[實用新型]濕式刻蝕用清洗裝置以及濕式刻蝕設備

有效

• 申請號: 201720494846.4
• 申請日: 2017-05-05
• 公開（公告）號: CN206716576U
• 公開（公告）日: 2017-12-08
• 發明（設計）人: 聶行健;陳聰文;汪杰;趙敏
• 申請（專利權）人: 東旭（昆山）顯示材料有限公司;東旭集團有限公司;東旭科技集團有限公司
• 主分類號: B08B3/02
• 分類號: B08B3/02;H01L21/67
• 代理公司: 北京潤平知識產權代理有限公司11283
• 代理人: 李翔,李健

1.一種濕式刻蝕用清洗裝置，其特征在于，所述濕式刻蝕用清洗裝置(1)包括用于傳送玻璃基板的傳送單元(10)、位于所述傳送單元(10)上方的能夠向所述玻璃基板噴清洗液的噴淋單元以及位于所述傳送單元(10)下方的接液槽(11)，其中，所述接液槽(11)的內部安裝有能夠將所述接液槽(11)的內部分隔成沿所述傳送單元(10)的傳送方向排列的相互獨立的腔室的隔板(12)。

2.根據權利要求1所述的濕式刻蝕用清洗裝置，其特征在于，所述接液槽(11)的內部設置有使得所述隔板(12)能夠沿所述傳送方向往復移動的導向單元(13)。

3.根據權利要求2所述的濕式刻蝕用清洗裝置，其特征在于，所述導向單元(13)包括安裝于所述接液槽(11)的側壁且沿所述傳送方向延伸的導軌(130)以及安裝于所述隔板(12)且能夠沿所述導軌(130)滑動的滑塊(131)。

4.根據權利要求3所述的濕式刻蝕用清洗裝置，其特征在于，所述導軌(130)為多個，多個所述導軌(130)成對設置，每對所述導軌(130)位置對應地分布于所述接液槽(11)相對的兩個側壁上。

5.根據權利要求1所述的濕式刻蝕用清洗裝置，其特征在于，所述濕式刻蝕用清洗裝置包括多個所述隔板(12)。

6.根據權利要求1所述的濕式刻蝕用清洗裝置，其特征在于，至少一個所述腔室的底壁上設置有排液口。

7.根據權利要求1所述的濕式刻蝕用清洗裝置，其特征在于，所述傳送單元(10)包括滾輪傳送帶。

8.根據權利要求1-7中任意一項所述的濕式刻蝕用清洗裝置，其特征在于，所述隔板(12)的周緣設置有密封件(14)。

9.根據權利要求8所述的濕式刻蝕用清洗裝置，其特征在于，所述密封件(14)包括貼附于所述隔板(12)的周緣的密封條。

10.一種濕式刻蝕設備，其特征在于，所述濕式刻蝕設備包括權利要求1-9中任意一項所述的濕式刻蝕用清洗裝置(1)、位于所述濕式刻蝕用清洗裝置(1)上游的刻蝕裝置(2)以及位于所述濕式刻蝕用清洗裝置(1)下游的干燥裝置(3)。