[實用新型]粉體樣品雜質分析儀有效
| 申請號: | 201720247206.3 | 申請日: | 2017-03-14 |
| 公開(公告)號: | CN206638603U | 公開(公告)日: | 2017-11-14 |
| 發明(設計)人: | 黃廷磊;張姿 | 申請(專利權)人: | 黃廷磊;張姿 |
| 主分類號: | G01N21/95 | 分類號: | G01N21/95;G01N1/28 |
| 代理公司: | 桂林市持衡專利商標事務所有限公司45107 | 代理人: | 黃瑋 |
| 地址: | 541004 廣西壯族自治*** | 國省代碼: | 廣西;45 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 樣品 雜質 分析 | ||
1.粉體樣品雜質分析儀,其特征在于:包括對應于鋪料平臺(1)設置的進出料裝置和平鋪清掃裝置,其中:
所述進出料裝置包括設于鋪料平臺(1)一端上方的漏斗(2)和與漏斗(2)連接的間歇下料機構(3),所述間歇下料機構(3)的出口下方設有將顆粒狀粉體向鋪料平臺(1)下料的出料斜斗(4);
所述平鋪清掃裝置包括將下料的顆粒狀粉體從下料端向前攤平而后將攤平的顆粒狀粉體向后回收的平鋪刮板(5)和清掃刮板(6),所述平鋪刮板(5)和清掃刮板(6)前、后豎直設置并通過彈性元件(7)吊裝于鋪料平臺(1)上方懸伸的移動桿(8)上,所述移動桿(8)安裝于螺母座(9)上,所述螺母座(9)旋合于鋪料平臺(1)外設置的絲桿(10)上,所述平鋪刮板(5)和清掃刮板(6)的前、后行程大于鋪料平臺(1)的前、后端,于前、后最大行程處所述平鋪刮板(5)和清掃刮板(6)的底端低于鋪料平臺(1);
所述鋪料平臺(1)下料端的后下方設有粉體收集容器(23);
所述鋪料平臺(1)上方設有向下對攤平的顆粒狀粉體拍照的CCD相機(11)或CMOS相機,所述CCD相機(11)或CMOS相機由多腳相機架(12)支撐安裝并通過數據傳輸線(13)連接顯示處理終端(14),所述顯示處理終端(14)實時對CCD相機(11)或CMOS相機傳送來的圖像數據進行圖像處理,利用圖像識別技術識別并標注出圖像中雜質的位置,同時統計雜質顆粒的數量,并將處理好的圖像和統計結果顯示在顯示處理終端(14)的顯示器上。
2.根據權利要求1所述的粉體樣品雜質分析儀,其特征在于:所述間歇下料機構(3)包括豎狀柱形筒(15)和橫置于柱形筒(15)內的柱形轉門(16),所述柱形轉門(16)的上部為等腰三角形體,柱形轉門(16)的直徑匹配柱形筒(15)的前、后內壁寬度,柱形轉門(16)與柱形筒(15)外的轉盤(17)同軸安裝,所述轉盤(17)的頂部與柱形筒(15)之間設有回位彈簧(18),于轉盤(17)的回位位置,柱形轉門(16)的上部等腰三角形體居中位于柱形筒(15)內;柱形筒(15)外設有轉動轉盤(17)即轉動柱形轉門(16)進行下料的控制機構,于柱形轉門(16)的下料位置,柱形轉門(16)的上部偏轉至柱形筒(15)的前壁或后壁處。
3.根據權利要求2所述的粉體樣品雜質分析儀,其特征在于:所述控制機構包括設于轉盤(17)底部的擋塊(19)和可前、后推動擋塊(19)而轉動柱形轉門(16)的推塊(20),所述推塊(20)設于推桿(21)上且位于平鋪刮板(5)和清掃刮板(6)前方,所述推桿(21)設于移動桿(8)或螺母座(9)上。
4.根據權利要求1~3中任意一項所述的粉體樣品雜質分析儀,其特征在于:所述平鋪刮板(5)的底部為光滑的斜面;所述清掃刮板(6)的底部為粗糙的斜面。
5.根據權利要求1~3中任意一項所述的粉體樣品雜質分析儀,其特征在于:所述多腳相機架(12)的各支腳具有可調節CCD相機(11)或CMOS相機高度和水平位置的伸縮結構。
6.根據權利要求1~3中任意一項所述的粉體樣品雜質分析儀,其特征在于:所述CCD相機(11)或CMOS相機的鏡頭上安裝有補光光源(22)。
7.根據權利要求1~3中任意一項所述的粉體樣品雜質分析儀,其特征在于:所述顯示處理終端(14)采用個人電腦,其圖像識別技術為PC端軟件。
8.根據權利要求1~3中任意一項所述的粉體樣品雜質分析儀,其特征在于:所述顯示處理終端(14)采用平板電腦或手機,其圖像識別技術為APP第三方應用程序。
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