[實用新型]適合顆粒狀粉體光學分析的進樣分散回收系統有效
| 申請號: | 201720247407.3 | 申請日: | 2017-03-14 |
| 公開(公告)號: | CN206531753U | 公開(公告)日: | 2017-09-29 |
| 發明(設計)人: | 黃廷磊;張姿 | 申請(專利權)人: | 黃廷磊;張姿 |
| 主分類號: | G01N15/00 | 分類號: | G01N15/00 |
| 代理公司: | 桂林市持衡專利商標事務所有限公司45107 | 代理人: | 黃瑋 |
| 地址: | 541004 廣西壯族自治*** | 國省代碼: | 廣西;45 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 適合 顆粒狀 光學 分析 分散 回收 系統 | ||
1.適合顆粒狀粉體光學分析的進樣分散回收系統,其特征在于包括對應于鋪料平臺(1)設置的進出料裝置和平鋪清掃裝置,其中:
所述進出料裝置包括設于鋪料平臺(1)一端上方的漏斗(2)和與漏斗(2)連接的均料機構(4),所述均料機構(4)的出口下方設有將顆粒狀粉體向鋪料平臺(1)下料的出料斜板(3),均料機構(4)中設有控制出料量的控制開關;
所述平鋪清掃裝置包括將下料的顆粒狀粉體從下料端向前攤平而后將攤平的顆粒狀粉體向后回收的平鋪刮板(5)和清掃刮板(6),所述平鋪刮板(5)和清掃刮板(6)前、后豎直設置并通過彈性元件(9)吊裝于鋪料平臺(1)上方懸伸的移動桿(10)上,所述移動桿(10)通過滑塊(7)滑動安裝于鋪料平臺(1)外設置的滑動導軌(8)上,所述平鋪刮板(5)和清掃刮板(6)的前、后行程大于鋪料平臺(1)的前、后端,于前、后最大行程處所述平鋪刮板(5)和清掃刮板(6)的底端低于鋪料平臺(1)。
2.根據權利要求1所述的適合顆粒狀粉體光學分析的進樣分散回收系統,其特征在于:所述滑塊(7)于滑動導軌(8)上往復運動的傳動裝置包括電機(15)驅動的曲柄搖桿機構(19)。
3.根據權利要求2所述的適合顆粒狀粉體光學分析的進樣分散回收系統,其特征在于:所述曲柄搖桿機構包括曲柄(11)、連桿(12)、限位桿(13)和搖桿(14),所述電機(15)設于平鋪刮板(5)和清掃刮板(6)前、后行程的中部并處于鋪料平臺(1)下方,所述曲柄(11)、連桿(12)和搖桿(14)的首、尾端依次鉸連,曲柄(11)的另一端固連于電機(15)的轉軸上,所述搖桿(14)的另一端鉸連于滑塊(7),所述限位桿(13)的一端以空轉方式安裝在電機(15)的轉軸上,限位桿(13)的另一端通過滑銷滑動安裝于連桿(12)上開設的滑動槽(12-1)內。
4.根據權利要求1~3中任意一項所述的適合顆粒狀粉體光學分析的進樣分散回收系統,其特征在于:所述出料斜板(3)的底部設有微型振動器(16)。
5.根據權利要求1~3中任意一項所述的適合顆粒狀粉體光學分析的進樣分散回收系統,其特征在于:所述平鋪刮板(5)的底端面為光滑的斜面;所述清掃刮板(6)的底端面為粗糙的斜面。
6.根據權利要求1~3中任意一項所述的適合顆粒狀粉體光學分析的進樣分散回收系統,其特征在于:所述鋪料平臺(1)的下料端外設有通過回料斜板(18)收集清掃料的回收容器(17)。
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