[實(shí)用新型]一種基板的拋光裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201720125087.4
• 申請日: 2017-02-10
• 公開（公告）號(hào): CN206677689U
• 公開（公告）日: 2017-11-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張民井;洪耀;毛成飛;曹瑞豐;郭豐;高裕弟;孫劍
• 申請（專利權(quán)）人: 棗莊維信諾電子科技有限公司
• 主分類號(hào): B24B7/24
• 分類號(hào): B24B7/24;B24B41/06;B24B51/00;B24B47/16;B24B41/02;B24B49/00
• 代理公司: 北京三聚陽光知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11250
• 代理人: 張建綱

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及基板表面處理技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種基板的拋光裝置。

背景技術(shù)

OLED顯示技術(shù)具有自發(fā)光的特性，采用非常薄的有機(jī)材料涂層和玻璃基板，當(dāng)有電流通過時(shí)，這些有機(jī)材料就會(huì)發(fā)光，OLED顯示屏幕可視角度大并且節(jié)省電能，近年來該顯示設(shè)備已經(jīng)得到了越來越多的廣泛運(yùn)用。其中OLED的基本結(jié)構(gòu)是由一薄而透明具半導(dǎo)體特性之銦錫氧化物(ITO)作為陽極，再加上金屬陰極，與有機(jī)材料包成如三明治的結(jié)構(gòu)。

其中ITO已廣泛應(yīng)用在商業(yè)化的顯示器面板制造，其具有高透射率、低電阻率及高功函數(shù)等優(yōu)點(diǎn)。一般而言，利用射頻濺鍍法(RF sputtering)所制造的ITO，易受工藝控制因素不良而導(dǎo)致表面不平整，進(jìn)而產(chǎn)生表面的尖端物質(zhì)或突起物。另外高溫鍛燒及再結(jié)晶的過程亦會(huì)產(chǎn)生表面突起層。這些不平整層的細(xì)粒之間所形成的路徑會(huì)提供空穴直接射向陰極的機(jī)會(huì)，而這些錯(cuò)綜復(fù)雜的路徑會(huì)使漏電流增加，因此對(duì)ITO表面平整度的控制尤為重要。

OLED發(fā)光器件對(duì)其透明陽極的表面ITO表面的粗糙度有較高的要求，目前業(yè)內(nèi)普遍會(huì)對(duì)該ITO材料表面進(jìn)行拋光再處理，以提高粗糙度改善器件良率?，F(xiàn)有技術(shù)中普遍采用的是類似于拋光玻璃基板的方式(旋轉(zhuǎn)拋光)對(duì)陽極表面進(jìn)行處理。

例如韓國專利文獻(xiàn)KR1020060029332A中公開了一種用于OLED的ITO薄膜的拋光裝置，其中該OLED的ITO薄膜的拋光裝置被用于以提高ITO表面的拋光精度，其包括自旋轉(zhuǎn)控制器、加壓控制器、和操作面板。該OLED的ITO薄膜的拋光裝置主要包括下壓板、拋光墊、具有拋光固定器的臺(tái)板、氣缸、旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)單元，其中旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)單元用于旋轉(zhuǎn)所述下壓板，下壓板按壓所述臺(tái)板上，拋光溶液供應(yīng)單元用于提供拋光溶液到所述下壓板，自旋控制器用于控制所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)單元，所述氣缸的加壓控制器用于調(diào)整所述氣缸的運(yùn)動(dòng)，旋轉(zhuǎn)控制器用于控制所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)單元。

但上述專利文獻(xiàn)中的拋光裝置主要通過旋轉(zhuǎn)拋光方式對(duì)ITO表面進(jìn)行處理，上述旋轉(zhuǎn)拋光方式存在以下缺點(diǎn)：(1)旋轉(zhuǎn)速度過快，無法有效控制襯底ITO表面的拋光剝離厚度，且由于是采用小面積的拋光板旋轉(zhuǎn)式來回拋光整體基板，因此完整拋光一個(gè)基板表面的時(shí)間較長、拋光效率低，且基板表面的整體粗糙度難以控制；(2)該拋光裝置搭配的拋光板材質(zhì)較硬，適用于玻璃基板，但用于ITO拋光時(shí)，對(duì)ITO等半導(dǎo)體材質(zhì)損傷較大，在ITO表面易造成大量的PIN HOLE(穿孔)不良現(xiàn)象，拋光過程可控性差，影響器件發(fā)光效率。

實(shí)用新型內(nèi)容

因此，本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題在于克服現(xiàn)有技術(shù)中的拋光效率低、可控性差、已造成產(chǎn)品表面拋光不良的缺陷，從而提供一種操作簡單，降低基板表面拋光過渡磨損的基板的拋光裝置。

為此，此處依次列出權(quán)利要求書記載的全部技術(shù)方案；

一種基板的拋光裝置，其包括：基座，所述基座支承拋光部，所述基座上設(shè)置有放置所述基板的拋光墊；拋光部，其包括與所述基板接觸的拋光板，所述拋光板設(shè)置于所述基座上且位于所述拋光墊的上方；驅(qū)動(dòng)部，所述驅(qū)動(dòng)部固定在所述基座上，所述驅(qū)動(dòng)部驅(qū)動(dòng)所述拋光部直線往復(fù)運(yùn)動(dòng)。

進(jìn)一步地，所述拋光墊為方形墊，所述拋光板平行于所述拋光墊的一條邊設(shè)置，且其長度與所述拋光墊的所述邊相符，所述拋光板沿與所述邊垂直的另一條邊進(jìn)行直線往復(fù)運(yùn)動(dòng)。

進(jìn)一步地，所述拋光裝置還包括傳動(dòng)部和引導(dǎo)裝置，所述傳動(dòng)部連接所述驅(qū)動(dòng)部與所述拋光部，所述拋光部通過連接件分別與所述傳動(dòng)部和所述引導(dǎo)裝置連接。

進(jìn)一步地，所述傳動(dòng)部包括水平帶傳動(dòng)裝置，所述水平帶傳動(dòng)裝置包括位于所述拋光墊前后兩端的水平帶輪和沿所述拋光板運(yùn)動(dòng)方向設(shè)置的水平傳動(dòng)帶，所述連接件的上表面與所述水平傳動(dòng)帶固定連接。

進(jìn)一步地，所述引導(dǎo)裝置為滑軌，所述連接件的下表面設(shè)置有與所述滑軌配合的所述滑槽，所述滑槽內(nèi)設(shè)置有與所述滑軌抵接的滾輪。

進(jìn)一步地，所述水平帶傳動(dòng)裝置和所述滑軌設(shè)置在所述拋光墊的至少一側(cè)。

進(jìn)一步地，所述傳動(dòng)部還包括豎向帶傳動(dòng)裝置，所述豎向帶傳動(dòng)裝置的一個(gè)帶輪與所述驅(qū)動(dòng)部的輸出端連接，所述豎向帶傳動(dòng)裝置的另一個(gè)帶輪與所述水平帶傳動(dòng)裝置其中一端的主動(dòng)水平帶輪同軸設(shè)置。

進(jìn)一步地，所述基座為框架體，所述驅(qū)動(dòng)部設(shè)置于所述框架體內(nèi)，所述框架體上表面還設(shè)有允許所述豎向傳動(dòng)裝置的傳動(dòng)帶通過的槽體。

進(jìn)一步地，所述拋光部還包括與所述拋光板連接的壓力調(diào)節(jié)裝置和壓力檢測件，所述壓力調(diào)節(jié)裝置控制所述拋光板與所述基板表面的接觸壓力。