[實用新型]一種緩慢提升清洗架有效
| 申請號: | 201720243045.0 | 申請日: | 2017-03-14 |
| 公開(公告)號: | CN206595234U | 公開(公告)日: | 2017-10-27 |
| 發明(設計)人: | 姜濤;李世山;徐曉強;張海春 | 申請(專利權)人: | 蘇州聚晶科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;B66F7/02;B66F7/28 |
| 代理公司: | 蘇州市指南針專利代理事務所(特殊普通合伙)32268 | 代理人: | 李先鋒 |
| 地址: | 215000 江蘇省蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 緩慢 提升 清洗 | ||
1.一種緩慢提升清洗架,其特征在于,包括提升架、位于提升架下方的電機組件和產品片盒;所述的提升架位于所述的產品片盒的下方,承載所述的產品片盒;所述的電機組件位于所述的提升架的下方,通過履帶與所述的提升架連接;
所述的提升架包括移動底板、升降滑軌、滑動護板、提升滑輪、限位頂板、限位底板、縱向底板和橫向底板;所述的移動底板位于所的提升架的底部,與所述的限位底板相抵觸;所述的升降滑軌豎直貫穿所述的移動底板,與所述的移動底板相配合,所述的移動底板在所述的升降滑軌上自由滑動;所述的滑動護板位于所述的升降滑軌上,與所述的升降滑軌相配合,同時與所述的限位底板固定連接;所述的限位頂板位于所述的升降滑軌的頂端,與所述的升降滑軌固定連接;所述的提升滑輪位于所述的限位頂板的兩側,與所述的限位頂板固定連接,同時通過履帶分別與所述的移動底板和電機組件連接;所述的限位底板位于所述的滑動護板的下方,一端與所述的升降滑軌配合連接,下方與所述的移動底板相抵觸,一端水平延伸,與所述的滑動護板固定連接;所述的縱向底板垂直于所述的限位底板,與所述的縱向底板固定連接;所述的橫向底板平行與所述的限位底板,與所述的縱向底板固定連接。
2.如權利要求1所述的一種緩慢提升清洗架,其特征在于,所述的移動底板上設置有滑動轉軸;所述的滑動轉軸有兩個,對稱分布在所述的移動底板上,通過履帶與所述的提升滑輪連接。
3.如權利要求1所述的一種緩慢提升清洗架,其特征在于,所述的升降滑軌、滑動護板、限位底板和提升滑輪的數量保持一致,均為兩個,對稱分布在所述的提升架的兩側。
4.如權利要求1或3所述的一種緩慢提升清洗架,其特征在于,所述的滑動護板上設置有若干通孔。
5.如權利要求1所述的一種緩慢提升清洗架,其特征在于,所述的縱向底板的數量不少于四個,外形與所述的產品片盒的底部相配合。
6.如權利要求1所述的一種緩慢提升清洗架,其特征在于,所述的橫向底板的數量不少于四個,兩兩分布在兩個所述的縱向底板之間。
7.如權利要求1所述的一種緩慢提升清洗架,其特征在于,所述的電機組件包括電機底板、傳動轉軸、驅動電機主軸、減速器、傳動滑輪、轉軸架和轉軸底板;所述的電機底板位于所述的電機組件的最下方,與所述的轉軸底板固定連接;電機位于所述的電機底板上,通過所述的驅動電機主軸與所述的減速器固定連接;所述的傳動轉軸貫穿所述的減速器,向所述的減速器的兩側延伸;所的轉軸架位于所述的傳動轉軸的一端,所述的傳動轉軸穿過所述的轉軸架;所述的轉軸底板位于所述的轉軸架的下方,與所述的轉軸架和電機底板固定連接;所述的傳動滑輪位于所述的傳動轉軸的一端外側,同時位于所述的轉軸架的外側,與所述的傳動轉軸固定連接,通過履帶與所述的提升架連接。
8.如權利要求7所述的一種緩慢提升清洗架,其特征在于,所述的轉軸架和傳動滑輪的數量保持一致,均為兩個,對稱分布在所述的減速器的兩側。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





