[實用新型]平面異物檢知量測裝置及曝光機

有效

• 申請號: 201720400568.1
• 申請日: 2017-04-17
• 公開（公告）號: CN207051663U
• 公開（公告）日: 2018-02-27
• 發明（設計）人: 席中仙
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電技術有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G01B11/06
• 代理公司: 北京聿宏知識產權代理有限公司11372
• 代理人: 吳大建,王浩

技術領域

本實用新型涉及基板檢測技術領域，特別地涉及一種平面異物檢知量測裝置及曝光機。

背景技術

接近式彩膜曝光機主要負責進行玻璃基板彩色光刻膠(即光阻)涂布預烘后的曝光，曝光后的玻璃基板才能在顯影、烘烤后形成特定的圖樣格式。在此過程中，待曝光的涂布玻璃基板92(Work Glass)與曝光光罩91(Mask)的距離93 (Gap)為100～400微米(如圖1所示)。由于涂布玻璃基板經歷流程較多，而且在初步固化過程中會有升華物等異物(Particle)脫落掉在涂布玻璃基板的表面。當異物的高度大于涂布玻璃基板與曝光光罩之間的距離時，在曝光過程中異物會與曝光光罩發生接觸導致劃傷曝光光罩。當前的接近式曝光機在曝光前都會有異物檢知裝置，來檢測異物的大小，當檢知到的異物高度值大于上述的距離時，會報警判涂布玻璃基板為非工作狀態，不進入曝光程序。

現有的接近式曝光機的異物檢出方式是通過LED光源94和線傳感器相機95 (如圖2和3所示)進行拍攝并將閾值參數還原，從而檢出異物。但是上述現有異物檢出方法存在以下的缺陷：檢出效率低，受光線強度影響大，因此容易發生誤檢造成損失，耽誤正常生產進度。

實用新型內容

本實用新型提供一種平面異物檢知量測裝置及曝光機，用于解決現有技術中存在的檢出效率低、容易發生誤檢的技術問題。

本實用新型提供一種平面異物檢知量測裝置，包括操作臺和信號發射接收裝置，所述信號發射接收裝置滑動的設置于所述操作臺的側邊，所述操作臺用于放置基板，所述信號發射接收裝置用于量測所述基板上的異物；

所述信號發射接收裝置包括信號發射器和信號接收器，所述信號發射器和所述信號接收器分別設置于操作臺相對的兩側；

所述信號接收器上設置有用于接收和顯示所述信號發射器發射的信號信號接收部。

在一個實施方式中，所述信號接收部為沿垂直于所述操作臺方向延伸的凹槽和設置在所述凹槽上的傳感器。

在一個實施方式中，所述信號接收部的最低點低于基板的上表面。

在一個實施方式中，所述信號接收器上設置有用于將所述傳感器接收到的信號傳遞到中央處理器的數據傳輸接口。

在一個實施方式中，所述信號接收部上設置有刻度層，所述刻度層的零刻線與基板的上表面齊平。

在一個實施方式中，所述信號接收器上設置有測量單元，所述測量單元與中央處理器信號連接，所述測量單元用于測量所述信號接收部上顯示的高度信息并傳送到所述中央處理器。

在一個實施方式中，包括至少兩個所述發射接收裝置，且所述信號發射接收裝置分別沿所述操作臺的長邊方向和所述操作臺的短邊方向設置。

在一個實施方式中，還包括動力單元，所述動力單元與所述信號發射接收裝置相連。

在一個實施方式中，所述動力單元包括電機和導軌機構，所述導軌機構上設置有滑塊，所述電機與所述滑塊傳動連接；所述信號發射接收裝置固定于所述滑塊上。

在一個實施方式中，所述信號發射器為激光發射器，所述信號接收器為激光接收器。

本實用新型還提供一種曝光機，包括上述的平面異物檢知量測裝置。

與現有技術相比，本實用新型的優點在于：

(1)通過信號發射器能夠向信號接收器中發射信號，當基板上有異物時，會將遮擋一部分由信號發射器中發出的信號，從而使信號接收部上部分區域內沒有相應的信號，該沒有信號的區域的高度即為基板上異物的高度，因此能夠方便的監測出異物的高度值；與此同時，通過移動信號發射接收裝置，即可量測平行于移動方向的高度的集合，即可獲得該方向上的截面的大小。

(2)通過設置兩個以上的信號發射接收裝置，能夠分別量測沿基板的長邊方向和短邊方向上將基板上異物進行準確的定位，從而方便后續的清潔操作。

(3)通過信號發射接收裝置來檢知和量測基板上的異物，其效率高、不會受到光照等條件的限制，避免了傳統量測方式中受到光線強度的限制而造成的效率低以及出現誤檢而帶來的損失。

附圖說明

在下文中將基于實施例并參考附圖來對本實用新型進行更詳細的描述。

圖1是現有技術中曝光光罩的結構示意圖；

圖2是現有技術中量測裝置的俯視圖；

圖3是現有技術中量測裝置的左視圖；

圖4是本實用新型的一個實施例中平面異物檢知量測裝置的立體結構示意圖；

圖5是本實用新型的一個實施例中信號接收器的立體結構示意圖；