[實用新型]一種磁控濺射鍍膜設(shè)備真空腔室回氣導(dǎo)流裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201720206026.0 | 申請日: | 2017-03-03 |
| 公開(公告)號: | CN206607309U | 公開(公告)日: | 2017-11-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 何天黎;田富;岳大勇 | 申請(專利權(quán))人: | 吳江南玻華東工程玻璃有限公司;中國南玻集團股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35 |
| 代理公司: | 蘇州創(chuàng)元專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司32103 | 代理人: | 孫仿衛(wèi),陳婷婷 |
| 地址: | 215222 江蘇省蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 磁控濺射 鍍膜 設(shè)備 空腔 室回氣 導(dǎo)流 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及一種磁控濺射鍍膜設(shè)備真空腔室回氣導(dǎo)流裝置。
背景技術(shù)
玻璃產(chǎn)品在進行磁控濺射鍍膜工序時需要在真空環(huán)境下進行,因此在進行玻璃磁控濺射鍍膜工序之前需要將真空腔室的空氣抽出使真空腔形成真空狀態(tài)。在對玻璃完成鍍膜之后,真空腔室再進行回氣動作,使得真空腔室的氣壓與大氣壓相同。為了避免回氣時大氣沖碎玻璃產(chǎn)品,如附圖1所示,目前采用的技術(shù)方案是在空氣進出口的下方設(shè)置一塊鋼板6對大氣進行緩沖導(dǎo)流。此鋼板6通過螺栓固定在凸起的固定柱7上,固定柱7固定于真空腔室的密封蓋板1上。但是真空腔室的真空負壓可達到0.03mbar左右,當(dāng)進行回氣動作時,會有大量的空氣進入真空腔室內(nèi),可能會引起鋼板6振動、螺栓松動掉落,從而劃傷玻璃產(chǎn)品。同時,由于鋼板6占用空間較小,鍍膜真空腔室的抽放氣效率較低。
發(fā)明內(nèi)容
本實用新型的目的為了克服現(xiàn)有技術(shù)的缺點,提供一種磁控濺射鍍膜設(shè)備真空腔室回氣導(dǎo)流裝置,能夠?qū)Υ髿膺M行有效的緩沖導(dǎo)流,不會松動掉落劃傷玻璃產(chǎn)品;并且占用空間較大,能夠提高真空腔室抽放氣的效率。
為達到上述目的,本實用新型采用的技術(shù)方案是:一種磁控濺射鍍膜設(shè)備真空腔室回氣導(dǎo)流裝置,所述鍍膜設(shè)備至少包括密封蓋板、設(shè)于所述密封蓋板上連通所述真空腔室內(nèi)外的多個空氣進出口,每個所述空氣進出口下方均設(shè)有對流入空氣起到緩沖導(dǎo)流作用的緩沖導(dǎo)流板,所述緩沖導(dǎo)流板包括位于所述密封蓋板下方并正對所述空氣進出口的橫擋板、分設(shè)于所述橫擋板兩側(cè)且連接在所述橫擋板與所述密封蓋板之間的兩個豎擋板,所述橫擋板與兩側(cè)的所述豎擋板之間形成沿垂直于氣流進入方向貫穿的氣流通道。
優(yōu)選地,所述橫擋板與所述密封蓋板相平行。
進一步地,所述回氣導(dǎo)流裝置還包括設(shè)于多個緩沖導(dǎo)流板之間的內(nèi)填充物、設(shè)于多個所述緩沖導(dǎo)流板的外側(cè)部的外填充物,所述內(nèi)填充物、外填充物均設(shè)于所述密封蓋板的下方。
更進一步地,所述內(nèi)填充物、外填充物均為鋁板。
進一步地,所述內(nèi)填充物、外填充物均與所述密封蓋板相固定連接。
更進一步地,所述內(nèi)填充物、外填充物下端面沿上下方向均不低于所述橫擋板。
更進一步地,所述內(nèi)填充物、外填充物為一體。
進一步地,兩側(cè)的所述豎擋板分別與所述密封蓋板通過焊接而連成一體。
進一步地,所述橫擋板與兩側(cè)的所述豎擋板一體成型。
由于上述技術(shù)方案的運用,本實用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有下列優(yōu)點:本實用新型提供的磁控濺射鍍膜設(shè)備真空腔室回氣導(dǎo)流裝置,豎擋板與橫擋板一體成型,并且豎擋板焊接于密封蓋板上,從而避免了脫落的可能。同時在緩沖導(dǎo)流板之間、緩沖導(dǎo)流板的外側(cè)部設(shè)有填充物,使得占用空間變大,從而提高抽放氣的效率。
附圖說明
附圖1為現(xiàn)有技術(shù)的磁控濺射鍍膜設(shè)備真空腔室回氣導(dǎo)流裝置示意圖;
附圖2為本實用新型的磁控濺射鍍膜設(shè)備真空腔室回氣導(dǎo)流裝置示意圖。
其中:1、密封蓋板;2、空氣進出口;3、緩沖導(dǎo)流板;31、橫擋板;32、豎擋板;4、氣流通道;5、填充物;51、內(nèi)填充物;52、外填充物;6、鋼板;7、固定柱。
具體實施方式
下面結(jié)合附圖和具體實施例來對本實用新型的技術(shù)方案做進一步的闡述。
參見圖2所示的磁控濺射鍍膜設(shè)備真空腔室回氣導(dǎo)流裝置示意圖,該磁控濺射鍍膜設(shè)備至少包括密封蓋板1、設(shè)于密封蓋板1上連通真空腔室內(nèi)外的多個空氣進出口2,每個空氣進出口2的下方均設(shè)有對流入空氣起到緩沖導(dǎo)流作用的緩沖導(dǎo)流板3。
其中,緩沖導(dǎo)流板3包括位于密封蓋板下方并且正對空氣進出口的橫擋板31、分設(shè)于橫擋板31兩側(cè)且連接在橫擋板31與密封蓋板1之間的兩個橫擋板32,即緩沖導(dǎo)流板3的形狀如開口向上的字母“U”形固定于密封蓋板1下表面。橫擋板31與兩側(cè)的豎擋板32之間形成沿垂直于空氣進出口2的氣流通道4,且多個氣流通道4的延伸方向相互平行,如圖2中垂直于紙面方向即為氣流通道的延伸方向。
為了使緩沖導(dǎo)流板3能夠穩(wěn)固地固定于密封蓋板1上,橫擋板31與豎擋板32設(shè)置為一體成型,豎擋板32則通過焊接的方式固定于密封蓋板1下方,使得緩沖導(dǎo)流板3在真空腔室回氣的時候,能夠抵擋住高流速的大氣沖擊,穩(wěn)固地固定于密封蓋板1下方。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于吳江南玻華東工程玻璃有限公司;中國南玻集團股份有限公司,未經(jīng)吳江南玻華東工程玻璃有限公司;中國南玻集團股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201720206026.0/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗設(shè)備、驗證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
- 定點設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





