[實(shí)用新型]一種納米金屬薄膜制備箱有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201720321909.6 | 申請(qǐng)日: | 2017-03-30 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN206607307U | 公開(kāi)(公告)日: | 2017-11-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張忠帆 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 張忠帆 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C14/32 | 分類(lèi)號(hào): | C23C14/32 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 450007 河南省鄭*** | 國(guó)省代碼: | 河南;41 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 納米 金屬 薄膜 制備 | ||
1.一種納米金屬薄膜制備箱,包括納米金屬薄膜制備箱主體(1),其特征在于:所述納米金屬薄膜制備箱主體(1)內(nèi)設(shè)有電離室(2)、制備室(3)和冷卻室(4),所述電離室(2)、所述制備室(3)和所述冷卻室(4)在所述納米金屬薄膜制備箱主體(1)內(nèi)從上到下依次設(shè)置,所述電離室(2)內(nèi)設(shè)有陽(yáng)極壁(5),所述陽(yáng)極壁(5)內(nèi)設(shè)有陰極板(6),所述電離室(2)底部對(duì)應(yīng)所述陰極板(6)的位置上設(shè)有噴射口(7),所述噴射口(7)貫穿所述陽(yáng)極壁(5),所述納米金屬薄膜制備箱主體(1)外側(cè)頂部對(duì)應(yīng)所述陽(yáng)極壁(5)和所述陰極板(6)之間的位置上設(shè)有進(jìn)氣口(8),所述納米金屬薄膜制備箱主體(1)外側(cè)對(duì)應(yīng)所述冷卻室(4)的位置上設(shè)有進(jìn)液口(9)和出液口(10),所述冷卻室(4)內(nèi)部設(shè)有冷卻管道(11),所述冷卻管道(11)的兩端分別與所述進(jìn)液口(9)和所述出液口(10)連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種納米金屬薄膜制備箱,其特征在于:所述制備室(3)內(nèi)設(shè)有基片(12),所述基片(12)設(shè)置在所述制備室(3)底部對(duì)應(yīng)所述噴射口(7)的位置上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種納米金屬薄膜制備箱,其特征在于:所述納米金屬薄膜制備箱主體(1)外側(cè)對(duì)應(yīng)所述制備室(3)的位置上設(shè)有箱門(mén)(13),所述箱門(mén)(13)的一側(cè)與所述納米金屬薄膜制備箱主體(1)鉸接。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種納米金屬薄膜制備箱,其特征在于:所述箱門(mén)(13)上設(shè)有鎖定裝置(14)和把手(15),所述鎖定裝置(14)設(shè)置在所述把手(15)的上方。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種納米金屬薄膜制備箱,其特征在于:所述箱門(mén)(13)上設(shè)有觀察窗(16),所述觀察窗(16)設(shè)置為矩形結(jié)構(gòu)。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





