出大面積的均勻照明。

曝光機為了控制光輻照通道中入射積光器40的光輻射強度常用會在積光器40與分光裝置10輸出端口之間設置與光軸垂直的調光裝置30(即Wedge)，調光裝置30為可調節位移的遮光板，遮光板上開設疏密度規律變化的通孔，通過移動調光裝置30改變對分光裝置10輸出端口的遮擋面積，進而調整照射積光器40的光照強度，該方式是將不需的光通量進行遮擋，對光源利用率較低。

實用新型內容

有鑒于此，本實用新型實施例提供了一種曝光機光強調節裝置，用于解決各鏡頭的輸入光源利用率低的技術問題。

本實用新型的曝光機光強調節裝置，包括分光裝置，所述分光裝置的輸出端口與積光器間形成照射光路，所述輸出端口與所述積光器間設置半透半反射鏡和第二分光裝置，所述半透半反射鏡設置在所述照射光路上，所述第二分光裝置的輸入端口朝向所述半透半反射鏡的反射面，所述第二分光裝置的輸出端口與所述分光裝置間建立補償光路。

所述半透半反射鏡的反射面設置反射率單調變化的反射鍍膜。

所述反射鍍膜為所述反射面上平行布設的反射鍍膜條帶，所述反射鍍膜條帶的反射率延所述平行布設方向單調變化。

所述反射鍍膜為自內向外布設的環形的反射鍍膜條帶，所述反射鍍膜條帶的反射率沿徑向方向單調變化。

所述半透半反射鏡的反射面與所述照射光路方向保持固定夾角，所述半透半反射鏡通過位移機構受控移動。

一個所述照射光路對應的所述第二分光裝置的輸出端口通過纖維光導與其他所述照射光路對應的所述分光裝置的輸出端口建立補償光路。

所述照射光路對應的所述第二分光裝置的輸出端口通過纖維光導與所述分光裝置的補償輸入端口間建立補償光路。

所述積光器采用復眼鏡頭。

所述分光裝置和第二分光裝置采用光纖分光器。

本實用新型實施例的曝光機光強調節裝置利用可調節反射率的半透半反射鏡改變分光裝置的輸出端口的照射光路中光線的反射率，影響光通量的分配比率，根據積光器對光通量的需求量將額外的光通量調配補償到分光裝置其他輸出端口的照射光路中。使得額外光通量可以用于不同照射光路的光通量補償，提高光源利用率。尤其對于曝光機在VFS模式曝光時，可以在不增加點光源功率的狀態下獲得更高照度和照度均勻度。

附圖說明

圖1為現有技術中入射積光器的光輻照通道結構示意圖。

圖2為本實用新型曝光機光強調節裝置一實施例的結構示意圖。

圖3為本實用新型曝光機光強調節裝置另一實施例的結構示意圖。

具體實施方式

下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例，本領域普通技術人員在沒有作出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。

圖2為本實用新型曝光機光強調節裝置一實施例的結構示意圖。如圖2所示，分光裝置10包括若干個輸出端口11(附圖中為三個)，每個輸出端口11上設置模塊快門20，每個輸出端口11分別對應一個積光器40，每個輸出端口11與對應的積光器40間形成一個照射光路05。