[實用新型]一種鍍膜基膜放置臺及鍍膜機

有效

• 申請號: 201720145268.3
• 申請日: 2017-02-17
• 公開（公告）號: CN206418195U
• 公開（公告）日: 2017-08-18
• 發明（設計）人: 林正亮;宣華偉;姚林生
• 申請（專利權）人: 鄭州華翔電子信息技術有限公司
• 主分類號: C23C14/50
• 分類號: C23C14/50;C23C14/24
• 代理公司: 成都弘毅天承知識產權代理有限公司51230
• 代理人: 李春芳

技術領域

本實用新型涉及鍍膜機領域，尤其涉及一種帶有鍍膜基膜放置臺及鍍膜機。

背景技術

目前，鍍膜機按照其應用領域很廣泛，可以分為電子蒸發鍍膜機、磁控濺射鍍膜機、等離子鍍膜機、射頻鍍膜機、關學鍍膜機設備等等，但是他們的結構差不多：主要有三大部分組成：真空主體——真空腔，輔助排氣系統(包括排氣系統、真空測量系統)、蒸發系統(包括坩堝及回轉控制系統、電子槍柜)、成膜控制系統。主要用于五金件、玻璃工藝品、陶瓷工藝品等，如手表、手機金屬殼、電腦、潔具、刀具、模型、電子產品、塑料制品、亞克力板材、陶瓷、樹脂、水晶玻璃制品等、化妝包等、工藝品、塑料手機殼、電子產品、建料等行業、燈具、手機視窗、眼睛、舞臺燈光等。在電容的制造過程中也需要進行鍍膜處理。現在多采用基膜處理，再在基膜上進行金屬鍍膜處理，后處理之后，得到成品。有的需要進行金屬加厚處理，有的成品需要鍍單邊金屬，有的需要鍍雙面金屬。其中膜的均勻性會直接影響電容的性能?，F有的鍍膜基膜放置臺大多是一個直接的旋轉臺，可以實現單邊鍍膜；或者直接使用卷繞方式，實現雙邊鍍膜。這樣會造成單邊鍍膜與雙邊鍍膜需要進行分開處理，而造成成本增加。與此同時，大多數的單邊鍍膜的旋轉臺無法精確控制旋轉角度，很難靈活的控制基膜的鍍膜位置，實現精確鍍膜。

發明內容

本實用新型的目的在于：針對上述有單邊鍍膜與雙邊鍍膜的所需處理臺的結構不一致而導致的機器成本增加的問題，本實用新型提供一種可以實現單邊鍍膜也可以實現雙邊鍍膜的鍍膜基膜放置臺以及帶有鍍膜基膜放置臺的鍍膜機。

本實用新型采用的技術方案如下：

一種鍍膜基膜放置臺,包括呈圓臺狀的固定臺，固定臺上呈同心圓設置的圓柱形旋轉臺，固定臺內部設置有用于驅動旋轉臺旋轉的旋轉驅動機構，旋轉臺沿徑向開設有凹槽，凹槽內設置有左限位塊與右限位塊，旋轉臺開設有孔，支撐架通過螺栓固定在旋轉臺上，支撐架上固定有至少兩個卷繞棍。

旋轉驅動機構可以是步進電機和絲杠組成，也可以選用其他驅動旋轉臺旋轉即可。當需要進行單邊鍍膜時，可以直接將基膜置于左右限位塊之間就可以。即使在密閉空間，每個位置的溫度存在區別；鍍膜時候進行旋轉，可以使得基膜受熱均勻，這樣能提高鍍膜的均勻度。旋轉臺上開設有孔，支撐架通過螺栓來固定在旋轉臺的孔上，通常需要四個孔，而具體的位置長度可以根據實際基膜的大小來確定。支架上固定有兩個卷繞棍，卷繞棍的運方向不同，從而實現雙邊鍍膜。同時操作起來也比較簡單，不容易出錯。也可以設置多個卷繞棍，合理設置位置以及運行情況，實現雙邊鍍膜。

一種帶有鍍膜基膜放置臺的鍍膜機，包括鍍膜罐體，鍍膜罐體的下方設置有基膜放置臺，罐體的頂端設置有法蘭罩，罐體的底端設置有真空接入系統以及蒸發源；基膜放置臺包括呈圓臺的固定臺，固定臺上設置有呈同心圓設置的圓柱形旋轉臺，固定臺內部設置有用于驅動旋轉臺旋轉的旋轉驅動機構，旋轉臺沿徑向開設有凹槽，凹槽內設置有左限位塊與右限位塊，旋轉臺開設有孔，支撐架通過螺栓固定在旋轉臺上，支撐架上固定有至少兩個卷繞棍。法蘭罩實現密封，同時也可以在需要的時候取出；真空接入系統主要是維持罐體內的真空情況；蒸發源主要提供金屬氣化，然后金屬氣化之后進入到基膜上，實現鍍膜。

具體地，罐體上設置有多個進氣孔，進氣孔配套設置有進氣裝置。有時候，需要進行通氣，在罐體上開設多個孔，可以增大進氣量，更好的提高鍍膜的均勻度。

具體地，基膜放置臺上的左限位塊與右限位塊與凹槽之間設置有沿徑向設置有可調節螺栓。可調節螺栓可以調節左右限位塊的位置，這樣可以放置不同大小的基膜，同時也可以更好的將基膜夾在凹槽中。

具體地，旋轉臺與固定臺上均設置有刻度線，刻度零點起始位置相同，旋轉臺上的刻度比固定臺的刻度多。一般的旋轉會在旋轉臺上設置刻度，但是當運動振動等會造成誤差。利用游標卡尺的讀數原理，將固定臺與旋轉臺同直徑位置處相應設置刻度。兩個刻度結合，實現旋轉度的精確讀數，可以精確的控制基膜的旋轉位置，實現精確鍍膜，從而提高鍍膜的均勻度。

具體地，罐體內部還設置有金屬回收箱。金屬回收箱主要用于回收被鍍金屬，實現資源回收。

具體地，蒸發室包括依次連接的蒸發器，氣壓表和蒸發出口。

綜上所述，由于采用了上述技術方案，本實用新型的有益效果是：

1.本實用新型巧妙的設置旋轉臺，在旋轉臺上增設限位塊與導輥，從而實現單邊鍍膜與雙邊鍍膜；同時結構簡單，操作簡單，不易出錯。鍍膜時候均旋轉，提高鍍膜的膜的均勻度。

2.在罐體上開設多個孔，可以增大進氣量，更好的提高鍍膜的均勻度。