[實用新型]一種狹縫式鍍膜設備

有效

• 申請號: 201720340244.3
• 申請日: 2017-03-31
• 公開（公告）號: CN206828628U
• 公開（公告）日: 2018-01-02
• 發明（設計）人: 馬曉亮
• 申請（專利權）人: 江門億都半導體有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 廣州嘉權專利商標事務所有限公司44205
• 代理人: 梁嘉琦

1.一種狹縫式鍍膜設備，其特征在于：包括真空腔（1），所述真空腔內設置有等待鍍膜的基片（2）和濺射裝置（3），所述濺射裝置（3）包括兩個或以上的磁鐵（31）和極板（32），所述磁鐵（31）的一側固定于極板（32）上，另一側連接一背板（33），所述背板（33）上設置有一靶層（34），所述基片（2）與靶層（34）正對設置，所述基片（2）與靶層（34）之間設置有濺射通過板（4），所述濺射通過板（4）中心設置有供靶層（34）上的靶原子通過的狹縫（41），所述狹縫（41）包括沿磁體排列方向設置于狹縫（41）兩端的高磁通量開口（42）和設置于狹縫（41）中部的低磁通量開口（43），所述高磁通量開口（42）的開口面積比低磁通量開口（43）大。

2.根據權利要求1所述的一種狹縫式鍍膜設備，其特征在于：所述狹縫（41）的長度為1400mm，所述高磁通量開口（42）的寬度為101mm，低磁通量開口（43）的寬度為76mm至97mm。

3.根據權利要求1所述的一種狹縫式鍍膜設備，其特征在于：所述基片（2）連接地，所述極板（32）連接直流電源的負極。

4.根據權利要求1所述的一種狹縫式鍍膜設備，其特征在于：還包括真空泵（5），所述真空泵（5）與真空腔（1）連接。

5.根據權利要求1或4所述的一種狹縫式鍍膜設備，其特征在于：還包括一工作氣體供應裝置（6），所述工作氣體供應裝置（6）與真空腔（1）連接。

6.根據權利要求1所述的一種狹縫式鍍膜設備，其特征在于：所述極板（32）為鐵板，所述背板（33）為銅背板。

7.根據權利要求1所述的一種狹縫式鍍膜設備，其特征在于：相鄰磁鐵（31）之間的極性相反。