[實用新型]研磨掃光機半自動上下料機構(gòu)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201720236191.0
• 申請日: 2017-03-10
• 公開（公告）號: CN206645536U
• 公開（公告）日: 2017-11-17
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 楊智軍;易真江;雷志奇
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市漢匠自動化科技有限公司
• 主分類號: B65G49/06
• 分類號: B65G49/06;B24B41/00
• 代理公司: 深圳市翼智博知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙)44320
• 代理人: 肖偉

1.一種研磨掃光機半自動上下料機構(gòu)，包括外接真空系統(tǒng)以對片材原料實施真空吸附的載盤、用于驅(qū)動載盤旋轉(zhuǎn)及升降的載盤驅(qū)動模塊以及用于控制載盤驅(qū)動模塊工作狀態(tài)的控制模塊，其特征在于：所述研磨掃光機半自動上下料機構(gòu)還包括設(shè)于載盤下方用于預(yù)裝載所述片材原料的中轉(zhuǎn)模塊，所述中轉(zhuǎn)模塊包括載料臺、用于承載片材原料的中轉(zhuǎn)盤、用于產(chǎn)生真空以從底部吸附固定中轉(zhuǎn)盤上的片材原料的吸附組件、用于驅(qū)動所述載料臺升降的升降驅(qū)動組件，所述中轉(zhuǎn)盤放置于載料臺上并與載料臺在周向上相對定位，所述升降驅(qū)動組件和吸附組件均電連接至所述控制模塊并在所述控制模塊控制下與載盤驅(qū)動模塊協(xié)同動作。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨掃光機半自動上下料機構(gòu)，其特征在于：所述中轉(zhuǎn)模塊還包括設(shè)于載料臺下方的旋轉(zhuǎn)支撐組件以及用于使載盤和中轉(zhuǎn)盤相對定位的旋轉(zhuǎn)定位件，所述旋轉(zhuǎn)定位件包括：設(shè)置于載盤側(cè)緣的滑動座、可滑動地安裝于滑動座內(nèi)且底端自滑動座底面伸出的滑塊、安裝于滑塊底端的定位滾輪、用于保持滑塊相對于滑動座彈性伸出的彈性件、安裝于滑動座頂端且與彈性件遠(yuǎn)離滑塊一端連接的蓋板以及固定設(shè)于中轉(zhuǎn)盤靠側(cè)緣處且與所述定位滾輪位于同一圓周上的擋塊，定位滾輪和擋塊在周向上相互抵頂配合實現(xiàn)載盤和中轉(zhuǎn)盤的相對定位，使中轉(zhuǎn)盤與載盤同步旋轉(zhuǎn)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的研磨掃光機半自動上下料機構(gòu)，其特征在于：所述擋塊的與定位滾輪相抵頂?shù)膫?cè)面相背離的另一側(cè)面為斜面，且所述斜面的頂緣與所述擋塊的與定位滾輪相抵頂?shù)膫?cè)面的頂緣的間距小于預(yù)定值。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的研磨掃光機半自動上下料機構(gòu)，其特征在于：所述載料臺的頂面設(shè)有凸環(huán)，凸環(huán)頂面開設(shè)有環(huán)形槽，所述環(huán)形槽內(nèi)嵌設(shè)有密封圈，所述中轉(zhuǎn)盤放置于所述密封圈上，由中轉(zhuǎn)盤的底面、載料臺的頂面、凸環(huán)及密封圈共同圍繞形成密封腔，所述密封腔還通過氣路外接真空系統(tǒng)，且中轉(zhuǎn)盤上開設(shè)有若干與所述密封腔導(dǎo)通的真空吸孔。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的研磨掃光機半自動上下料機構(gòu)，其特征在于：所述升降驅(qū)動組件包括基板、驅(qū)動基板升降的升降驅(qū)動件以及分別用于限定基板升降行程的兩端極限位置的上緩沖器和下緩沖器，所述升降驅(qū)動件、上緩沖器和下緩沖器均固設(shè)于支撐座上，所述基板底面設(shè)有若干個導(dǎo)向柱，且支撐座設(shè)有與所述導(dǎo)向柱對應(yīng)配合的導(dǎo)向孔。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的研磨掃光機半自動上下料機構(gòu)，其特征在于：所述基板中部開設(shè)有通孔，所述旋轉(zhuǎn)支撐組件包括轉(zhuǎn)軸，所述轉(zhuǎn)軸可旋轉(zhuǎn)地組裝于基板上的通孔內(nèi)，且轉(zhuǎn)軸頂端與載料臺的底面相固定，所述轉(zhuǎn)軸上還固定有傳感片，基板底面對應(yīng)向下伸出設(shè)置有由所述傳感片旋轉(zhuǎn)經(jīng)過時而觸發(fā)以對轉(zhuǎn)軸的旋轉(zhuǎn)圈數(shù)進行計數(shù)且電聯(lián)接至控制模塊的感應(yīng)器。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的研磨掃光機半自動上下料機構(gòu)，其特征在于：所述吸附組件包括設(shè)置于轉(zhuǎn)軸中心的氣體通道以及設(shè)于轉(zhuǎn)軸底端與所述氣體通道相連通的氣接頭，轉(zhuǎn)軸頂端設(shè)有與所述密封腔相連通的導(dǎo)氣孔，所述氣接頭連接至真空系統(tǒng)。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的研磨掃光機半自動上下料機構(gòu)，其特征在于：所述旋轉(zhuǎn)支撐組件還包括摩擦阻尼件，所述摩擦阻尼件包括與所述轉(zhuǎn)軸同軸固定的摩擦輪、與摩擦輪對應(yīng)配合的皮帶、設(shè)于基板底面分別用于固定連接所述皮帶兩端的皮帶夾座和皮帶拉緊塊以及連接于皮帶拉緊塊和皮帶之間的拉簧，所述皮帶的一端由所述皮帶夾座夾緊鎖固，所述皮帶的另一端通過所述拉簧連接至所述皮帶拉緊塊。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨掃光機半自動上下料機構(gòu)，其特征在于：所述中轉(zhuǎn)盤的頂部為軟質(zhì)材料制成承載層，所述真空吸孔貫穿所述承載層，或者所述中轉(zhuǎn)盤頂面放置有軟質(zhì)材料制成的墊板，且所述墊板上開設(shè)有與中轉(zhuǎn)盤上的真空吸孔對應(yīng)的透孔。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨掃光機半自動上下料機構(gòu)，其特征在于：所述載料臺的靠側(cè)緣處裝設(shè)有至少兩個定位珠，且在所述載料臺和中轉(zhuǎn)盤上均對應(yīng)開設(shè)有定位孔，中轉(zhuǎn)盤放置于載料臺上，所述定位珠插入所述定位孔內(nèi)使所述中轉(zhuǎn)盤與載料臺在周向上相對定位；所述載料臺外側(cè)還設(shè)有若干對所述中轉(zhuǎn)盤的側(cè)邊緣進行定位的側(cè)向定位滾輪。