[實用新型]一種接近式曝光裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201720190317.5
• 申請日: 2017-02-28
• 公開（公告）號: CN206479771U
• 公開（公告）日: 2017-09-08
• 發(fā)明（設計）人: 代偉男
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司11274
• 代理人: 申健

技術(shù)領域

本實用新型涉及顯示技術(shù)領域，尤其涉及一種接近式曝光裝置。

背景技術(shù)

TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，薄膜晶體管液晶顯示器)是目前主流的液晶顯示器，而薄膜晶體管陣列基板和彩膜基板是其顯示面板的主要構(gòu)成部件。在陣列基板和彩膜基板的制備過程中，光刻工藝是非常重要的；目前的光刻工藝通常包括：涂敷光刻膠、前烘、曝光、顯影以及后烘等。其中，曝光是采用曝光光線通過掩膜板照射在待曝光基板的光刻膠上，將光刻膠感光；在實際應用中，通常需要曝光區(qū)域均勻感光才能獲得較好的曝光效果，而曝光效果的好壞直接影響整個顯示裝置的良率。

現(xiàn)有的接近式曝光機中的曝光光源常常采用高壓紫外汞燈，如圖1所示，為了提高光線利用率，高壓紫外汞燈01外圍還設置有拋物面鏡02，但由于高壓紫外汞燈01并非理想化的點光源，在經(jīng)過拋物面鏡02的焦點以外的光線不會以平行的方向傳播出去，這樣便導致了來自不同方向上光線的疊加，使得到達曝光基臺上的各區(qū)域光線的照度出現(xiàn)不均勻的情況。雖然現(xiàn)有技術(shù)中通常會在曝光光源與曝光基臺之間的光路上設置復眼透鏡來均一化各區(qū)域的照度，但由于復眼透鏡主要用于均一化小范圍區(qū)域內(nèi)的照度，對整個曝光區(qū)域的照度均一化的效果較差，這樣導致整體的曝光效果較差。

實用新型內(nèi)容

本實用新型的實施例提供一種接近式曝光裝置，能夠調(diào)節(jié)不同區(qū)域的曝光光線的透過率，使得整個曝光區(qū)域的照度更加均一化。

為達到上述目的，本實用新型的實施例采用如下技術(shù)方案：

本實用新型實施例提供一種接近式曝光裝置，包括用于提供曝光光線的光源，以及設置在所述曝光光線的光路上的光線開關件、濾光器、復眼透鏡、凹面鏡和曝光基臺，其中，所述光線開關件用于允許或阻擋所述曝光光線的通過，所述濾光器用于透射預設波段的曝光光線，所述復眼透鏡包括在二維方向上分布的多個子眼單元，還包括：

調(diào)光面板，所述調(diào)光面板位于所述復眼透鏡和所述濾光器之間或所述復眼透鏡和所述凹面鏡之間的光路上；所述調(diào)光面板包括在二維方向上分布的多個調(diào)光單元，每個所述調(diào)光單元在不同的工作電壓下具有不同的光線透過率。

可選的，每個所述調(diào)光單元的面積大于每個所述子眼單元在垂直于光路的平面上的投影的面積。

可選的，每個所述調(diào)光單元的面積為每個所述子眼單元在垂直于光路的平面上的投影的面積的2～3倍。

可選的，所述調(diào)光面板包括相對設置的第一基板和第二基板，以及位于所述第一基板和所述第二基板之間的電致變色材料；

所述調(diào)光面板還包括用于向所述電致變色材料施加電壓的電極。

可選的，所述調(diào)光面板為液晶面板，所述液晶面板包括相對設置的第一基板和第二基板，以及位于所述第一基板和所述第二基板之間的液晶；

所述調(diào)光面板還包括用于向所述液晶施加電壓的電極。

可選的，所述電致變色材料為氧化鎢。

可選的，所述第一基板和所述第二基板均為石英玻璃。

可選的，所述調(diào)光面板與所述曝光光線的傳播方向垂直。

可選的，還包括冷卻送風模塊，所述冷卻送風模塊包括朝向所述調(diào)光面板的出風口，所述冷卻送風模塊通過所述出風口向所述調(diào)光面板輸送冷風。

可選的，在所述光源與所述光線開關件之間的光路上設置有第一平面鏡；在所述凹面鏡與所述曝光基臺之間的光路上設置有第二平面鏡。

本實用新型實施例提供的接近式曝光裝置，包括用于提供曝光光線的光源，以及設置在曝光光線的光路上的光線開關件、濾光器、復眼透鏡、凹面鏡和曝光基臺，其中，光線開關件用于允許或阻擋曝光光線的通過，濾光器用于透射預設波段的曝光光線，復眼透鏡包括在二維方向上分布的多個子眼單元，還包括：調(diào)光面板，調(diào)光面板位于復眼透鏡和濾光器之間或復眼透鏡和凹面鏡之間的光路上；調(diào)光面板包括在二維方向上分布的多個調(diào)光單元，每個調(diào)光單元在不同的工作電壓下具有不同的光線透過率。相較于現(xiàn)有技術(shù)，本實用新型實施例提供的接近式曝光裝置中通過在復眼透鏡和濾光器之間或復眼透鏡和凹面鏡之間的光路上設置調(diào)光面板，利用給調(diào)光面板上的不同調(diào)光單元施加不同工作電壓而使其具有不同的光線透過率，以此減少照度較大區(qū)域的光線透過量，從而使得整個曝光區(qū)域的照度更加均一化，這樣提高了整體的曝光效果。

附圖說明