[實用新型]單晶爐及其副室

有效

• 申請號: 201720322216.9
• 申請日: 2017-03-29
• 公開（公告）號: CN206635452U
• 公開（公告）日: 2017-11-14
• 發明（設計）人: 沈浩鋒;周杰;周林偉;朱偉忠;陳騮
• 申請（專利權）人: 天通吉成機器技術有限公司
• 主分類號: C30B15/00
• 分類號: C30B15/00;C30B29/06
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司11227
• 代理人: 李海建

技術領域

本實用新型涉及單晶生長技術領域，特別涉及一種單晶爐的副室，還涉及一種應用該副室的單晶爐。

背景技術

單晶爐是一種在惰性氣體環境中，用石墨加熱器將多晶硅等多晶材料熔化，用直拉法生長無錯位單晶的設備。

現有的單晶爐主要包括機架、主爐室、副室、副室提升機構、閥體、爐蓋和晶體提拉機構。副室為圓筒狀結構，副室連接于主爐室的爐蓋上，閥體設置于副室和爐蓋之間；晶體提拉機構穿過副室進入主爐室中，對仔晶進行提拉生成晶棒，晶棒完成后，提拉至副室中；副室提升機構能夠將副室提升，使副室抬高離開主爐室，此時晶棒下端露出副室底部，通過夾持機構夾持晶棒下端，取出晶體。

單晶爐在進行晶體生產時，晶棒長度越長生產效率越高，而單晶爐的高度越高，晶棒的生長長度越長，但是，因工廠高度受到限制，導致副室不能提升至要求高度，副室底部離主爐室的高度過低，使長晶棒無法從副室中取出，從而限制了晶棒的生產長度。

綜上所述，如何解決因場地高度限制導致長晶棒無法從副室中取出的問題，成為了本領域技術人員亟待解決的問題。

實用新型內容

有鑒于此，本實用新型的目的在于提供一種單晶爐的副室，在場地高度一定的情況下，以使長晶棒能夠從副室中取出，增加長晶棒的生產長度，提高晶棒生產效率。

本實用新型的另一個目的在于提供一種應用該副室的單晶爐，以在相同場地高度的情況下，增加晶棒的生產長度，提高晶棒的生產效率。

為達到上述目的，本實用新型提供以下技術方案：

一種單晶爐的副室，所述副室為伸縮式結構。

優選地，在上述的副室中，所述副室包括：

剛性副室；

可軸向變形抗壓副室，與所述剛性副室連接，用于軸向變形伸縮；

第一副室伸縮機構，所述第一副室伸縮機構的升降兩端分別連接在所述可軸向變形抗壓副室的兩端。

優選地，在上述的副室中，所述可軸向變形抗壓副室為伸縮波紋管。

優選地，在上述的副室中，所述可軸向變形抗壓副室設置于所述剛性副室的一端或兩端或中間位置。

優選地，在上述的副室中，所述第一副室伸縮機構包括：

電機，設置于所述可軸向變形抗壓副室的一端；

絲桿，與所述電機的輸出端傳動連接；

螺紋套，設置于所述可軸向變形抗壓副室的另一端，且與所述絲桿螺紋配合連接。

優選地，在上述的副室中，所述第一副室伸縮機構還包括減速機，所述絲杠通過所述減速機與所述電機的輸出端傳動連接。

優選地，在上述的副室中，所述副室包括：

至少兩個可相對軸向移動套接的剛性副室；

第二副室伸縮機構，所述第二副室伸縮機構的升降兩端分別連接所述副室的兩端。

本實用新型還提供了一種單晶爐，包括副室、主爐室、提拉頭和豎直機架，其特征在于，所述副室為以上任一項所述的副室，所述副室的底端連接于所述主爐室的爐蓋上，所述副室的頂端與所述提拉頭連接。

優選地，在上述的單晶爐中，所述副室的可軸向變形抗壓副室的兩端分別與所述剛性副室和所述提拉頭連接，所述副室的第一副室伸縮機構的升降兩端分別連接于所述提拉頭和所述剛性副室上。

優選地，在上述的單晶爐中，所述提拉頭通過轉動支架水平轉動連接于豎直機架上。

與現有技術相比，本實用新型的有益效果是：

本實用新型提供的單晶爐的副室中，副室為伸縮式結構，因此，在工廠廠房高度和單晶爐整體高度一定的情況下，副室可以通過由下向上收縮，使副室遠離主爐室，副室與主爐室之間的距離可以滿足使用要求，將長晶棒的下端露出副室的底端，從而將長晶棒從副室中取出。可見該副室能夠在廠房高度一定的情況下，增加晶棒的生產長度，提高了晶棒的生產效率。

本實用新型提供的單晶爐應用了本申請中的副室，因此，在相同場地高度的情況下，增加了晶棒的生產長度，提高晶棒的生產效率。

附圖說明

為了更清楚地說明本實用新型實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據提供的附圖獲得其他的附圖。

圖1為本實用新型實施例提供的一種單晶爐的副室的結構示意圖；

圖2為本實用新型實施例提供的一種單晶爐的結構示意圖。