[實(shí)用新型]一種三氧化硫制造設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201720304476.3
• 申請(qǐng)日: 2017-03-27
• 公開（公告）號(hào): CN207061872U
• 公開（公告）日: 2018-03-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王以元;郭豐梅;咸曦晨;李洪霞
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 摩田化學(xué)（昆山）有限公司
• 主分類號(hào): C01B17/74
• 分類號(hào): C01B17/74
• 代理公司: 上海宏京知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)31297
• 代理人: 周高

1.一種三氧化硫制造設(shè)備，包括加壓裝置、合成塔、回收塔，所述加壓裝置連接所述合成塔輸入端，所述回收塔連接合成塔輸出端；

其特征在于：所述合成塔包括一級(jí)高溫合成機(jī)構(gòu)、二級(jí)中溫合成機(jī)構(gòu)、三級(jí)低溫合成機(jī)構(gòu)；

所述一級(jí)高溫合成機(jī)構(gòu)入口與所述加壓裝置相連接，所述一級(jí)高溫合成機(jī)構(gòu)出口與所述二級(jí)中溫合成機(jī)構(gòu)的入口相連接，所述一級(jí)高溫合成機(jī)構(gòu)內(nèi)設(shè)有氧化鐵高溫催化劑層，所述氧化鐵高溫催化劑層設(shè)置在所述一級(jí)高溫合成機(jī)構(gòu)入口和所述一級(jí)高溫合成機(jī)構(gòu)出口之間；

所述二級(jí)中溫合成機(jī)構(gòu)出口與所述三級(jí)低溫合成機(jī)構(gòu)的入口相連接，所述二級(jí)中溫合成機(jī)構(gòu)內(nèi)設(shè)有五氧化二釩中溫催化劑層，所述五氧化二釩中溫催化劑層設(shè)置在所述二級(jí)中溫合成機(jī)構(gòu)入口和所述二級(jí)中溫合成機(jī)構(gòu)出口之間；

所述三級(jí)低溫合成機(jī)構(gòu)出口與所述回收塔相連接，所述三級(jí)低溫合成機(jī)構(gòu)內(nèi)設(shè)有五氧化二釩低溫催化劑層，所述五氧化二釩低溫催化劑層設(shè)置在所述三級(jí)低溫合成機(jī)構(gòu)入口和所述三級(jí)低溫合成機(jī)構(gòu)出口之間。

2.如權(quán)利要求1所述三氧化硫制造設(shè)備，其特征在于：所述一級(jí)高溫合成機(jī)構(gòu)內(nèi)的所述氧化鐵高溫催化劑層的工作溫度為700℃-800℃。

3.如權(quán)利要求2所述三氧化硫制造設(shè)備，其特征在于：所述二級(jí)中溫合成機(jī)構(gòu)內(nèi)的所述五氧化二釩中溫催化劑層的工作溫度為600℃-700℃。

4.如權(quán)利要求3所述三氧化硫制造設(shè)備，其特征在于：所述三級(jí)低溫合成機(jī)構(gòu)內(nèi)的所述五氧化二釩低溫催化劑層工作溫度為300℃-600℃。

5.如權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述三氧化硫制造設(shè)備，其特征在于：所述一級(jí)高溫合成機(jī)構(gòu)、所述二級(jí)中溫合成機(jī)構(gòu)、所述三級(jí)低溫合成機(jī)構(gòu)均為罐裝結(jié)構(gòu)的罐體，所述罐體外殼外層為金屬層，所述罐體外殼內(nèi)層為耐火材料層。

6.如權(quán)利要求5所述三氧化硫制造設(shè)備，其特征在于：所述金屬層為碳鋼層，所述耐火材料層為鎂砂層。

7.如權(quán)利要求6所述三氧化硫制造設(shè)備，其特征在于：所述加壓裝置為一耐熱鼓風(fēng)機(jī)。