[實用新型]預(yù)涂單元及包括此的藥液噴嘴管理裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201720106086.5
• 申請日: 2017-01-26
• 公開（公告）號: CN206613643U
• 公開（公告）日: 2017-11-07
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 趙康一
• 申請（專利權(quán)）人: K.C.科技股份有限公司
• 主分類號: B05B15/00
• 分類號: B05B15/00;B05B15/02
• 代理公司: 北京銘碩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11286
• 代理人: 孫昌浩,李盛泉

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及一種預(yù)涂單元及包括此的藥液噴嘴管理裝置，尤其涉及一種具有藥液的預(yù)排出、藥液噴嘴的清洗及凈化功能的預(yù)涂單元及包括該預(yù)涂單元的藥液噴嘴管理裝置。

背景技術(shù)

通常，在半導(dǎo)體設(shè)備或平板顯示器(FPD；flat panel display)的制造工藝中，執(zhí)行將與光源反應(yīng)的感光液涂布在薄膜上的涂覆工藝，以使在被處理基板上執(zhí)行特定功能的薄膜，如氧化薄膜、金屬薄膜、半導(dǎo)體薄膜等被圖案化成所期望的形狀。

如上所述，在被處理基板的薄膜以構(gòu)成預(yù)定的電路圖案的方式涂布感光液而涂覆感光膜，并將所述感光膜對應(yīng)于電路圖案地曝光，從而將被曝光的部位或者未被曝光的部位顯影處理而去除的一系列的過程稱為光刻工藝或光蝕工藝(Photolithography)。

尤其，在所述光刻工藝中，只有感光膜以預(yù)定的厚度均勻地生成才能夠在制造工序中不產(chǎn)生不良。例如，在感光膜比基準(zhǔn)值厚地生成的情況下，薄膜中的所期望的部分可能無法被蝕刻，并且在感光膜比基準(zhǔn)值薄地生成的情況下，薄膜可能比所期望的蝕刻量被蝕刻更多。

因此，若要在被處理基板生成均勻的厚度的感光膜，需要首先在被處理基板上以均勻的厚度涂布感光液(以下稱為“藥液”)。

另外，隨著顯示基板大小的大型化，利用狹縫噴嘴(Slit Nozzle)的狹縫涂覆方式作為藥液涂覆方式而被廣泛地使用。

狹縫涂覆方式是通過將長度對應(yīng)于被處理基板的寬度的狹縫噴嘴沿著基板移送并噴射藥液而涂布的方式。

在利用所述狹縫噴嘴的狹縫涂覆裝置中配備有如下的預(yù)涂單元，在被處理基板上涂布藥液之前，以使藥液的珠(bead)以均勻的濃度和流量結(jié)在狹縫噴嘴的排出端的方式將藥液預(yù)排出。

關(guān)于這種預(yù)涂單元的現(xiàn)有技術(shù)被公開于韓國授權(quán)專利第10-0840528號、韓國授權(quán)專利第10-1206776號、韓國授權(quán)專利第10-0781771號等中。

現(xiàn)有的預(yù)涂單元存在如下的問題。

配備于現(xiàn)有的預(yù)涂單元的預(yù)涂輥由圓筒形輥部以及結(jié)合到其兩側(cè)的軸部形成，其中，在所述輥部和軸部構(gòu)成為通過焊接而被制造成一體型結(jié)構(gòu)之后進(jìn)行輥部的輥加工，因此輥的加工程度受到軸部的加工程度的相當(dāng)大的影響，因此存在難以對輥部的直線度(圓柱度)和圓度的誤差范圍進(jìn)行精細(xì)地管理的同時進(jìn)行加工的問題。

并且，以往的預(yù)涂單元是用于將預(yù)排出而沾在預(yù)涂輥的外側(cè)面的藥液清洗的單元，由于在清洗槽內(nèi)配備有泡沫噴射機(jī)(bubble jet)、氣刀(air knife)等清洗及干燥單元，所以存在產(chǎn)生過多的煙霧(fume)而使預(yù)涂輥的清洗效率降低的問題。

并且，以往的預(yù)涂單元在電機(jī)的旋轉(zhuǎn)軸和預(yù)涂輥的軸部分別結(jié)合有作為用于旋轉(zhuǎn)預(yù)涂輥的驅(qū)動及動力傳遞單元的滑輪，并且動力在滑輪之間通過同步帶(timing belt)而被傳遞，從而存在驅(qū)動時由于帶的分叉而產(chǎn)生異物的問題。

并且，以往的預(yù)涂單元在通過調(diào)整水平(level)而使預(yù)涂輥成為水平狀態(tài)時，由于形成為將整個預(yù)涂單元作為對象而進(jìn)行水平調(diào)整作業(yè)的結(jié)構(gòu)，因此存在預(yù)涂輥的水平調(diào)整作業(yè)困難的問題。

并且，以往的預(yù)涂單元的用途被限定為藥液的預(yù)排出、分離去除殘留在預(yù)涂輥的藥液和清洗液的殘留物的用途，并且所述以往的預(yù)涂單元構(gòu)成為噴嘴的清洗和凈化作業(yè)由單獨配備的裝置而執(zhí)行，從而使藥液的預(yù)排出和狹縫噴嘴的清洗及凈化作業(yè)在空間上分離的位置分別獨立地進(jìn)行，因此存在裝置的維持管理不方便的問題。

實用新型內(nèi)容

本實用新型為了解決上述問題而提出，其目的在于提供一種配備預(yù)涂輥的預(yù)涂單元，所述預(yù)涂單元能夠?qū)⒅亓繙p輕并防止下垂，從而提高了直線度和圓度。

本實用新型的另一目的在于，提供一種藥液噴嘴管理裝置，所述藥液噴嘴管理裝置在鄰近的區(qū)域快速且連續(xù)地執(zhí)行藥液的預(yù)排出、藥液噴嘴的清洗及凈化作業(yè)，并簡化了裝置的結(jié)構(gòu)。

用于實現(xiàn)上述目的的本實用新型的預(yù)涂單元的特征在于，配備有藥液從藥液噴嘴預(yù)排出的預(yù)涂輥，所述預(yù)涂輥由輥部以及結(jié)合于所述輥部的兩側(cè)的軸部形成，且所述輥部和所述軸部被單獨地制造而彼此結(jié)合。

所述輥部的內(nèi)部可以形成為中空型。

還可以以如下方式配備的清洗槽：在內(nèi)部收容清洗液，并且以所述預(yù)涂輥的外周面下部被浸漬于所述清洗液內(nèi)，所述輥部在借助浮力而漂浮在清洗液上的狀態(tài)下得到支撐，從而防止所述預(yù)涂輥的下垂。

所述清洗槽的下部可以形成為包圍所述預(yù)涂輥的外周面局部的彎曲型結(jié)構(gòu)。