[實用新型]一種磁控濺射鍍膜設(shè)備真空腔室回氣導(dǎo)流裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201720206026.0
• 申請日: 2017-03-03
• 公開（公告）號: CN206607309U
• 公開（公告）日: 2017-11-03
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 何天黎;田富;岳大勇
• 申請（專利權(quán)）人: 吳江南玻華東工程玻璃有限公司;中國南玻集團股份有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 蘇州創(chuàng)元專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司32103
• 代理人: 孫仿衛(wèi),陳婷婷

1.一種磁控濺射鍍膜設(shè)備真空腔室回氣導(dǎo)流裝置，所述鍍膜設(shè)備至少包括密封蓋板、設(shè)于所述密封蓋板上連通所述真空腔室內(nèi)外的多個空氣進出口，其特征在于：每個所述空氣進出口下方均設(shè)有對流入空氣起到緩沖導(dǎo)流作用的緩沖導(dǎo)流板，所述緩沖導(dǎo)流板包括位于所述密封蓋板下方并正對所述空氣進出口的橫擋板、分設(shè)于所述橫擋板兩側(cè)且連接在所述橫擋板與所述密封蓋板之間的兩個豎擋板，所述橫擋板與兩側(cè)的所述豎擋板之間形成沿垂直于氣流進入方向貫穿的氣流通道。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁控濺射鍍膜設(shè)備真空腔室回氣導(dǎo)流裝置，其特征在于：所述橫擋板與所述密封蓋板相平行。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁控濺射鍍膜設(shè)備真空腔室回氣導(dǎo)流裝置，其特征在于：所述回氣導(dǎo)流裝置還包括設(shè)于多個緩沖導(dǎo)流板之間的內(nèi)填充物、設(shè)于多個所述緩沖導(dǎo)流板的外側(cè)部的外填充物，所述內(nèi)填充物、外填充物均設(shè)于所述密封蓋板的下方。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的磁控濺射鍍膜設(shè)備真空腔室回氣導(dǎo)流裝置，其特征在于：所述內(nèi)填充物、外填充物均為鋁板。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的磁控濺射鍍膜設(shè)備真空腔室回氣導(dǎo)流裝置，其特征在于：所述內(nèi)填充物、外填充物均與所述密封蓋板相固定連接。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的磁控濺射鍍膜設(shè)備真空腔室回氣導(dǎo)流裝置，其特征在于：所述內(nèi)填充物、外填充物下端面沿上下方向均不低于所述橫擋板。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的磁控濺射鍍膜設(shè)備真空腔室回氣導(dǎo)流裝置，其特征在于：所述內(nèi)填充物、外填充物為一體。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁控濺射鍍膜設(shè)備真空腔室回氣導(dǎo)流裝置，其特征在于：兩側(cè)的所述豎擋板分別與所述密封蓋板通過焊接而連成一體。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁控濺射鍍膜設(shè)備真空腔室回氣導(dǎo)流裝置，其特征在于：所述橫擋板與兩側(cè)的所述豎擋板一體成型。