[實用新型]一種接近式曝光裝置有效
| 申請號: | 201720190317.5 | 申請日: | 2017-02-28 |
| 公開(公告)號: | CN206479771U | 公開(公告)日: | 2017-09-08 |
| 發明(設計)人: | 代偉男 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京中博世達專利商標代理有限公司11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 接近 曝光 裝置 | ||
1.一種接近式曝光裝置,包括用于提供曝光光線的光源,以及設置在所述曝光光線的光路上的光線開關件、濾光器、復眼透鏡、凹面鏡和曝光基臺,其中,所述光線開關件用于允許或阻擋所述曝光光線的通過,所述濾光器用于透射預設波段的曝光光線,所述復眼透鏡包括在二維方向上分布的多個子眼單元,其特征在于,還包括:
調光面板,所述調光面板位于所述復眼透鏡和所述濾光器之間或所述復眼透鏡和所述凹面鏡之間的光路上;所述調光面板包括在二維方向上分布的多個調光單元,每個所述調光單元在不同的工作電壓下具有不同的光線透過率。
2.根據權利要求1所述的接近式曝光裝置,其特征在于,每個所述調光單元的面積大于每個所述子眼單元在垂直于光路的平面上的投影的面積。
3.根據權利要求2所述的接近式曝光裝置,其特征在于,每個所述調光單元的面積為每個所述子眼單元在垂直于光路的平面上的投影的面積的2~3倍。
4.根據權利要求1所述的接近式曝光裝置,其特征在于,所述調光面板包括相對設置的第一基板和第二基板,以及位于所述第一基板和所述第二基板之間的電致變色材料;
所述調光面板還包括用于向所述電致變色材料施加電壓的電極。
5.根據權利要求1所述的接近式曝光裝置,其特征在于,所述調光面板為液晶面板,所述液晶面板包括相對設置的第一基板和第二基板,以及位于所述第一基板和所述第二基板之間的液晶;
所述調光面板還包括用于向所述液晶施加電壓的電極。
6.根據權利要求4所述的接近式曝光裝置,其特征在于,所述電致變色材料為氧化鎢。
7.根據權利要求4或5所述的接近式曝光裝置,其特征在于,所述第一基板和所述第二基板均為石英玻璃。
8.根據權利要求1所述的接近式曝光裝置,其特征在于,所述調光面板與所述曝光光線的傳播方向垂直。
9.根據權利要求1所述的接近式曝光裝置,其特征在于,還包括冷卻送風模塊,所述冷卻送風模塊包括朝向所述調光面板的出風口,所述冷卻送風模塊通過所述出風口向所述調光面板輸送冷風。
10.根據權利要求1所述的接近式曝光裝置,其特征在于,在所述光源與所述光線開關件之間的光路上設置有第一平面鏡;在所述凹面鏡與所述曝光基臺之間的光路上設置有第二平面鏡。
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