[實(shí)用新型]一種射流拋光自清洗裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201720298520.4
• 申請(qǐng)日: 2017-03-25
• 公開（公告）號(hào): CN206622989U
• 公開（公告）日: 2017-11-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 徐學(xué)鋒;郭團(tuán)輝;袁洋;李梓銘
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京林業(yè)大學(xué)
• 主分類號(hào): B24C3/02
• 分類號(hào): B24C3/02;B24C9/00;B08B3/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及拋光機(jī)技術(shù)領(lǐng)域，更具體的說，特別涉及一種射流拋光自清洗裝置。

背景技術(shù)

隨著現(xiàn)代光學(xué)、電子學(xué)、薄膜科學(xué)及航空航天等科學(xué)的飛速發(fā)展，光學(xué)元件及功能元件的形狀越來越復(fù)雜，表面質(zhì)量的要求也越來越苛刻，超光滑表面的應(yīng)用也越來越高。超光滑表面除了面形精度和表面粗糙度要求極高以外,還要求表面有完好的晶格結(jié)構(gòu)、無缺陷,能消除加工損傷層。1998年，荷蘭Delft大學(xué)的首先利用了FJP技術(shù)，并將其用在了光學(xué)元件的表面拋光上并獲得了1.6nm的表面粗糙度，顯示出FJP的超光滑表面加工能力。

實(shí)驗(yàn)表明，含有磨料顆粒的溶液射流對(duì)工件表面有去除而清水射流對(duì)工件表面無去除?，F(xiàn)有的射流拋光機(jī)在實(shí)驗(yàn)或者加工后沒有有效的清洗裝置和工藝技術(shù)。一般在射流停止后將工件取出的過程中會(huì)造成部分磨料顆粒沉積在工件上，后期需大量的清水沖洗，即使如此仍有少量的磨料顆粒沉積于表面，影響產(chǎn)品質(zhì)量。

發(fā)明內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的在于針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的技術(shù)問題，提供一種射流拋光自清洗裝置，有效地解決了實(shí)驗(yàn)后磨料顆粒沉積在工件上影響產(chǎn)品質(zhì)量的問題，而且裝置整體結(jié)構(gòu)簡單、成本低、清洗效果好且操作簡便。

為了解決以上提出的問題，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案為：

一種射流拋光自清洗裝置，包括溶液存儲(chǔ)罐、隔膜泵、收集箱、管路、磨料射流噴頭、去離子水噴頭、二位三通閥、清洗壓力泵和去離子水存儲(chǔ)罐；

所述溶液存儲(chǔ)罐內(nèi)盛放磨料射流溶液，收集箱設(shè)置在溶液存儲(chǔ)罐上方；工件設(shè)置在收集箱內(nèi)，并與收集箱的入口位置相對(duì)應(yīng)，所述收集箱的出口通過二位三通閥與溶液存儲(chǔ)罐連通；所述隔膜泵也與溶液存儲(chǔ)罐連通，并通過管路連接磨料射流噴頭；所述去離子水存儲(chǔ)罐內(nèi)盛放去離子水，所述清洗壓力泵與去離子水存儲(chǔ)罐連通，也通過管路連接去離子水噴頭；所述去離子水噴頭位于磨料射流噴頭一側(cè)，兩者分別噴射去離子水和磨料射流溶液并作用在工件上。

所述裝置還包括用于收集廢液的廢液存儲(chǔ)罐，其與二位三通閥的出口連接，并與去離子水存儲(chǔ)罐、溶液存儲(chǔ)罐并列放置。

所述裝置還包括控制器，其分別連接隔膜泵、清洗壓力泵和二位三通閥，用于控制隔膜泵和清洗壓力泵的開關(guān)、以及二位三通閥的開關(guān)的邏輯順序。

所述收集箱采用矩形透明盒PVC，其包括箱體和頂蓋，頂蓋安裝在箱體頂部；箱體內(nèi)側(cè)底部設(shè)置有安裝工件的固定臺(tái)7c，頂蓋中部加工有通孔作為入口7a，箱體側(cè)面底端一側(cè)加工有通孔作為出口7b，所述收集箱的出口7b通過二位三通閥與溶液存儲(chǔ)罐連通。

采用機(jī)架作為安裝載體，其內(nèi)側(cè)采用三層分布即上層、中層和下層，上層設(shè)置有磨料射流噴頭、去離子水噴頭、收集箱，中層設(shè)置有二位三通閥、控制器以及清洗壓力泵，下層設(shè)置溶液存儲(chǔ)罐；所述隔膜泵、去離子水存儲(chǔ)罐以及廢液存儲(chǔ)罐置于機(jī)架外側(cè)。

采用夾持裝置用于固定磨料射流噴頭和去離子水噴頭。

所述工件通過工件夾安裝在收集箱的固定臺(tái)7c上。

所述磨料射流噴頭位于收集箱入口的正上方。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果在于：

本實(shí)用新型中通過設(shè)置溶液存儲(chǔ)罐和去離子水存儲(chǔ)罐，并通過磨料射流噴頭和去離子水噴頭分別噴射磨料射流溶液和去離子水，作用在工件表面，這樣有效地解決了實(shí)驗(yàn)后磨料顆粒沉積在工件上影響產(chǎn)品質(zhì)量的技術(shù)問題，省去了后期沖洗時(shí)的繁瑣步驟，節(jié)約水源，而且裝置整體結(jié)構(gòu)簡單、成本低、清洗過程方便、效果好。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型射流拋光自清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為本實(shí)用新型收集箱的整體結(jié)構(gòu)示意圖。

圖3為本實(shí)用新型收集箱的局部結(jié)構(gòu)示意圖。

附圖標(biāo)記說明：1-機(jī)架、2-溶液存儲(chǔ)罐、3-隔膜泵、4-控制器、5-工件、6-工件夾、7-收集箱、7a-入口、7b-出口、7c-固定臺(tái)、8-磨料射流噴頭、9-夾持裝置、10-第二管路、11-第一管路、12-去離子水噴頭、13-二位三通閥、14-清洗壓力泵、15-廢液存儲(chǔ)罐、16-去離子水存儲(chǔ)罐

具體實(shí)施方式

為了便于理解本實(shí)用新型，下面將參照相關(guān)附圖對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行更全面的描述。附圖中給出了本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例。但是，本實(shí)用新型可以以許多不同的形式來實(shí)現(xiàn)，并不限于本文所描述的實(shí)施例。相反地，提供這些實(shí)施例的目的是使對(duì)本實(shí)用新型的公開內(nèi)容的理解更加透徹全面。