[實(shí)用新型]一種緩慢提升清洗架有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201720243045.0 | 申請(qǐng)日: | 2017-03-14 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN206595234U | 公開(kāi)(公告)日: | 2017-10-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 姜濤;李世山;徐曉強(qiáng);張海春 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 蘇州聚晶科技有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L21/67 | 分類(lèi)號(hào): | H01L21/67;B66F7/02;B66F7/28 |
| 代理公司: | 蘇州市指南針專(zhuān)利代理事務(wù)所(特殊普通合伙)32268 | 代理人: | 李先鋒 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 緩慢 提升 清洗 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種清洗架,尤其涉及一種緩慢提升清洗架。
背景技術(shù)
在電子元件生產(chǎn)過(guò)程中,硅片的清洗至關(guān)重要,清洗的目的是要消除吸附在硅片表面的各類(lèi)污染物,并制做能夠減少表面太陽(yáng)光反射的絨面結(jié)構(gòu),且清洗的潔凈程度直接影響著電池片的成品率和可靠率。制絨是制造晶硅電池的第一道工藝,又稱(chēng)“表面織構(gòu)化”。有效的絨面結(jié)構(gòu)使得入射光在硅片表面多次反射和折射,增加了光的吸收,降低了反射率,有助于提高電池的性能。現(xiàn)有技術(shù)中通過(guò)在鹽酸槽中同時(shí)引入鹽酸管道與氫氟酸管道,在氫氟酸槽中同時(shí)引入氫氟酸管道與鹽酸管道,從而可方便地獲得鹽酸與氫氟酸的混合溶液,方便進(jìn)行上述單晶硅片制絨的清洗。但是在實(shí)際清洗的過(guò)程中硅片在鹽酸槽中液面擾動(dòng)較大,從而對(duì)置于其中的硅片的細(xì)微元器件有可能造成一定的形變等。
現(xiàn)有的技術(shù)手段是通過(guò)機(jī)械手的抓取將產(chǎn)品片盒緩慢的放入清洗槽中,這種自上而下的放置方式容易對(duì)液面進(jìn)行干擾,同時(shí)取出時(shí)也會(huì)對(duì)產(chǎn)品在溶液中的位置進(jìn)行干擾,造成液面擾動(dòng)很大,影響硅片的成品質(zhì)量。
如果通過(guò)慢轉(zhuǎn)電機(jī)可以實(shí)現(xiàn)緩慢提升的功效,但是電機(jī)配套的減速器占用空間很大,在清洗槽內(nèi)都是溶液的情況下,很難分布,對(duì)于有限空間內(nèi)如何利用電機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)成為廠家在制造設(shè)備時(shí)的一大難題。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題在于:提供一種緩慢提升清洗架,將產(chǎn)品片盒置于清洗架中放入和取出溶液,在慢轉(zhuǎn)電機(jī)的作用下保證提升過(guò)程的緩慢和平穩(wěn),減少對(duì)液面的擾動(dòng)。
為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本實(shí)用新型的技術(shù)方案是:一種緩慢提升清洗架,包括提升架、位于提升架下方的電機(jī)組件和產(chǎn)品片盒;所述的提升架位于所述的產(chǎn)品片盒的下方,承載所述的產(chǎn)品片盒;所述的電機(jī)組件位于所述的提升架的下方,通過(guò)履帶與所述的提升架連接。
所述的提升架包括移動(dòng)底板、升降滑軌、滑動(dòng)護(hù)板、提升滑輪、限位頂板、限位底板、縱向底板和橫向底板;所述的移動(dòng)底板位于所的提升架的底部,與所述的限位底板相抵觸;所述的升降滑軌豎直貫穿所述的移動(dòng)底板,與所述的移動(dòng)底板相配合,所述的移動(dòng)底板在所述的升降滑軌上自由滑動(dòng);所述的滑動(dòng)護(hù)板位于所述的升降滑軌上,與所述的升降滑軌相配合,同時(shí)與所述的限位底板固定連接;所述的限位頂板位于所述的升降滑軌的頂端,與所述的升降滑軌固定連接;所述的提升滑輪位于所述的限位頂板的兩側(cè),與所述的限位頂板固定連接,同時(shí)通過(guò)履帶分別與所述的移動(dòng)底板和電機(jī)組件連接;所述的限位底板位于所述的滑動(dòng)護(hù)板的下方,一端與所述的升降滑軌配合連接,下方與所述的移動(dòng)底板相抵觸,一端水平延伸,與所述的滑動(dòng)護(hù)板固定連接;所述的縱向底板垂直于所述的限位底板,與所述的縱向底板固定連接;所述的橫向底板平行與所述的限位底板,與所述的縱向底板固定連接。
進(jìn)一步的,所述的移動(dòng)底板上設(shè)置有滑動(dòng)轉(zhuǎn)軸;所述的滑動(dòng)轉(zhuǎn)軸有兩個(gè),對(duì)稱(chēng)分布在所述的移動(dòng)底板上,通過(guò)履帶與所述的提升滑輪連接。
進(jìn)一步的,所述的升降滑軌、滑動(dòng)護(hù)板、限位底板和提升滑輪的數(shù)量保持一致,均為兩個(gè),對(duì)稱(chēng)分布在所述的提升架的兩側(cè)。
進(jìn)一步的,所述的滑動(dòng)護(hù)板上設(shè)置有若干通孔。
進(jìn)一步的,所述的縱向底板的數(shù)量不少于四個(gè),外形與所述的產(chǎn)品片盒的底部相配合。
進(jìn)一步的,所述的橫向底板的數(shù)量不少于四個(gè),兩兩分布在兩個(gè)所述的縱向底板之間。
進(jìn)一步的,所述的電機(jī)組件包括電機(jī)底板、傳動(dòng)轉(zhuǎn)軸、驅(qū)動(dòng)電機(jī)主軸、減速器、傳動(dòng)滑輪、轉(zhuǎn)軸架和轉(zhuǎn)軸底板;所述的電機(jī)底板位于所述的電機(jī)組件的最下方,與所述的轉(zhuǎn)軸底板固定連接;電機(jī)位于所述的電機(jī)底板上,通過(guò)所述的驅(qū)動(dòng)電機(jī)主軸與所述的減速器固定連接;所述的傳動(dòng)轉(zhuǎn)軸貫穿所述的減速器,向所述的減速器的兩側(cè)延伸;所的轉(zhuǎn)軸架位于所述的傳動(dòng)轉(zhuǎn)軸的一端,所述的傳動(dòng)轉(zhuǎn)軸穿過(guò)所述的轉(zhuǎn)軸架;所述的轉(zhuǎn)軸底板位于所述的轉(zhuǎn)軸架的下方,與所述的轉(zhuǎn)軸架和電機(jī)底板固定連接;所述的傳動(dòng)滑輪位于所述的傳動(dòng)轉(zhuǎn)軸的一端外側(cè),同時(shí)位于所述的轉(zhuǎn)軸架的外側(cè),與所述的傳動(dòng)轉(zhuǎn)軸固定連接,通過(guò)履帶與所述的提升架連接。
進(jìn)一步的,所述的轉(zhuǎn)軸架和傳動(dòng)滑輪的數(shù)量保持一致,均為兩個(gè),對(duì)稱(chēng)分布在所述的減速器的兩側(cè)。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型提供的一種緩慢提升清洗架可以通過(guò)電機(jī)慢轉(zhuǎn)緩慢平穩(wěn)地提升或下降整個(gè)提升架,將產(chǎn)品穩(wěn)定地放入溶液中,通過(guò)電機(jī)組件降低轉(zhuǎn)速,同時(shí)保證提升架的空間可以限制在清洗槽內(nèi),提高升降的平穩(wěn)性,提高產(chǎn)品的質(zhì)量。
附圖說(shuō)明
圖1示出本實(shí)用新型的主視圖。
圖2示出本實(shí)用新型的左視圖。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專(zhuān)門(mén)適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專(zhuān)門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專(zhuān)門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





