[實用新型]一種陣列基板以及顯示面板有效
| 申請號: | 201720410306.3 | 申請日: | 2017-04-18 |
| 公開(公告)號: | CN206727070U | 公開(公告)日: | 2017-12-08 |
| 發明(設計)人: | 高冬子 | 申請(專利權)人: | 深圳市華星光電技術有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/12 | 分類號: | H01L27/12;G02F1/1362 |
| 代理公司: | 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙)44280 | 代理人: | 鐘子敏 |
| 地址: | 518006 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 陣列 以及 顯示 面板 | ||
1.一種陣列基板,其特征在于,包括:
基板;
第一金屬走線、第二金屬走線,設置于所述基板一側;
第一絕緣層,覆蓋所述第一金屬走線與所述第二金屬走線;
第三金屬走線,設置于所述第一絕緣層背對所述第一金屬走線、所述第二金屬走線一側;
其中,所述第三金屬走線的垂直投影覆蓋所述第一金屬走線與所述第二金屬走線中間隔斷的至少一部分。
2.如權利要求1所述的陣列基板,其特征在于,
所述第一金屬走線的兩端與所述第三金屬走線的兩端連接。
3.如權利要求1所述的陣列基板,其特征在于,
所述第一金屬走線的至少一部分不被所述第三金屬走線的所述垂直投影覆蓋,同時所述第三金屬走線的所述垂直投影覆蓋所述第一金屬走線與所述第二金屬走線中間隔斷的全部部分。
4.如權利要求3所述的陣列基板,其特征在于,
所述第一金屬走線沿寬度方向上的橫截面為梯形;
所述梯形上底的至少一部分不被所述第三金屬走線的所述垂直投影覆蓋。
5.如權利要求1至4任一項所述的陣列基板,其特征在于,
所述第一絕緣層覆蓋所述第一金屬走線或所述第二金屬走線的邊緣部分與所述中間隔斷的連續區域表面為緩坡形狀;
所述第三金屬走線覆蓋所述緩坡形狀的連續區域。
6.一種顯示面板,其特征在于,包括陣列基板,所述陣列基板包括:
基板;
第一金屬走線、第二金屬走線,設置于所述基板一側;
第一絕緣層,覆蓋所述第一金屬走線與所述第二金屬走線;
第三金屬走線,設置于所述第一絕緣層背對所述第一金屬走線、所述第二金屬走線一側;
其中,所述第三金屬走線的垂直投影覆蓋所述第一金屬走線與所述第二金屬走線中間隔斷的至少一部分。
7.如權利要求6所述的顯示面板,其特征在于,
所述第一金屬走線的兩端與所述第三金屬走線的兩端連接。
8.如權利要求6所述的顯示面板,其特征在于,
所述第一金屬走線的至少一部分不被所述第三金屬走線的所述垂直投影覆蓋,同時所述第三金屬走線的所述垂直投影覆蓋所述第一金屬走線與所述第二金屬走線中間隔斷的全部部分。
9.如權利要求8所述的顯示面板,其特征在于,
所述第一金屬走線沿寬度方向上的橫截面為梯形;
所述梯形上底的至少一部分不被所述第三金屬走線的所述垂直投影覆蓋。
10.如權利要求6至9任一項所述的顯示面板,其特征在于,
所述第一絕緣層覆蓋所述第一金屬走線或所述第二金屬走線的邊緣部分與所述中間隔斷的連續區域表面為緩坡形狀;
所述第三金屬走線覆蓋所述緩坡形狀的連續區域。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





