[實(shí)用新型]預(yù)涂單元及包括此的藥液噴嘴管理裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201720106086.5
• 申請(qǐng)日: 2017-01-26
• 公開（公告）號(hào): CN206613643U
• 公開（公告）日: 2017-11-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 趙康一
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: K.C.科技股份有限公司
• 主分類號(hào): B05B15/00
• 分類號(hào): B05B15/00;B05B15/02
• 代理公司: 北京銘碩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11286
• 代理人: 孫昌浩,李盛泉

1.一種預(yù)涂單元，其特征在于，

配備有藥液從藥液噴嘴預(yù)排出的預(yù)涂輥，

所述預(yù)涂輥由輥部以及結(jié)合于所述輥部的兩側(cè)的軸部形成，且所述輥部和所述軸部被單獨(dú)地制造而彼此結(jié)合。

2.如權(quán)利要求1所述的預(yù)涂單元，其特征在于，

所述輥部的內(nèi)部形成為中空型。

3.如權(quán)利要求2所述的預(yù)涂單元，其特征在于，

還包括以如下方式配備的清洗槽：在內(nèi)部收容清洗液，并且以所述預(yù)涂輥的外周面下部被浸漬于所述清洗液內(nèi)，

所述輥部在借助浮力而漂浮在清洗液上的狀態(tài)下得到支撐，從而防止所述預(yù)涂輥的下垂。

4.如權(quán)利要求3所述的預(yù)涂單元，其特征在于，

所述清洗槽的下部形成為包圍所述預(yù)涂輥的外周面局部的彎曲型結(jié)構(gòu)。

5.如權(quán)利要求3所述的預(yù)涂單元，其特征在于，

還包括：水位感測(cè)部，用于感測(cè)收容于所述清洗槽的清洗液的水位，

所述水位感測(cè)部由上下相隔而配備的高水位傳感器和低水位傳感器構(gòu)成。

6.如權(quán)利要求3所述的預(yù)涂單元，其特征在于，

還包括：擠壓件，以末端接觸到所述預(yù)涂輥的外周面的狀態(tài)配備，通過物刮除的方式將殘留在所述預(yù)涂輥的外周面的藥液和清洗液的殘留物分離去除。

7.如權(quán)利要求6所述的預(yù)涂單元，其特征在于，

所述擠壓件由耐化學(xué)性硅或橡膠材質(zhì)形成。

8.如權(quán)利要求1所述的預(yù)涂單元，其特征在于，

還包括：驅(qū)動(dòng)部，提供使所述預(yù)涂輥旋轉(zhuǎn)的動(dòng)力，

所述驅(qū)動(dòng)部由電機(jī)和聯(lián)軸器形成，所述聯(lián)軸器將所述電機(jī)的旋轉(zhuǎn)軸和所述預(yù)涂輥的軸部結(jié)合在兩側(cè)而向所述預(yù)涂輥傳遞所述電機(jī)的旋轉(zhuǎn)力。

9.如權(quán)利要求1所述的預(yù)涂單元，其特征在于，還包括：

支撐部，支撐所述預(yù)涂輥的軸部，以使所述軸部能夠旋轉(zhuǎn)；

水平狀態(tài)調(diào)整部，用于支撐所述支撐部且將所述預(yù)涂輥調(diào)整到水平狀態(tài)。

10.如權(quán)利要求9所述的預(yù)涂單元，其特征在于，

所述水平狀態(tài)調(diào)整部包括：第一塊，用于放置所述支撐部，且以能夠進(jìn)行升降移動(dòng)的方式配備；第二塊，用于放置所述第一塊，且以能夠沿著水平方向進(jìn)行往復(fù)移動(dòng)的方式配備，

所述第一塊和所述第二塊的接觸面形成為以水平面為基準(zhǔn)而向一側(cè)傾斜的傾斜面。

11.如權(quán)利要求10所述的預(yù)涂單元，其特征在于，

還包括：調(diào)整單元，用于調(diào)整所述第二塊的水平方向移動(dòng)量。

12.如權(quán)利要求11所述的預(yù)涂單元，其特征在于，

所述調(diào)整單元以能夠在原始位置沿著兩個(gè)方向旋轉(zhuǎn)的方式配備，并由螺紋結(jié)合于所述第二塊的螺栓構(gòu)成。

13.如權(quán)利要求12所述的預(yù)涂單元，其特征在于，

還包括：一對(duì)支撐塊，配備于所述第一塊的兩側(cè)，用于支撐所述第一塊，以使所述第一塊能夠沿著垂直方向移動(dòng)。

14.如權(quán)利要求13所述的預(yù)涂單元，其特征在于，

在所述支撐塊形成有引導(dǎo)孔，所述引導(dǎo)孔收容所述第一塊的兩側(cè)端，以使所述第一塊能夠沿著垂直方向升降。

15.一種藥液噴嘴管理裝置，其特征在于，包括：

如權(quán)利要求1至14中的任意一項(xiàng)所述的預(yù)涂單元；

超聲波清洗單元，配備于所述預(yù)涂單元的一側(cè)而利用超聲波振動(dòng)清洗所述藥液噴嘴；

凈化單元，配備于所述預(yù)涂單元的另一側(cè)而收集從所述藥液噴嘴排出的藥液。