[實用新型]一種射流拋光自清洗裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201720298520.4
• 申請日: 2017-03-25
• 公開（公告）號: CN206622989U
• 公開（公告）日: 2017-11-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 徐學(xué)鋒;郭團輝;袁洋;李梓銘
• 申請（專利權(quán)）人: 北京林業(yè)大學(xué)
• 主分類號: B24C3/02
• 分類號: B24C3/02;B24C9/00;B08B3/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種射流拋光自清洗裝置，其特征在于：包括溶液存儲罐(2)、隔膜泵(3)、收集箱(7)、管路、磨料射流噴頭(8)、去離子水噴頭(12)、二位三通閥(13)、清洗壓力泵(14)和去離子水存儲罐(16)；

所述溶液存儲罐(2)內(nèi)盛放磨料射流溶液，收集箱(7)設(shè)置在溶液存儲罐(2)上方；工件(5)設(shè)置在收集箱(7)內(nèi)，并與收集箱(7)的入口位置相對應(yīng)，所述收集箱(7)的出口通過二位三通閥(13)與溶液存儲罐(2)連通；所述隔膜泵(3)也與溶液存儲罐(2)連通，并通過管路連接磨料射流噴頭(8)；所述去離子水存儲罐(16)內(nèi)盛放去離子水，所述清洗壓力泵(14)與去離子水存儲罐(16)連通，也通過管路連接去離子水噴頭(12)；所述去離子水噴頭(12)位于磨料射流噴頭(8)一側(cè)，兩者分別噴射去離子水和磨料射流溶液并作用在工件(5)上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的射流拋光自清洗裝置，其特征在于：所述裝置還包括用于收集廢液的廢液存儲罐(15)，其與二位三通閥(13)的出口連接，并與去離子水存儲罐(16)、溶液存儲罐(2)并列放置。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的射流拋光自清洗裝置，其特征在于：所述裝置還包括控制器(4)，其分別連接隔膜泵(3)、清洗壓力泵(14)和二位三通閥(13)，用于控制隔膜泵(3)和清洗壓力泵(14)的開關(guān)、以及二位三通閥(13)的開關(guān)的邏輯順序。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的射流拋光自清洗裝置，其特征在于：所述收集箱(7)采用矩形透明盒PVC，其包括箱體和頂蓋，頂蓋安裝在箱體頂部；箱體內(nèi)側(cè)底部設(shè)置有安裝工件(5)的固定臺（7c），頂蓋中部加工有通孔作為入口（7a），箱體側(cè)面底端一側(cè)加工有通孔作為出口（7b），所述收集箱(7)的出口（7b）通過二位三通閥(13)與溶液存儲罐(2)連通。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或4所述的射流拋光自清洗裝置，其特征在于：采用機架(1)作為安裝載體，其內(nèi)側(cè)采用三層分布即上層、中層和下層，上層設(shè)置有磨料射流噴頭(8)、去離子水噴頭(12)、收集箱(7)，中層設(shè)置有二位三通閥(12)、控制器(4)以及清洗壓力泵(14)，下層設(shè)置溶液存儲罐(2)；所述隔膜泵(3)、去離子水存儲罐(16)以及廢液存儲罐(15)置于機架(1)外側(cè)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的射流拋光自清洗裝置，其特征在于：采用夾持裝置(9)用于固定磨料射流噴頭(8)和去離子水噴頭(12)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或6所述的射流拋光自清洗裝置，其特征在于：所述工件(5)通過工件夾(6)安裝在收集箱(7)的固定臺（7c）上。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的射流拋光自清洗裝置，其特征在于：所述磨料射流噴頭(8)位于收集箱(7)入口的正上方。