[實用新型]平面異物檢知量測裝置及曝光機有效
| 申請號： | 201720400568.1 | 申請日： | 2017-04-17 |
| 公開（公告）號： | CN207051663U | 公開（公告）日： | 2018-02-27 |
| 發明（設計）人： | 席中仙 | 申請（專利權）人： | 武漢華星光電技術有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;G01B11/06 |
| 代理公司： | 北京聿宏知識產權代理有限公司11372 | 代理人： | 吳大建,王浩 |
| 地址： | 430070 湖北省武漢市*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 平面 異物 檢知量測 裝置 曝光 | ||
1.一種平面異物檢知量測裝置，其特征在于，包括操作臺(1)和信號發射接收裝置(2)，所述信號發射接收裝置(2)滑動的設置于所述操作臺(1)的側邊，所述操作臺(1)用于放置基板，所述信號發射接收裝置(2)用于量測所述基板上的異物；
所述信號發射接收裝置(2)包括信號發射器(3)和信號接收器(4)，所述信號發射器(3)和所述信號接收器(4)分別設置于操作臺(1)相對的兩側；
所述信號接收器(4)上設置有用于接收和顯示所述信號發射器(3)發射的信號的信號接收部(41)。
2.根據權利要求1所述的平面異物檢知量測裝置，其特征在于，所述信號接收部(41)為沿垂直于所述操作臺(1)的方向延伸的凹槽和設置在所述凹槽上的傳感器。
3.根據權利要求2所述的平面異物檢知量測裝置，其特征在于，所述信號接收部(41)的最低點低于基板的上表面。
4.根據權利要求3所述的平面異物檢知量測裝置，其特征在于，所述信號接收器(4)上設置有用于將所述傳感器接收到的信號傳遞到中央處理器的數據傳輸接口。
5.根據權利要求2所述的平面異物檢知量測裝置，其特征在于，所述凹槽上設置有刻度層，所述刻度層的零刻線與基板的上表面齊平。
6.根據權利要求1-5中任意一項所述的平面異物檢知量測裝置，其特征在于，包括至少兩個所述發射接收裝置(2)，且所述信號發射接收裝置(2)分別沿所述操作臺(1)的長邊方向和所述操作臺(1)的短邊方向設置。
7.根據權利要求1-5中任意一項所述的平面異物檢知量測裝置，其特征在于，還包括動力單元(5)，所述動力單元(5)與所述信號發射接收裝置(2)相連。
8.根據權利要求7所述的平面異物檢知量測裝置，其特征在于，所述動力單元(5)包括電機(51)和導軌機構(52)，所述導軌機構(52)上設置有滑塊(53)，所述電機(51)與所述滑塊(53)傳動連接；
所述信號發射接收裝置(2)固定于所述滑塊(53)上。
9.根據權利要求1-5中任意一項所述的平面異物檢知量測裝置，其特征在于，所述信號發射器(3)為激光發射器，所述信號接收器(4)為激光接收器。
10.一種曝光機，其特征在于，包括權利要求1-9中任意一項所述的平面異物檢知量測裝置。
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