[實用新型]預(yù)涂單元及包括此的藥液噴嘴管理裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201720106086.5
• 申請日: 2017-01-26
• 公開（公告）號: CN206613643U
• 公開（公告）日: 2017-11-07
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 趙康一
• 申請（專利權(quán)）人: K.C.科技股份有限公司
• 主分類號: B05B15/00
• 分類號: B05B15/00;B05B15/02
• 代理公司: 北京銘碩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11286
• 代理人: 孫昌浩,李盛泉

1.一種預(yù)涂單元，其特征在于，

配備有藥液從藥液噴嘴預(yù)排出的預(yù)涂輥，

所述預(yù)涂輥由輥部以及結(jié)合于所述輥部的兩側(cè)的軸部形成，且所述輥部和所述軸部被單獨地制造而彼此結(jié)合。

2.如權(quán)利要求1所述的預(yù)涂單元，其特征在于，

所述輥部的內(nèi)部形成為中空型。

3.如權(quán)利要求2所述的預(yù)涂單元，其特征在于，

還包括以如下方式配備的清洗槽：在內(nèi)部收容清洗液，并且以所述預(yù)涂輥的外周面下部被浸漬于所述清洗液內(nèi)，

所述輥部在借助浮力而漂浮在清洗液上的狀態(tài)下得到支撐，從而防止所述預(yù)涂輥的下垂。

4.如權(quán)利要求3所述的預(yù)涂單元，其特征在于，

所述清洗槽的下部形成為包圍所述預(yù)涂輥的外周面局部的彎曲型結(jié)構(gòu)。

5.如權(quán)利要求3所述的預(yù)涂單元，其特征在于，

還包括：水位感測部，用于感測收容于所述清洗槽的清洗液的水位，

所述水位感測部由上下相隔而配備的高水位傳感器和低水位傳感器構(gòu)成。

6.如權(quán)利要求3所述的預(yù)涂單元，其特征在于，

還包括：擠壓件，以末端接觸到所述預(yù)涂輥的外周面的狀態(tài)配備，通過物刮除的方式將殘留在所述預(yù)涂輥的外周面的藥液和清洗液的殘留物分離去除。

7.如權(quán)利要求6所述的預(yù)涂單元，其特征在于，

所述擠壓件由耐化學(xué)性硅或橡膠材質(zhì)形成。

8.如權(quán)利要求1所述的預(yù)涂單元，其特征在于，

還包括：驅(qū)動部，提供使所述預(yù)涂輥旋轉(zhuǎn)的動力，

所述驅(qū)動部由電機和聯(lián)軸器形成，所述聯(lián)軸器將所述電機的旋轉(zhuǎn)軸和所述預(yù)涂輥的軸部結(jié)合在兩側(cè)而向所述預(yù)涂輥傳遞所述電機的旋轉(zhuǎn)力。

9.如權(quán)利要求1所述的預(yù)涂單元，其特征在于，還包括：

支撐部，支撐所述預(yù)涂輥的軸部，以使所述軸部能夠旋轉(zhuǎn)；

水平狀態(tài)調(diào)整部，用于支撐所述支撐部且將所述預(yù)涂輥調(diào)整到水平狀態(tài)。

10.如權(quán)利要求9所述的預(yù)涂單元，其特征在于，

所述水平狀態(tài)調(diào)整部包括：第一塊，用于放置所述支撐部，且以能夠進行升降移動的方式配備；第二塊，用于放置所述第一塊，且以能夠沿著水平方向進行往復(fù)移動的方式配備，

所述第一塊和所述第二塊的接觸面形成為以水平面為基準(zhǔn)而向一側(cè)傾斜的傾斜面。

11.如權(quán)利要求10所述的預(yù)涂單元，其特征在于，

還包括：調(diào)整單元，用于調(diào)整所述第二塊的水平方向移動量。

12.如權(quán)利要求11所述的預(yù)涂單元，其特征在于，

所述調(diào)整單元以能夠在原始位置沿著兩個方向旋轉(zhuǎn)的方式配備，并由螺紋結(jié)合于所述第二塊的螺栓構(gòu)成。

13.如權(quán)利要求12所述的預(yù)涂單元，其特征在于，

還包括：一對支撐塊，配備于所述第一塊的兩側(cè)，用于支撐所述第一塊，以使所述第一塊能夠沿著垂直方向移動。

14.如權(quán)利要求13所述的預(yù)涂單元，其特征在于，

在所述支撐塊形成有引導(dǎo)孔，所述引導(dǎo)孔收容所述第一塊的兩側(cè)端，以使所述第一塊能夠沿著垂直方向升降。

15.一種藥液噴嘴管理裝置，其特征在于，包括：

如權(quán)利要求1至14中的任意一項所述的預(yù)涂單元；

超聲波清洗單元，配備于所述預(yù)涂單元的一側(cè)而利用超聲波振動清洗所述藥液噴嘴；

凈化單元，配備于所述預(yù)涂單元的另一側(cè)而收集從所述藥液噴嘴排出的藥液。