[實用新型]一種多腔室間氣氛隔離裝置

有效

• 申請號: 201720290177.9
• 申請日: 2017-03-23
• 公開（公告）號: CN206591176U
• 公開（公告）日: 2017-10-27
• 發明（設計）人: 蘭立廣
• 申請（專利權）人: 北京創昱科技有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C16/455;C23C16/54
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司11002
• 代理人: 湯財寶

技術領域

本實用新型涉及半導體器件及結構制備技術領域，尤其涉及一種多腔室間氣氛隔離裝置。

背景技術

對于多腔室的半導體器件結構及制作工藝，物理氣相沉積及化學氣相沉積工藝可實現多步沉積工藝的連續進行。對于不同材料生長沉積的工藝，需要保證腔室之間的氣體不相互滲透干擾，影響沉積的膜層組分。

傳統的氣體隔離技術主要有氣密封和差分隔離兩種技術。氣密封技術是利用充氣口吹入氣體，氣體沿著細縫進入到兩邊的腔室，從而隔離兩個腔室之間的工藝氣體，但是采用單一的氣體密封技術，需要非常大的流量才能確保不互相干擾，不僅浪費了大量的氣體，同時過大的流量也對反應工藝腔室的氣氛造成沖擊，形成湍流及影響氣體的均勻性，從而影響鍍膜質量。

采用差分隔離技術，是在兩個反應腔室之間設置隔離室，或者設置多個隔離室，利用抽氣系統，將兩側反應腔室中沿狹縫進入到隔離室的氣體抽走，從而避免了相鄰兩個腔室間工藝氣體的互相滲透，但是利用單個差分或者多個差分，不僅需要增加隔離室的數量及抽氣泵的數量，而且設備結構復雜，成本較高，并且，在隔離室中兩個反應腔室的工藝氣體會接觸混合，可能會產生次生反應類型，在隔離腔室中沉積膜，若反應劇烈，甚至有危險的發生。

實用新型內容

(一)要解決的技術問題

本實用新型要解決的技術問題是解決現有技術中隔離室密封兩個反應腔室時，隔離室中的工藝氣體會接觸混合產生次生反應的問題。

(二)技術方案

為了解決上述技術問題，本實用新型提供了一種多腔室間氣氛隔離裝置，包括第一反應腔室和第二反應腔室，所述第一反應腔室與所述第二反應腔室之間設有隔離間室，所述隔離間室內設有第一隔離墻和第二隔離墻；所述第一隔離墻和第二隔離墻共同圍成進氣腔，所述第一隔離墻與所述第一反應腔室的側壁共同形成第一隔離腔，所述第二隔離墻與所述第二反應腔室的側壁共同形成第二隔離腔；所述第一隔離墻的頂部設有連通所述進氣腔和所述第一隔離腔的第一進氣狹縫，所述第二隔離墻的頂部設有連通所述進氣腔和所述第二隔離腔的第二進氣狹縫；所述第一反應腔室的側壁底部設有連通所述第一反應腔室和第一隔離腔的第一排氣狹縫，所述第二反應腔室的側壁底部設有連通所述第二反應腔室和第二隔離腔的第二排氣狹縫；所述第一隔離腔和第二隔離腔的底部分別設有第一出氣口和第二出氣口，用于連接抽氣裝置；所述進氣腔連接有進氣口，用于連接充氣裝置。

根據本實用新型，所述進氣口處設有氣體流量計。

根據本實用新型，所述第一反應腔室與所述第二反應腔室并列設置，所述第一隔離墻與所述第二隔離墻設置于所述第一反應腔室與所述第二反應腔室相鄰的兩個側壁之間，且所述第一隔離墻和所述第二隔離墻平行。

根據本實用新型，所述第一隔離腔、第二隔離腔以及進氣腔的體積相同。

根據本實用新型，所述進氣口設于所述進氣腔的底部。

根據本實用新型，所述進氣腔內通入的氣體為惰性氣體。

根據本實用新型，所述多腔室間氣氛隔離裝置采用鋁合金或不銹鋼材料制成。

(三)有益效果

本實用新型的上述技術方案與現有技術相比具有如下優點：本實用新型提供的多腔室間氣氛隔離裝置的第一反應腔室與第二反應腔室之間設有隔離間室，隔離間室內設有第一隔離墻和第二隔離墻，隔離墻的頂部設置進氣狹縫，反應腔室的底部設置排氣狹縫，反應腔室內排出的氣體與進氣狹縫充入的氣體一起被抽氣裝置抽出，結合了氣體密封技術和氣體差分技術，將密封氣路和工藝尾氣氣路結合設計，實現了兩個腔室間氣體良好密封的同時，兩個反應腔室的工藝氣體不會接觸，避免了兩個腔室的工藝氣體接觸混合可能產生次生反應類型而在隔離腔室中沉積膜的問題，避免了兩腔室的氣體反應劇烈而造成的危險，并且該設備結構簡單，降低了設備制造成本。

附圖說明

圖1是本實用新型實施例提供的多腔室間氣氛隔離裝置的俯視圖；

圖2是圖1的A-A向剖視圖。

圖中：1：第一反應腔室；11：第一排氣狹縫；2：第二反應腔室；21：第二排氣狹縫；12，22：側壁；3：第一隔離墻；31：第一進氣狹縫；4：第二隔離墻；41：第二進氣狹縫；5：進氣腔；6：第一隔離腔；7：第二隔離腔；81：第一出氣口；82：第二出氣口；9：進氣口。

具體實施方式