[實用新型]一種三氧化硫制造設備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201720304476.3
• 申請日: 2017-03-27
• 公開（公告）號: CN207061872U
• 公開（公告）日: 2018-03-02
• 發(fā)明（設計）人: 王以元;郭豐梅;咸曦晨;李洪霞
• 申請（專利權）人: 摩田化學（昆山）有限公司
• 主分類號: C01B17/74
• 分類號: C01B17/74
• 代理公司: 上海宏京知識產權代理事務所(普通合伙)31297
• 代理人: 周高

技術領域

本實用新型涉及化工領域，具體涉及一種三氧化硫制造設備。

背景技術

在制造三氧化硫的時候最佳的催化劑為金屬鉑，由于金屬鉑價格昂貴常常使用五氧化二釩替代金屬鉑做催化劑。由于化學反應的速度是根據溫度的升高而速度加快的，而通常的生產過程中由于三氧化硫和二氧化硫的熱平衡，以及五氧化二釩的熱穩(wěn)定性，常常采取折中的方法進行氧化反應，這樣不能達到更好的反應速度。為更好的利用熱反應速率及合理控制熱平衡，因此如何開發(fā)出一種新型的三氧化硫制造設備，能夠更好的利用熱反應速率并合理控制熱平衡是本領域技術人員需要研究的方向。

實用新型內容

本實用新型提供了一種三氧化硫制造設備，用以解決現有技術中不能更好的利用熱反應速率及合理控制熱平衡的問題。

為實現上述目的，本實用新型采用的技術方案是：

一種三氧化硫制造設備，所述制造設備包括加壓裝置、合成塔、回收塔，所述加壓裝置連接合成塔的輸入端，所述合成塔的輸出端連接回收塔；所述加壓裝置將二氧化硫和氧氣送至所述合成塔進行合成，最后輸送至所述回收塔進行回收。其中：所述合成塔包括一級高溫合成機構、二級中溫合成機構、三級低溫合成機構；

所述一級高溫合成機構入口與所述加壓裝置相連接，所述一級高溫合成機構出口與所述二級中溫合成機構的入口相連接，所述一級高溫合成機構內設有氧化鐵高溫催化劑層，所述氧化鐵高溫催化劑層設置在所述一級高溫合成機構入口和所述一級高溫合成機構出口之間；

所述二級中溫合成機構出口與所述三級低溫合成機構的入口相連接，所述二級中溫合成機構內設有五氧化二釩中溫催化劑層，所述五氧化二釩中溫催化劑層設置在所述二級中溫合成機構入口和所述二級中溫合成機構出口之間；

所述三級低溫合成機構出口與所述回收塔相連接，所述三級低溫合成機構內設有五氧化二釩低溫催化劑層，所述五氧化二釩低溫催化劑層設置在所述三級低溫合成機構入口和所述三級低溫合成機構出口之間。

采用這種技術方案：通過在合成塔內依次設置一級高溫合成機構、二級中溫合成機構、三級低溫合成機構；使得二氧化碳和氧氣能夠順序在不同溫度下進行反應。從而解決了現有技術中不能更好的利用熱反應速率及合理控制熱平衡的問題。

優(yōu)選的是，所述一級高溫合成機構內的所述氧化鐵高溫催化劑層的工作溫度為700℃-800℃。

優(yōu)選的是，所述二級中溫合成機構內的所述五氧化二釩中溫催化劑層的工作溫度為600℃-700℃。

優(yōu)選的是，所述三級低溫合成機構內的所述五氧化二釩低溫催化劑層工作溫度為300℃-600℃。

更優(yōu)選的是，所述一級高溫合成機構、所述二級中溫合成機構、所述三級低溫合成機構均為罐裝結構的罐體，所述罐體外殼外層為金屬層，所述罐體外殼內層為耐火材料層。

進一步優(yōu)選的是，所述金屬層為碳鋼層，所述耐火材料層為鎂砂層。

更進一步優(yōu)選的是，所述加壓裝置為一耐熱鼓風機。

與現有技術相比，本實用新型結構簡單、易于制備。

本實用新型由于使用以上技術方案，使其具有的有益效果是：

相對于現有技術而言，本實用新型通過設置一級高溫合成機構、二級中溫合成機構、三級低溫合成機構相配合，在不同溫度下進行反應，從而解決了現有技術中不能更好的利用熱反應速率及合理控制熱平衡的問題。

附圖說明

圖1為本實用新型一種三氧化硫制造設備的結構示意圖。

具體實施方式

為了使實用新型實現的技術手段、創(chuàng)造特征、達成目的和功效易于明白了解，以下結合附圖，進一步闡述本實用新型。

本實用新型的一種三氧化硫制造設備，如圖1所示，制造設備包括由耐熱鼓風機構成加壓裝置1、合成塔、回收塔2，加壓裝置1將二氧化硫和氧氣送至合成塔進行合成，最后到回收塔2進行回收，合成塔包括一級高溫合成機構3、二級中溫合成機構4、三級低溫合成機構5。

一級高溫合成機構3為罐裝結構的罐體，罐體外殼外層為金屬層，罐體外殼內層為耐火材料層。金屬層為碳鋼層或由其他金屬構成，耐火材料層為鎂砂層或其他耐熱材料構成。一級高溫合成機構3入口與加壓裝置相連接，一級高溫合成機構3出口與二級中溫合成機構4的入口相連接，一級高溫合成機構3內設有氧化鐵高溫催化劑層6，氧化鐵高溫催化劑層6設置在一級高溫合成機構3入口和一級高溫合成機構3出口之間。氧化鐵高溫催化劑層工作溫度為700℃-800℃，較佳的工作溫度為750℃。