[實(shí)用新型]一種微分混合式化學(xué)氣相沉積裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201720273705.X
• 申請(qǐng)日: 2017-03-21
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN206538474U
• 公開(kāi)（公告）日: 2017-10-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊衛(wèi)民;劉海超;焦志偉;丁玉梅
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京化工大學(xué)
• 主分類號(hào): C23C16/455
• 分類號(hào): C23C16/455;C23C16/505;C23C16/46
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種微分混合式化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于：由箱體、流道板、絕緣密封墊片、反應(yīng)室、支柱、基座、加熱系統(tǒng)和射頻系統(tǒng)組成；所述反應(yīng)室為進(jìn)行化學(xué)氣相沉積的反應(yīng)空間；流道板設(shè)置在反應(yīng)室上方，流道板內(nèi)流道由A入口、B入口、A主流道、B主流道 、A分流道、B分流道、A支流道、B支流道、匯集流道、混合流道和噴頭組成；射頻系統(tǒng)的電極安裝在流道板上方；箱體位于流道板下方，其與流道板所包圍空間即為所述反應(yīng)空間，箱體的底面設(shè)置有均勻排布的多個(gè)抽氣孔，抽氣孔與抽氣管相連通，并連通到抽氣裝置；絕緣密封墊片上表面和下表面分別與流道板和箱體接觸，絕緣密封墊片、流道板與箱體固定；基座位于反應(yīng)室內(nèi)，由立柱支撐；基座上方放置基板，基板可用于沉積薄膜或放置待沉積品。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種微分混合式化學(xué)氣相沉積裝置,其特征在于：所述流道板的A入口與B入口位于流道板的兩側(cè)，A入口與A主流道連通，B入口與B主流道連通，A主流道與B主流道平行設(shè)置；A主流道與多個(gè)A分流道連通，各A分流道與A主流道垂直，B主流道與多個(gè)B分流道連通，各B分流道與B主流道垂直,各A分流道與各B分流道為“A-B-A-B”式的交叉排列；每個(gè)A分流道分別與多個(gè)A支流道連通，每個(gè)B分流道分別與多個(gè)B支流道連通，對(duì)應(yīng)的各A支流道與B支流道在匯集流道匯合，各匯集流道連通混合流道，混合流道連通噴頭。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種微分混合式化學(xué)氣相沉積裝置,其特征在于：所述流道板的A主流道于A分流道的斷面深度；B主流道的斷面深度大于B分流道的斷面深度。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種微分混合式化學(xué)氣相沉積裝置,其特征在于：所述流道板的混合流道截面形狀由矩形變?yōu)閳A形，并且截面面積迅速減小。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種微分混合式化學(xué)氣相沉積裝置,其特征在于：所述流道板可以由上板、中板、下板三塊金屬板組裝而成，上板、中板、下板由螺栓固定；上板內(nèi)流道為A入口、B入口、A分流道、B分流道以及A主流道和B主流道的上半部分；中板內(nèi)流道為A支流道、B支流道以及A主流道和B主流道的下半部分；下板內(nèi)流道為匯集流道、混合流道和噴頭。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種微分混合式化學(xué)氣相沉積裝置,其特征在于：所述流道板由金屬3D打印方法加工成型。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種微分混合式化學(xué)氣相沉積裝置,其特征在于：其加熱系統(tǒng)為電磁感應(yīng)加熱方式，加熱線圈位于基座內(nèi)，加熱線圈排布方式為環(huán)形排布或點(diǎn)陣式排布。