[實用新型]襯底

有效

• 申請號: 201720388304.9
• 申請日: 2017-04-11
• 公開（公告）號: CN206804195U
• 公開（公告）日: 2017-12-26
• 發明（設計）人: 唐永炳;石磊;蔣春磊
• 申請（專利權）人: 深圳先進技術研究院
• 主分類號: G01L5/00
• 分類號: G01L5/00
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司44202
• 代理人: 郝傳鑫,熊永強

技術領域

本實用新型涉及應力測試領域的技術方案，特別涉及一種襯底。

背景技術

薄膜材料廣泛應用于微電子、半導體、光伏能源、航空航天、汽車、機械加工等諸多領域，其重要性日益凸顯；國務院《“十二五”國家戰略性新興產業發展規劃》明確提出，要對“信息技術、高端裝備制造、新能源、新材料、新能源汽車”等重點領域進行優先部署和重點突破(國發〔2012〕28號)；而大多數重點發展領域都與薄膜材料技術息息相關，因此，大力開展薄膜材料的相關研究，對促進國家重點產業的發展具有十分重要的意義。

薄膜材料的界面結合強度和抗熱疲勞性能與薄膜應力密切相關；超硬耐磨涂層材料往往具有很強的共價鍵特性，采用化學氣相沉積或物理氣相沉積工藝制備的薄膜一般存在幾個GPa，甚至高達十幾GPa的殘余應力，嚴重時會導致薄膜剝落，影響其使用性能；因此在薄膜開發制備時要對其應力進行測試，反饋予薄膜開發制備過程以得到所需應力的薄膜材料。

目前主要的應力測試儀普遍采用光杠桿原理測試，測試原理是通過收集激光在薄膜表面運動，以及薄膜反射出的激光在接收器上位置的變化，來測量薄膜沉積前后基片曲率的變化，然后應用Stoney公式來計算薄膜應力。

但是現有使用光杠桿法測試薄膜應力的方法，均需要薄膜表面足夠光滑以能反射足夠強度的光束，對于那些表面不夠光滑的薄膜，如CVD法制備的金剛石薄膜，或者為了保證結合力襯底不能制備得足夠光滑，導致薄膜表面不反光等，均無法使用光杠桿法測試薄膜應力。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種襯底，以解決現有技術必須薄膜實現反光才能測量薄膜應力的問題。

為了解決上述技術問題，本實用新型提供了一種襯底，所述襯底包括相對布置的測量面和鍍膜面，所述測量面為拋光面。

其中，所述襯底的厚度為0.1～1mm。

其中，所述測量面為化學拋光處理形成的拋光面。

其中，所述測量面的粗糙度小于0.04μm。

其中，所述鍍膜面為經過鍍膜預處理的鍍膜面。

本實用新型的有益效果如下：

由于所述襯底包括相對布置的測量面和鍍膜面，所述測量面為拋光面，所以可采用光杠桿法對所述襯底的測量面進行曲率半徑測量，得出R'₀(鍍薄膜前)和R'(鍍薄膜后)，最后代入薄膜應力計算公式便可得出薄膜應力σ，此方法對薄膜的反光能力并無要求，只要保證襯底的測量面為拋光面，便可應用光桿杠法得出薄膜應力σ，解決現有技術必須薄膜實現反光才能測量薄膜應力的問題。

附圖說明

為了更清楚地說明本實用新型的技術方案，下面將對實施方式中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施方式，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1是本實用新型優選實施方式提供的測量原理示意圖；

圖2是本實用新型優選實施方式提供的襯底結構示意圖。

附圖標記如下：

1、襯底；11、測量面；12、鍍膜面。

具體實施方式

下面將結合本實用新型實施方式中的附圖，對本實用新型實施方式中的技術方案進行清楚、完整地描述。

從圖1和2可知，本實用新型實施方式所述襯底1包括相對布置的測量面11和鍍膜面12，所述測量面11為拋光面。

當應用所述襯底測試薄膜應力時，可以包括以下步驟：

步驟A、采用光杠桿法對所述襯底1的測量面11進行曲率半徑測量，得出R'₀；

步驟B、在所述襯底1的鍍膜面12鍍上薄膜，然后采用光杠桿法對所述襯底1的測量面11進行曲率半徑測量，得出R'；

步驟C、將測得數據代入公式進行計算，以得出薄膜應力σ；

其中，E_s為所述襯底1的彈性模量，V_s為所述襯底1的泊松比，H_s為所述襯底1的厚度，f為所述薄膜的厚度，所述R₀＝-(R'₀-H_s)，所述R＝-(R'-H_s)。

綜上可知，此方法對薄膜的反光能力并無要求，只要襯底1的測量面11為拋光面，便可應用光桿杠法得出薄膜應力σ，解決現有技術必須薄膜實現反光才能測量薄膜應力的問題。