[實(shí)用新型]一種單晶爐真空管道清理裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201720319930.2 | 申請(qǐng)日: | 2017-03-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN207161975U | 公開(公告)日: | 2018-03-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 周杰;沈浩鋒;周林偉;朱偉忠;王謨 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 天通吉成機(jī)器技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | F16L55/24 | 分類號(hào): | F16L55/24;C30B15/00 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11227 | 代理人: | 李海建 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 單晶爐 真空 管道 清理 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及單晶生長(zhǎng)技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種單晶爐真空管道清理裝置。
背景技術(shù)
單晶爐是一種在惰性氣體環(huán)境中,用石墨加熱器將多晶硅等多晶材料熔化,用直拉法生長(zhǎng)無錯(cuò)位單晶的設(shè)備。
現(xiàn)有的單晶爐主要包括主爐室、副室、晶體提拉機(jī)構(gòu)、抽真空裝置、充惰性氣體裝置等。在向單晶爐中裝入物料后,需要對(duì)單晶爐進(jìn)行抽真空,之后再充入惰性氣體。抽真空通過抽真空裝置進(jìn)行,抽真空裝置主要包括真空管道和真空泵,真空管道連接真空泵和單晶爐。在長(zhǎng)晶過程中,產(chǎn)生的SiOx會(huì)吸附在真空管道內(nèi)壁上,長(zhǎng)時(shí)間會(huì)堵塞真空管道,影響長(zhǎng)晶。
綜上所說,如何解決真空管道被SiOx堵塞的問題,成為了本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的問題。
實(shí)用新型內(nèi)容
有鑒于此,本實(shí)用新型的目的在于提供一種單晶爐真空管道清理裝置,以對(duì)單晶爐的真空管道進(jìn)行清理,防止堵塞,保證長(zhǎng)晶正常進(jìn)行。
為達(dá)到上述目的,本實(shí)用新型提供以下技術(shù)方案:
一種單晶爐真空管道清理裝置,包括真空管道和真空泵,還包括:
與所述真空管道連通的供氣管道,用于向所述真空管道內(nèi)通入含氧氣體;
設(shè)置在所述供氣管道上的通斷閥。
優(yōu)選地,在上述的單晶爐真空管道清理裝置中,所述通斷閥為氣動(dòng)閥或電動(dòng)閥或手動(dòng)閥。
優(yōu)選地,在上述的單晶爐真空管道清理裝置中,還包括設(shè)置在所述供氣管道上的節(jié)流閥。
優(yōu)選地,在上述的單晶爐真空管道清理裝置中,還包括設(shè)置在所述供氣管道上的限流式墊片。
優(yōu)選地,在上述的單晶爐真空管道清理裝置中,所述供氣管道上沿靠近所述真空管道的方向依次設(shè)置所述限流式墊片、所述節(jié)流閥和所述通斷閥。
優(yōu)選地,在上述的單晶爐真空管道清理裝置中,所述含氧氣體為空氣、氧氣或含氧混合氣體。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型的有益效果是:
本實(shí)用新型提供的單晶爐真空管道清理裝置中,在真空管道上連通設(shè)置有供氣管道,用于向真空管道內(nèi)通入含氧氣體,供氣管道上設(shè)置通斷閥,控制供氣管道的通斷。工作時(shí),從長(zhǎng)晶加熱開始,打開供氣管道上的通斷閥,向真空管道中通入含氧氣體,使真空管道內(nèi)壁上附著的SiOx充分燃燒成粉末隨真空泵排出真空管道,防止真空管道堵塞,利于長(zhǎng)時(shí)間連續(xù)長(zhǎng)晶工作,從而提高了生產(chǎn)效率。
附圖說明
為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以根據(jù)提供的附圖獲得其他的附圖。
圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種單晶爐真空管道清理裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
其中,1為單晶爐、2為真空管道、3為真空泵、4為供氣管道、5為通斷閥、6為節(jié)流閥、7為限流式墊片。
具體實(shí)施方式
本實(shí)用新型的核心是提供了一種單晶爐真空管道清理裝置,能夠?qū)尉t的真空管道進(jìn)行清理,防止堵塞,保證長(zhǎng)晶正常進(jìn)行。
下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖,對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例。基于本實(shí)用新型中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
請(qǐng)參考圖1,本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種單晶爐真空管道清理裝置,包括真空管道2、真空泵3、供氣管道4和通斷閥5。其中,真空管道2與單晶爐1和真空泵3連接;供氣管道4與真空管道2連通,供氣管道4與供氣源連接,用于向真空管道2內(nèi)通入含氧氣體;通斷閥5設(shè)置在供氣管道4上,用于控制供氣管道4的通斷。
該單晶爐真空管道清理裝置的工作原理為:工作時(shí),從長(zhǎng)晶加熱開始,打開供氣管道4上的通斷閥5,向真空管道2中通入含氧氣體,使真空管道2內(nèi)壁上附著的SiOx充分燃燒成粉末隨真空泵3排出真空管道2,防止真空管道2堵塞,利于長(zhǎng)時(shí)間連續(xù)長(zhǎng)晶工作,從而提高了生產(chǎn)效率。
作為優(yōu)化,在本實(shí)施例中,通斷閥5為氣動(dòng)閥或電動(dòng)閥或手動(dòng)閥。只要能夠控制供氣管道4的通斷即可。并不局限于本實(shí)施例所列舉的類型。
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