[實用新型]一種制備石墨烯薄膜的裝置

有效

• 申請號: 201720109875.4
• 申請日: 2017-02-05
• 公開（公告）號: CN206680186U
• 公開（公告）日: 2017-11-28
• 發明（設計）人: 張恒
• 申請（專利權）人: 河北索蘭烯業新材料科技有限公司
• 主分類號: C01B32/184
• 分類號: C01B32/184
• 代理公司: 北京和信華成知識產權代理事務所(普通合伙)11390
• 代理人: 胡劍輝

技術領域

本實用新型是一種制備石墨烯薄膜的裝置，屬于石墨烯薄膜領域。

背景技術

石墨烯是從石墨材料中剝離出來、由碳原子組成的只有一層原子厚度的二維晶體。用石墨烯取代硅，計算機處理器的運行速度將會快數百倍。

現有技術公開了申請號200410025809.6一種熱等離子體霧態氣化制備薄膜的裝置，該裝置包括氣體供給源、超聲霧化器、等離子體炬發生裝置、石英管沉積反應室及其雙向可調低速電機、熱電偶和溫控儀、銅網屏蔽罩等，本發明的裝置無需抽真空設備，薄膜沉積反應均在常壓進行。使用本裝置時，將適當的源物質溶于水配置成先體溶液，采用超聲霧化將先體霧化成液滴，用載氣將霧滴輸運到等離子體中，在常壓沉積薄膜；本裝置可使用的源物質為能溶于水或烯酸的單質或化合物如金屬氧化物、硝酸鹽、氯化物和硫酸鹽等。本發明可采用的源物質來源廣泛，可制備的薄膜種類幾乎不受源物質的限制；采用單一的水溶液為先體，薄膜的組份調節方便；薄膜沉積速率高，一次成膜，無需多次涂覆或后續熱處理，薄膜制備周期短；所制備的薄膜光滑致密，并可在線大面積沉積薄膜。現有的制備石墨烯薄膜的裝置無法做到在運行中讓其更加穩定、加快控制。

實用新型內容

針對現有技術存在的不足，本實用新型目的是提供一種制備石墨烯薄膜的裝置，以解決現有的制備石墨烯薄膜的裝置無法做到在運行中讓其更加穩定、加快控制的問題。

為了實現上述目的，本實用新型是通過如下的技術方案來實現：一種制備石墨烯薄膜的裝置，其結構包括磁控板、直流磁環、高頻框架、控頻裝置、光譜層、離子層、氧化膜層，所述高頻框架兩端設有直流磁環，所述控頻裝置兩側連接有磁控板，所述高頻框架內部設有控頻裝置，所述控頻裝置包括氣體管體、一位電極、氧化管體、內框板、氧化烯釋體、二位電極，所述氣體管體一端連接有一位電極外側，所述一位電極內側連接有氧化管體一側，所述氧化管體內部設有氧化烯釋體，所述離子層連接有氧化膜層。

進一步地，所述一位電極連接有內框板內側。

進一步地，所述二位電極連接有內框板內側。

進一步地，所述光譜層連接有離子層。

進一步地，所述光譜層連接有氧化膜層。

進一步地，所述氣體管體設有氣體流動。

有益效果

本實用新型的一種制備石墨烯薄膜的裝置，控頻裝置包括氣體管體、一位電極、氧化管體、內框板、氧化烯釋體、二位電極，氣體管體一端連接有一位電極外側，一位電極內側連接有氧化管體一側，氧化管體內部設有氧化烯釋體，通過控頻裝置兩側連接有磁控板，做到了在運行中讓其更加穩定、加快控制。

附圖說明

通過閱讀參照以下附圖對非限制性實施例所作的詳細描述，本實用新型的其它特征、目的和優點將會變得更明顯：

圖1為本實用新型控頻裝置的結構示意圖；

圖2為本實用新型一種制備石墨烯薄膜的裝置的結構示意圖；

圖中：磁控板-1、直流磁環-2、高頻框架-3、控頻裝置-4、光譜層-5、離子層-6、氧化膜層-7、氣體管體-8、一位電極-9、氧化管體-10、內框板-11、氧化烯釋體-12、二位電極-13。

具體實施方式

為使本實用新型實現的技術手段、創作特征、達成目的與功效易于明白了解，下面結合具體實施方式，進一步闡述本實用新型。

請參閱圖1與圖2，本實用新型提供一種技術方案：其結構包括磁控板1、直流磁環2、高頻框架3、控頻裝置4、光譜層5、離子層6、氧化膜層7，所述高頻框架3兩端設有直流磁環2，所述控頻裝置4兩側連接有磁控板1，所述高頻框架3內部設有控頻裝置4，所述控頻裝置4包括氣體管體8、一位電極9、氧化管體10、內框板11、氧化烯釋體12、二位電極13，所述氣體管體8一端連接有一位電極9外側，所述一位電極9內側連接有氧化管體10一側，所述氧化管體10內部設有氧化烯釋體12，所述離子層6連接有氧化膜層7，所述一位電極9連接有內框板11內側，所述二位電極13連接有內框板11內側，所述光譜層5連接有離子層6，所述光譜層5連接有氧化膜層7。本實用新型的有益效果是通過控頻裝置兩側連接有磁控板，做到了在運行中讓其更加穩定、加快控制。

在進行使用時，整體帶動磁控板、直流磁環、高頻框架、控頻裝置配合運行實現制備石墨烯薄膜，運行中控頻裝置氣體管體、氧化管體、氧化烯釋體實現加強穩定、加快控制。

如室內降溫采用空調降溫，能有效達到降溫效果，避免了風吹帶來的不便。