[實用新型]一種半自動立式單門真空磁控濺射帶蒸發鍍膜設備

有效

• 申請號: 201720241669.9
• 申請日: 2017-03-11
• 公開（公告）號: CN206570391U
• 公開（公告）日: 2017-10-20
• 發明（設計）人: 聶廷森
• 申請（專利權）人: 肇慶恒豐真空科技有限公司
• 主分類號: C23C14/20
• 分類號: C23C14/20;C23C14/35;C23C14/24
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型涉及鍍膜設備技術領域，具體為一種半自動立式單門真空磁控濺射帶蒸發鍍膜設備。

背景技術

真空蒸發鍍膜技術是 PVD（物理氣相沉積）技術中發展最早，應用領域很廣的鍍膜技術。其工作原理是將膜材置于真空鍍膜設備的蒸發源（用來加熱膜材使之氣化蒸發的裝置）中，在高真空條件下通過蒸發源加熱膜材使之蒸發形成蒸氣，蒸氣到達被鍍的基材表面后由于基材溫度較低，蒸氣便凝結在基材表面形成薄膜。目前廣泛應用的是箱式蒸發鍍膜機，這種箱式蒸發鍍膜機主要采用電阻加熱蒸發源和電子束加熱蒸發源（由電子槍和坩堝組成）兩種蒸發源。這種鍍膜機主要包括真空室、抽氣系統、蒸發源、膜厚測量系統、離子源、加熱器等。傳統的真空磁控濺射帶蒸發鍍膜設備結構復雜，功能單一，不能適應多種底色的塑料制品的表面鍍膜處理，滿足不了消費者的需求。

發明內容

本實用新型的目的在于提供一種半自動立式單門真空磁控濺射帶蒸發鍍膜設備，以解決上述背景技術中提出的問題。

為實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案：一種半自動立式單門真空磁控濺射帶蒸發鍍膜設備，包括機體，所述機體上安裝有羅茨泵，且機體內部設置有真空室，所述真空室下方安裝有分子泵，且分子泵通過波紋管與抽氣管道固定連接，所述真空室通過壓縮裝置與磁控濺射倉相連接，所述磁控濺射倉頂部分別設置有加熱組件和轟擊組件，且加熱組件設在轟擊組件左側，所述轟擊組件上安裝有中頻靶，且中頻靶右側設置有中心靶，所述磁控濺射倉下方分別設置有充氣組件和大門剎車，所述機體內設置有鍍膜室，且鍍膜室下方安裝有滑閥泵。

優選的，所述抽氣管道與真空室相通，且抽氣管道下方設有支座。

優選的，所述壓縮裝置上設置有螺栓固件，且壓縮裝置通過導線與電源相連。

優選的，所述大門剎車下方設置有底座。

優選的，所述滑閥泵下方安裝有旋片泵，且滑閥泵右側設有蒸發倉。

優選的，所述蒸發倉左側設置有加熱器。

與現有技術相比，本實用新型的有益效果是：本實用新型集蒸發鍍膜與磁控濺射鍍膜于一體，適合多類塑料（ABS、PS、PP、PC、PVC）、尼龍、樹脂、玻璃等工件表面工藝處理，既有高效快節拍蒸發鍍高反射鋁膜，也可直流磁控濺射鍍不銹鋼膜、鈦膜或中頻磁控濺射鍍鋁膜，鍍膜過程可選擇開啟高壓離子轟擊輔助清洗，增加膜層牢固度；該設備主要大量應用于任意底色的塑料制品的表面鍍膜處理成金、銀、紅、紫、藍、灰、黑、七彩等多種顏色，增加表面金屬質感，提高產品檔次、外觀更顯華貴，深受消費者青睞，便于大規模進行推廣和使用。

附圖說明

圖1為本實用新型的結構示意圖；

圖2為本實用新型鍍膜室的連接結構示意圖；

圖3為本實用新型A處的局部放大圖。

圖中：1-機體；2-羅茨泵；3-真空室；4-壓縮裝置；5-加熱組件；6-轟擊組件；7-中頻靶；8-中心靶；9-鍍膜室；10-抽氣管道；11-分子泵；12-波紋管；13-底座；14-充氣組件；15-大門剎車；16-磁控濺射倉；17-滑閥泵；18-加熱器；19-旋片泵；20-蒸發倉。

具體實施方式

下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。

請參閱圖1-3，本實用新型提供的一種實施例：一種半自動立式單門真空磁控濺射帶蒸發鍍膜設備，包括機體1，機體1上安裝有羅茨泵2，且機體1內部設置有真空室3，真空室3下方安裝有分子泵11，且分子泵11通過波紋管12與抽氣管道10固定連接，真空室3通過壓縮裝置4與磁控濺射倉16相連接，磁控濺射倉16頂部分別設置有加熱組件5和轟擊組件6，且加熱組件5設在轟擊組件6左側，轟擊組件6上安裝有中頻靶7，且中頻靶7右側設置有中心靶8，磁控濺射倉16下方分別設置有充氣組件14和大門剎車15，機體1內設置有鍍膜室9，且鍍膜室9下方安裝有滑閥泵17，抽氣管道10與真空室3相通，且抽氣管道10下方設有支座，壓縮裝置4上設置有螺栓固件，且壓縮裝置4通過導線與電源相連，大門剎車15下方設置有底座13，滑閥泵17下方安裝有旋片泵19，且滑閥泵17右側設有蒸發倉20，蒸發倉20左側設置有加熱器18。