[實用新型]一種用于CVD固態源的揮發裝置有效
| 申請號： | 201720434437.5 | 申請日： | 2017-04-24 |
| 公開（公告）號： | CN206935318U | 公開（公告）日： | 2018-01-30 |
| 發明（設計）人： | 郭國平;楊暉;李海歐;曹剛;肖明;郭光燦 | 申請（專利權）人： | 中國科學技術大學 |
| 主分類號： | B01J3/03 | 分類號： | B01J3/03 |
| 代理公司： | 北京凱特來知識產權代理有限公司11260 | 代理人： | 鄭立明,鄭哲 |
| 地址： | 230026 安*** | 國省代碼： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 用于 cvd 固態 揮發 裝置 | ||
1.一種用于CVD固態源的揮發裝置，其特征在于，包括上蓋組件與及不銹鋼釜體(1)構成的密閉反應釜；所述的上蓋組件包括上蓋法蘭(2)，上蓋法蘭(2)上設有與反應釜內連通的進氣管(3)與出氣管(4)；進氣管(3)伸入反應釜內部；
所述的上蓋法蘭(2)上還設有固態源盛放裝置，所述的固態源盛放裝置包括不銹鋼直棒(5)與固態源存放筒(6)；不銹鋼直棒(5)外徑不小于固態源存放筒(6)外徑，通過螺紋連接；固態源存放筒(6)一端伸入反應釜內部；固態源存放筒(6)中空側壁設有多個通氣孔道(7)；
所述的上蓋法蘭(2)上還設有溫控裝置的熱電阻(8)，熱電阻(8)測溫端伸入反應釜內部；
所述的不銹鋼釜體(1)外側設有溫控裝置的加熱環。
2.根據權利要求1所述的用于CVD固態源的揮發裝置，其特征在于，所述的不銹鋼釜體(1)包括下部的氣體緩沖腔(10)，氣體緩沖腔(10)的壁厚小于不銹鋼釜體(1)上部。
3.根據權利要求1或2所述的用于CVD固態源的揮發裝置，其特征在于，所述的不銹鋼釜體(1)包括上部設有密封環槽(11)，內設密封圈組件，所述的上蓋法蘭(2)下面設有密封環(12)；密封環(12)嵌入密封環槽(11)壓緊密封圈組件實現上蓋組件與及不銹鋼釜體(1)構成的密封，組成密閉反應釜。
4.根據權利要求3所述的用于CVD固態源的揮發裝置，其特征在于，所述的密封圈組件包括兩個全氟醚橡膠FFKM密封圈(13)與一個不銹鋼壓環(14)，全氟醚橡膠FFKM密封圈(13)設于不銹鋼壓環(14)兩側。
5.根據權利要求1或2所述的用于CVD固態源的揮發裝置，其特征在于，所述的不銹鋼直棒(5)通過第一錐管螺紋卡套(9)與上蓋法蘭(2)連接。
6.根據權利要求1或2所述的用于CVD固態源的揮發裝置，其特征在于，所述的熱電阻(8)通過第二錐管螺紋卡套(15)與上蓋法蘭(2)連接。
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