[實用新型]一種降低LCD低盒厚產(chǎn)品不良率的雙旋轉(zhuǎn)陰極鍍膜系統(tǒng)

有效

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• 申請日: 2017-03-31
• 公開（公告）號: CN207193383U
• 公開（公告）日: 2018-04-06
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 馬曉亮
• 申請（專利權(quán)）人: 江門億都半導(dǎo)體有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 廣州嘉權(quán)專利商標事務(wù)所有限公司44205
• 代理人: 梁嘉琦

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及一種濺射鍍膜裝置，特別是一種降低LCD低盒厚產(chǎn)品不良率的雙旋轉(zhuǎn)陰極鍍膜系統(tǒng)。

背景技術(shù)

在LCD設(shè)備生產(chǎn)過程中，鍍膜是其中一項關(guān)鍵的工序，如圖1所示，現(xiàn)有的濺射鍍膜裝置中，平面靶材安裝在孿生平面陰極矩形管腔上，管腔內(nèi)底板001上安裝有永久磁鐵002，磁鐵產(chǎn)生磁力線覆蓋著整個靶面003寬度，從靶表面釋放的電子受到洛倫磁力的作用，向與磁場和電場正交的方向飛行。電子會在陰極上沿著螺旋線運動，就像在一條跑道上一樣，靶材前面電場與磁場近乎正交，洛倫磁力最大，會形成離子云。靶的刻蝕主要發(fā)生在離子云下，隨著刻蝕的進行，逐漸在靶的表面刻蝕出一個環(huán)形跑道，到了靶的使有后期靶表面的非刻蝕區(qū)域電荷容易聚積，到一定量會產(chǎn)生放電打弧，另外靶的濺射槽內(nèi)由于不規(guī)則的刻蝕所造成的峰值放電也會產(chǎn)生打弧，形成打弧坑，當(dāng)打弧坑的高度大于低厚盒產(chǎn)品高度時，會造成LCD產(chǎn)品的短路不良。

實用新型內(nèi)容

為解決上述問題，本實用新型的目的在于提供一種能有效避免在靶上產(chǎn)生放電打弧、降低LCD低盒厚產(chǎn)品不良率的雙旋轉(zhuǎn)陰極鍍膜系統(tǒng)。

本實用新型解決其問題所采用的技術(shù)方案是：

一種降低LCD低盒厚產(chǎn)品不良率的雙旋轉(zhuǎn)陰極鍍膜系統(tǒng)，包括濺射腔，所述濺射腔內(nèi)設(shè)置有承載待鍍膜LCD玻璃的載板和兩套旋轉(zhuǎn)濺射裝置，所述旋轉(zhuǎn)濺射裝置包括環(huán)形靶柱和帶動環(huán)形靶柱旋轉(zhuǎn)的傳動裝置，所述環(huán)形靶柱內(nèi)固定有兩個以上的磁鋼，相鄰磁鋼面向環(huán)形靶柱的極性相反，所述環(huán)形靶柱內(nèi)還設(shè)置有端部固定塊，所述磁鋼固定于端部固定塊中，所述端部固定塊與環(huán)形靶柱之間設(shè)置有軸承，所述環(huán)形靶柱圍繞磁鋼轉(zhuǎn)動，所述端部固定塊與環(huán)形靶柱之間構(gòu)成一密閉的注水腔，還包括一水循環(huán)裝置，所述注水腔通過水循環(huán)管道與水循環(huán)裝置連接。

本發(fā)明一種降低LCD低盒厚產(chǎn)品不良率的雙旋轉(zhuǎn)陰極鍍膜系統(tǒng)，通過在磁鋼外設(shè)置有圍繞其不斷轉(zhuǎn)動的環(huán)形靶柱，因此在濺射時不會在靶的某個固定位置產(chǎn)生刻蝕，能均勻利用靶柱，避免由于不規(guī)則刻蝕所造成的峰值放電而讓膜層出現(xiàn)打弧坑的現(xiàn)象，有效降低LCD低盒厚產(chǎn)品的不良率；另外，由于在濺射過程中會產(chǎn)生高溫，本發(fā)明通過在環(huán)形靶柱中的注水腔注入來自水循環(huán)裝置的循環(huán)水，能不斷為環(huán)形靶柱降溫，提高系統(tǒng)的穩(wěn)定性和耐用性。

具體地，所述傳動裝置包括用于帶動環(huán)形靶柱轉(zhuǎn)動的旋轉(zhuǎn)塊和電機，所述電機通過齒輪組件帶動旋轉(zhuǎn)塊轉(zhuǎn)動。從而帶動環(huán)形靶柱不斷圍繞磁鋼轉(zhuǎn)動。

進一步，所述旋轉(zhuǎn)塊設(shè)置于一冷卻腔體內(nèi)，所述冷卻腔體通過水循環(huán)管道與水循環(huán)裝置連接。通過在冷卻腔體注入來自水循環(huán)裝置的循環(huán)水，能對不斷旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生高溫的旋轉(zhuǎn)塊進行冷卻，提高系統(tǒng)的可靠性。

具體地，所述環(huán)形靶柱內(nèi)設(shè)置有3個磁鋼。

進一步，所述環(huán)形靶柱整體由氧化硅組成。

附圖說明

下面結(jié)合附圖和實例對本實用新型作進一步說明。

圖1為現(xiàn)有技術(shù)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本實用新型雙旋轉(zhuǎn)陰極鍍膜系統(tǒng)的俯視圖；

圖3是本實用新型雙旋轉(zhuǎn)陰極鍍膜系統(tǒng)的剖視圖。

具體實施方式

參照圖2至圖3所示，本實用新型的一種降低LCD低盒厚產(chǎn)品不良率的雙旋轉(zhuǎn)陰極鍍膜系統(tǒng)，包括濺射腔，所述濺射腔內(nèi)設(shè)置有承載待鍍膜LCD玻璃的載板1和兩套旋轉(zhuǎn)濺射裝置2，所述旋轉(zhuǎn)濺射裝置 2包括環(huán)形靶柱21和帶動環(huán)形靶柱21旋轉(zhuǎn)的傳動裝置，所述環(huán)形靶柱21內(nèi)固定有三個磁鋼22，相鄰磁鋼22面向環(huán)形靶柱21的極性相反，所述環(huán)形靶柱21內(nèi)還設(shè)置有端部固定塊23，所述磁鋼22固定于端部固定塊23中，所述端部固定塊23與環(huán)形靶柱21之間設(shè)置有軸承，所述環(huán)形靶柱21圍繞磁鋼22轉(zhuǎn)動，所述端部固定塊23與環(huán)形靶柱21之間構(gòu)成一密閉的注水腔24，還包括一水循環(huán)裝置3，所述注水腔24通過水循環(huán)管道與水循環(huán)裝置3連接。

本發(fā)明一種降低LCD低盒厚產(chǎn)品不良率的雙旋轉(zhuǎn)陰極鍍膜系統(tǒng)，通過在磁鋼22外設(shè)置有圍繞其不斷轉(zhuǎn)動的環(huán)形靶柱21，因此在濺射時不會在靶的某個固定位置產(chǎn)生刻蝕，能均勻利用靶柱，避免由于不規(guī)則刻蝕所造成的峰值放電而讓膜層出現(xiàn)打弧坑的現(xiàn)象，有效降低 LCD低盒厚產(chǎn)品的不良率；另外，由于在濺射過程中會產(chǎn)生高溫，本發(fā)明通過在環(huán)形靶柱21中的注水腔24注入來自水循環(huán)裝置3的循環(huán)水，能不斷為環(huán)形靶柱21降溫，提高系統(tǒng)的穩(wěn)定性和耐用性。