[實(shí)用新型]一種準(zhǔn)分子激光退火裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201720202711.6
• 申請(qǐng)日: 2017-03-03
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN206480599U
• 公開(kāi)（公告）日: 2017-09-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 田雪雁;李小龍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/268
• 分類號(hào): H01L21/268;H01L21/67
• 代理公司: 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11112
• 代理人: 汪源,陳源

1.一種準(zhǔn)分子激光退火裝置，包括：激光產(chǎn)生單元和工藝腔室，其特征在于，所述工藝腔室內(nèi)設(shè)置有用于檢測(cè)待處理基板上各位置的實(shí)際厚度的厚度檢測(cè)單元；

所述準(zhǔn)分子激光退火裝置還包括：與所述厚度檢測(cè)單元連接、用于根據(jù)厚度檢測(cè)單元檢測(cè)到的所述待處理基板上各位置的實(shí)際厚度來(lái)判斷所述待處理基板是否為異?；宓幕迮袛鄦卧?。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的準(zhǔn)分子激光退火裝置，其特征在于，所述厚度檢測(cè)單元包括：激光位移傳感器，激光位移傳感器設(shè)置于工藝腔室的頂部。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的準(zhǔn)分子激光退火裝置，其特征在于，還包括：與所述基板判斷單元連接、用于在基板判斷單元判斷出所述待處理基板為異?；鍟r(shí)記錄所述異常基板的基板信息的記錄單元。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的準(zhǔn)分子激光退火裝置，其特征在于，所述基板信息包括：異?；宓男蛱?hào)、異?；迳袭惓｜c(diǎn)的數(shù)量、異?；迳袭惓｜c(diǎn)的位置、異?；迳袭惓｜c(diǎn)的實(shí)際厚度中的至少一者。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的準(zhǔn)分子激光退火裝置，其特征在于，還包括：與所述基板判斷單元連接、用于在基板判斷單元判斷出所述待處理基板為異?；鍟r(shí)進(jìn)行報(bào)警的報(bào)警單元。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的準(zhǔn)分子激光退火裝置，其特征在于，基板判斷單元包括：

與所述厚度檢測(cè)單元連接、用于判斷相應(yīng)位置的實(shí)際厚度是否處于預(yù)設(shè)厚度范圍內(nèi)的厚度判斷模塊；

與所述厚度判斷模塊連接、用于在厚度判斷模塊判斷出相應(yīng)位置的實(shí)際厚度不處于預(yù)設(shè)厚度范圍內(nèi)時(shí)確定出該相應(yīng)位置為異常點(diǎn)的異常點(diǎn)確定模塊；

與所述異常點(diǎn)確定模塊連接、用于統(tǒng)計(jì)所述待處理基板上異常點(diǎn)的數(shù)量的數(shù)量統(tǒng)計(jì)模塊；

與所述數(shù)量統(tǒng)計(jì)模塊連接、用于判斷所述數(shù)量統(tǒng)計(jì)模塊統(tǒng)計(jì)出的異常點(diǎn)的數(shù)量是否大于預(yù)設(shè)數(shù)量值的數(shù)量判斷模塊；

與所述數(shù)量判斷模塊連接、用于在數(shù)量判斷模塊判斷出異常點(diǎn)的數(shù)量大于預(yù)設(shè)數(shù)量值時(shí)確定出所述待處理基板為異常基板的異?；宕_定模塊。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任一所述的準(zhǔn)分子激光退火裝置，其特征在于，還包括：承載待處理基板的工作臺(tái)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的準(zhǔn)分子激光退火裝置，其特征在于，還包括：與所述工作臺(tái)連接、用于帶動(dòng)工作臺(tái)運(yùn)動(dòng)的運(yùn)動(dòng)單元。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的準(zhǔn)分子激光退火裝置，其特征在于，所述運(yùn)動(dòng)單元還用于在基板判斷單元判斷出所述待處理基板為異?；鍟r(shí)將帶動(dòng)工作臺(tái)向工藝腔室的基板運(yùn)輸口的一側(cè)運(yùn)動(dòng)，以將異?；暹\(yùn)輸至工藝腔室外。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的準(zhǔn)分子激光退火裝置，其特征在于，所述厚度檢測(cè)單元位于所述工藝腔室的頂部且靠近工藝腔室的基板運(yùn)輸口的一側(cè)。