[實用新型]一種雙層掩膜版組件和蒸鍍裝置

有效

• 申請號: 201720578925.3
• 申請日: 2017-05-23
• 公開（公告）號: CN207109079U
• 公開（公告）日: 2018-03-16
• 發明（設計）人: 趙蓉;金龍
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司11274
• 代理人: 申健

1.一種雙層掩膜版組件，其特征在于，包括：

第一掩膜版；

第一掩膜版框架，所述第一掩膜版固定在所述第一掩膜版框架上，在所述第一掩膜版框架固定所述第一掩膜版的表面上、且未被所述第一掩膜版覆蓋的區域內設置有第一卡接部；

第二掩膜版；

第二掩膜版框架，所述第二掩膜版固定在所述第二掩膜版框架上，在所述第二掩膜版框架固定所述第二掩膜版的表面上、且未被所述第二掩膜版覆蓋的區域內設置有第二卡接部；

所述第一掩膜版框架固定所述第一掩膜版的表面與所述第二掩膜版框架固定所述第二掩膜版的表面相對設置，且所述第一卡接部與所述第二卡接部卡合，以便所述第一掩膜版和所述第二掩膜版相貼合。

2.根據權利要求1所述的雙層掩膜版組件，其特征在于，

所述第一卡接部為凸起；

所述第二卡接部為凹槽或鏤空部。

3.根據權利要求2所述的雙層掩膜版組件，其特征在于，

所述凸起為圍繞第一掩膜版一周的環形凸起。

4.根據權利要求2所述的雙層掩膜版組件，其特征在于，

所述凹槽為圍繞第二掩膜版一周的環形凹槽。

5.根據權利要求2所述的雙層掩膜版組件，其特征在于，

所述第一掩膜版框架包括4個邊框，所述第一掩膜版跨接固定在相對設置的第一邊框和第二邊框上，所述凸起設置在相對設置的第三邊框和第四邊框上。

6.根據權利要求1-5任意一項所述的雙層掩膜版組件，其特征在于，所述第一掩膜版為開口掩膜版，所述第二掩膜版為精細金屬掩膜版。

7.根據權利要求1-4任意一項所述的雙層掩膜版組件，其特征在于，所述第一掩膜版為精細金屬掩膜版，所述第二掩膜版為開口掩膜版。

8.一種蒸鍍裝置，包括蒸鍍源，其特征在于，還包括權利要求1至7任一項所述的雙層掩膜版組件。

9.根據權利要求8所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述雙層掩膜版組件中的精細金屬掩膜版靠近所述蒸鍍源一側。