[實用新型]一種陣列基板以及顯示面板

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201720410306.3
• 申請日: 2017-04-18
• 公開（公告）號: CN206727070U
• 公開（公告）日: 2017-12-08
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 高冬子
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號: H01L27/12
• 分類號: H01L27/12;G02F1/1362
• 代理公司: 深圳市威世博知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)44280
• 代理人: 鐘子敏

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種陣列基板以及顯示面板。

背景技術(shù)

顯示面板的顯示信號都是通過設(shè)計在陣列基板上的外圍走線通到顯示區(qū)域的。

當(dāng)陣列基板上的金屬走線有多層時，如圖1所示，一般會設(shè)計成下層金屬走線10與上層金屬走線11邊緣完全重合。

本申請的發(fā)明人在長期的研究中發(fā)現(xiàn)，現(xiàn)有的這種陣列基板走線結(jié)構(gòu)，一方面由于角度的原因，上層金屬走線11在形成的時候會出現(xiàn)倒角14的狀況，導(dǎo)致后續(xù)的保護(hù)層無法正常覆蓋；另一方面，由于下層金屬走線10的存在，走線位置會存在一個段差13，在后續(xù)的光阻涂布時，光阻會堆積在段差13位置而變厚，容易導(dǎo)致過厚的光阻無法曝開，從而導(dǎo)致走線短路。

實用新型內(nèi)容

本實用新型主要解決的問題是提供一種陣列基板以及顯示面板，能夠有效改善金屬走線邊緣的角度以及走線位置的段差。

為解決上述問題，本實用新型采用的一個技術(shù)方案是：提供一種陣列基板，包括：

基板；

第一金屬走線、第二金屬走線，設(shè)置于所述基板一側(cè)；

第一絕緣層，覆蓋所述第一金屬走線與所述第二金屬走線；

第三金屬走線，設(shè)置于所述第一絕緣層背對所述第一金屬走線、所述第二金屬走線一側(cè)；

其中，所述第三金屬走線的垂直投影覆蓋所述第一金屬走線與所述第二金屬走線中間隔斷的至少一部分。

為解決上述問題，本實用新型采用的另一個技術(shù)方案是：提供一種顯示面板，包括陣列基板，所述陣列基板包括：

基板；

第一金屬走線、第二金屬走線，設(shè)置于所述基板一側(cè)；

第一絕緣層，覆蓋所述第一金屬走線與所述第二金屬走線；

第三金屬走線，設(shè)置于所述第一絕緣層背對所述第一金屬走線、所述第二金屬走線一側(cè)；

其中，所述第三金屬走線的垂直投影覆蓋所述第一金屬走線與所述第二金屬走線中間隔斷的至少一部分。

本實用新型的有益效果是：通過設(shè)置第三金屬走線的垂直投影覆蓋第一金屬走線與第二金屬走線中間隔斷的至少一部分，將第三金屬走線的至少一邊邊緣與第一金屬走線的邊緣錯開，能夠有效改善第三金屬走線的邊緣角度以及走線位置的段差。

附圖說明

圖1是現(xiàn)有技術(shù)中陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本實用新型陣列基板一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3是本實用新型陣列基板另一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4是本實用新型顯示面板一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

請參閱圖2，圖2是本實用新型陣列基板一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖，該陣列基板包括：基板20、第一金屬走線21、第二金屬走線22、第一絕緣層23以及第三金屬走線24。

基板20具有優(yōu)良的光學(xué)性能、較高的透明度和較低的反射率，可采用玻璃材料制成。

第一金屬走線21以及第二金屬走線22設(shè)置于基板20一側(cè)，可采用鋁、鈦、銅或其他導(dǎo)電的金屬材料制成，具體地，第一金屬走線21與第二金屬走線22采用同一層金屬材料形成，且第一金屬走線21與第二金屬走線22中間設(shè)有隔斷25。

第一絕緣層23覆蓋第一金屬走線21與第二金屬走線22，可由氮化硅或其他絕緣材料制成。

第三金屬走線24設(shè)置于第一絕緣層23背對第一金屬走線21與第二金屬走線22一側(cè)，且第三金屬走線24的垂直投影覆蓋第一金屬走線21與第二金屬走線22中間隔斷25的至少一部分。

具體地，所說的第三金屬走線24的垂直投影覆蓋隔斷25的至少一部分的方案，既可以是隔斷25的一部分被第三金屬走線24的垂直投影覆蓋，另一部分不被第三金屬走線24的垂直投影覆蓋，又可以是隔斷25的全部部分被第三金屬走線24的垂直投影覆蓋，下面以前者進(jìn)行說明。

請繼續(xù)參閱圖2，當(dāng)隔斷25的第一部分251被第三金屬走線24的垂直投影覆蓋，而第二部分252未被覆蓋時，第一部分251對應(yīng)的段差26比現(xiàn)有結(jié)構(gòu)中陣列基板走線位置的段差，即未被覆蓋的第二部分252對應(yīng)的段差27明顯減小，從而在后續(xù)制程中，堆積在段差26處的光阻沒有堆積在段差27處的光阻厚，能夠降低因堆積過厚光阻無法被曝開的幾率，且此時由于第三金屬走線24的一邊邊緣241與第一金屬走線21的邊緣不再重合，能夠避免倒角的出現(xiàn)，有效改善走線邊緣的角度，保證后續(xù)保護(hù)層的良好覆蓋。