[實用新型]一種半自動立式單門真空磁控濺射帶蒸發鍍膜設備

有效

• 申請號: 201720241669.9
• 申請日: 2017-03-11
• 公開（公告）號: CN206570391U
• 公開（公告）日: 2017-10-20
• 發明（設計）人: 聶廷森
• 申請（專利權）人: 肇慶恒豐真空科技有限公司
• 主分類號: C23C14/20
• 分類號: C23C14/20;C23C14/35;C23C14/24
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種半自動立式單門真空磁控濺射帶蒸發鍍膜設備，包括機體（1），其特征在于：所述機體（1）上安裝有羅茨泵（2），且機體（1）內部設置有真空室（3），所述真空室（3）下方安裝有分子泵（11），且分子泵（11）通過波紋管（12）與抽氣管道（10）固定連接，所述真空室（3）通過壓縮裝置（4）與磁控濺射倉（16）相連接，所述磁控濺射倉（16）頂部分別設置有加熱組件（5）和轟擊組件（6），且加熱組件（5）設在轟擊組件（6）左側，所述轟擊組件（6）上安裝有中頻靶（7），且中頻靶（7）右側設置有中心靶（8），所述磁控濺射倉（16）下方分別設置有充氣組件（14）和大門剎車（15），所述機體（1）內設置有鍍膜室（9），且鍍膜室（9）下方安裝有滑閥泵（17）。

2.根據權利要求1所述的一種半自動立式單門真空磁控濺射帶蒸發鍍膜設備，其特征在于：所述抽氣管道（10）與真空室（3）相通，且抽氣管道（10）下方設有支座。

3.根據權利要求1所述的一種半自動立式單門真空磁控濺射帶蒸發鍍膜設備，其特征在于：所述壓縮裝置（4）上設置有螺栓固件，且壓縮裝置（4）通過導線與電源相連。

4.根據權利要求1所述的一種半自動立式單門真空磁控濺射帶蒸發鍍膜設備，其特征在于：所述大門剎車（15）下方設置有底座（13）。

5.根據權利要求1所述的一種半自動立式單門真空磁控濺射帶蒸發鍍膜設備，其特征在于：所述滑閥泵（17）下方安裝有旋片泵（19），且滑閥泵（17）右側設有蒸發倉（20）。

6.根據權利要求5所述的一種半自動立式單門真空磁控濺射帶蒸發鍍膜設備，其特征在于：所述蒸發倉（20）左側設置有加熱器（18）。