[實用新型]適合顆粒狀粉體光學分析的進樣分散回收系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201720247407.3
• 申請日: 2017-03-14
• 公開（公告）號: CN206531753U
• 公開（公告）日: 2017-09-29
• 發(fā)明（設計）人: 黃廷磊;張姿
• 申請（專利權(quán)）人: 黃廷磊;張姿
• 主分類號: G01N15/00
• 分類號: G01N15/00
• 代理公司: 桂林市持衡專利商標事務所有限公司45107
• 代理人: 黃瑋

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及粉體樣品雜質(zhì)分析儀器的輔助設施，具體為一種適合顆粒狀粉體光學分析的進樣分散回收系統(tǒng)。

背景技術(shù)

目前，在粉體樣品雜質(zhì)分析中，顆粒粉體的分散和回收主要是通過人工手動平鋪以及人工清除，這種方式不僅效率低，而且人工鋪粉的不穩(wěn)定性很高，常因為抖動等原因，使得粉體的分散不均勻，清掃不干凈，在進行粉體上料時，部分微小顆粒粉體極易四處揚起，導致物料的浪費，同時也污染了環(huán)境，若被工作人員吸入體內(nèi)，對身體健康也會產(chǎn)生一定的影響。

實用新型內(nèi)容

針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實用新型所要解決的技術(shù)問題是提出了一種鋪粉均勻、效率高、有效保障工作人員身體健康的適合顆粒狀粉體光學分析的進樣分散回收系統(tǒng)。

能夠解決上述技術(shù)問題的適合顆粒狀粉體光學分析的進樣分散回收系統(tǒng)，其技術(shù)方案包括對應于鋪料平臺設置的進出料裝置和平鋪清掃裝置，其中：

所述進出料裝置包括設于鋪料平臺一端上方的漏斗和與漏斗連接的均料機構(gòu)，所述均料機構(gòu)的出口下方設有將顆粒狀粉體向鋪料平臺下料的出料斜板，均料機構(gòu)中設有控制出料量的控制開關(guān)。

所述平鋪清掃裝置包括將下料的顆粒狀粉體從下料端向前攤平而后將攤平的顆粒狀粉體向后回收的平鋪刮板和清掃刮板，所述平鋪刮板和清掃刮板前、后豎直設置并通過彈性元件吊裝于鋪料平臺上方懸伸的移動桿上，所述移動桿通過滑塊滑動安裝于鋪料平臺外設置的滑動導軌上，所述平鋪刮板和清掃刮板的前、后行程大于鋪料平臺的前、后端，于前、后最大行程處所述平鋪刮板和清掃刮板的底端低于鋪料平臺。

滑塊于滑動導軌上作往復運動的諸多傳動裝置中，本實用新型采用電機驅(qū)動的曲柄搖桿機構(gòu)。

所述曲柄搖桿機構(gòu)的一種獨特結(jié)構(gòu)包括曲柄、連桿、限位桿和搖桿，所述電機設于平鋪刮板和清掃刮板前、后行程的中部并處于鋪料平臺下方，所述曲柄、連桿和搖桿的首、尾端依次鉸連，曲柄的另一端固連于電機的轉(zhuǎn)軸上，所述搖桿的另一端鉸連于滑塊，所述限位桿的一端以空轉(zhuǎn)方式安裝在電機的轉(zhuǎn)軸上，限位桿的另一端通過滑銷滑動安裝于連桿上開設的滑動槽內(nèi)。

為使下料于鋪料平臺的粉體呈方形分布而利于后續(xù)作業(yè)，所述出料斜板的底部設有微型振動器。

為更好的鋪平粉料，所述平鋪刮板的底端面設計為光滑的斜面；為更好的清掃干凈鋪料平臺上的粉料，所述清掃刮板的底端面設計為粗糙的斜面。

為避免浪費，所述鋪料平臺的下料端外設有通過回料斜板收集清掃料的回收容器。

本實用新型的有益效果：

本實用新型適合顆粒狀粉體光學分析的進樣分散和回收裝置結(jié)構(gòu)簡單，可以自動進行粉體的分散和回收，易于操作，精度高，效率快，減少了對人體健康造成的危害。

附圖說明

圖1為本實用新型一種實施方式的結(jié)構(gòu)主視圖。

圖2為圖1實施方式的側(cè)視圖。

圖號標識：1、鋪料平臺；2、漏斗；3、出料斜板；4、均料機構(gòu)；5、平鋪刮板；6、清掃刮板；7、滑塊；8、滑動導軌；9、彈性元件；10、移動桿；11、曲柄；12、連桿；12-1、滑動槽；13、限位桿；14、搖桿；15、電機；16、微型振動器；17、回收容器；18、回料斜板；19、曲柄搖桿機構(gòu)；20、鋪料架；21、進出料架；22、平鋪清掃架。

具體實施方式

下面結(jié)合附圖所示實施方式對本實用新型的技術(shù)方案作進一步說明。

本實用新型適合顆粒狀粉體光學分析的進樣分散回收系統(tǒng)，其結(jié)構(gòu)包括鋪料平臺1以及進出料裝置和平鋪清掃裝置。

所述鋪料平臺1水平架設于鋪料架20上，鋪料平臺1的后端(圖1中的右端)后下方設有回收容器17，鋪料平臺1與回收容器17之間的鋪料架20上設有回料斜板18，如圖1、圖2所示。

所述進出料裝置設于鋪料平臺1后端上方，包括至上而下于內(nèi)側(cè)(圖2中的左側(cè))進出料架21上設置的漏斗2、均料機構(gòu)4和出料斜板3，所述均料機構(gòu)4中設有控制下料量的控制開關(guān)，所述出料斜板3自后上方向前下方傾斜，出料斜板3的底部設有微型振動器16，如圖1、圖2所示。

所述平鋪清掃裝置包括平鋪刮板5和清掃刮板6、滑動機構(gòu)以及曲柄搖桿機構(gòu)19：

所述滑動機構(gòu)包括滑動配合的(直線)滑動導軌8和滑塊7，所述滑動導軌8于前、后方向(圖1中的左、右方向)水平安裝于鋪料平臺1外側(cè)(圖2中的右側(cè))的平鋪清掃架22上，滑動導軌8的長度大于鋪料平臺1的前、后長度(圖1中的左、右端長度)，滑動導軌8的高度大于鋪料平臺1的高度，如圖1、圖2所示。