[實用新型]過濾裝置、真空抽氣裝置及刻蝕設備有效
| 申請號: | 201720091813.5 | 申請日: | 2017-01-22 |
| 公開(公告)號: | CN206414873U | 公開(公告)日: | 2017-08-18 |
| 發明(設計)人: | 宋亮;蔣冬華;趙吾陽;廖鵬宇;姜龍;任志明;唐成 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | B01D45/08 | 分類號: | B01D45/08;H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京風雅頌專利代理有限公司11403 | 代理人: | 王安娜,李翔 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 過濾 裝置 真空 刻蝕 設備 | ||
技術領域
本實用新型涉及半導體制造技術領域,特別是指一種過濾裝置、真空抽氣裝置及刻蝕設備。
背景技術
刻蝕是半導體制造過程中的重要工藝,刻蝕需要在真空反應腔中進行,在刻蝕完成之后,通過真空抽氣裝置抽出真空反應腔室中的工藝廢氣。具體地,在低壓下,反應氣體在射頻功率的激發下,產生電離形成等離子體,等離子體由帶電的電子和離子組成,真空反應腔室中的氣體在電子的撞擊下,除了轉變成離子外,還能吸收能量并形成大量的活性基團。活性基團與被刻蝕物質表面發生化學反應,并生成揮發性的反應生成物(工藝廢氣)。反應生成物脫離被刻蝕物質表面,然后被真空抽氣裝置抽出真空反應腔室。
目前,普遍采用過濾網來過濾真空反應腔室中體積較大的異物,以防止異物掉落到真空抽氣裝置中。但是,在刻蝕工藝過程中,當突然開啟真空抽氣裝置,并開始抽氣時,氣流會出現短暫的亂擾和反沖,導致真空反應腔室和真空抽氣裝置之間沉積的粉塵反沖至真空反應腔室,從而影響真空反應腔室的潔凈度,降低生產良率。
實用新型內容
有鑒于此,本實用新型的目的在于提出一種過濾裝置、真空抽氣裝置及刻蝕設備,以解決在開始抽氣的瞬間,真空反應腔室和真空抽氣裝置之間沉積的粉塵反沖至真空反應腔室的技術問題。
基于上述目的,本實用新型提供的過濾裝置,包括支撐框架、固定架和葉片,所述葉片通過固定架設置在所述支撐框架內,所述葉片與所述支撐框架所在平面呈一定夾角,所述葉片在所述支撐框架所在平面上的投影面積覆蓋所述支撐框架內的通風面積。
在本實用新型的一些實施例中,所述固定架的數量為多個,多個固定架間隔地分布在所述支撐框架上,每個固定架上至少設置有一張葉片;或者
所述葉片的數量為多個,多個葉片組成同心圓。
在本實用新型的一些實施例中,所述葉片上設有阻擋片,所述阻擋片與所述葉片所在平面呈一定夾角,所述阻擋片在所述葉片上的投影處開設有通孔。
在本實用新型的一些實施例中,所述葉片為金屬材料,所述金屬材料的表面鍍有氧化層。
在本實用新型的一些實施例中,所述葉片與所述支撐框架所在平面的夾角為5-45°。
在本實用新型的一些實施例中,所述葉片與所述支撐框架所在平面的夾角的角度可調。
在本實用新型的一些實施例中,所述支撐框架上設置有用于將所述支撐框架固定于過濾通道的連接件。
在本實用新型的一些實施例中,所述連接件為樹形卡扣。
本實用新型還提供一種真空抽氣裝置,包括真空泵、過濾通道和上述任意一個實施例中的過濾裝置,所述過濾通道與真空泵的入口連通,所述過濾裝置固定于所述過濾通道內。
本實用新型還提供一種刻蝕設備,包括真空反應腔室和上述真空抽氣裝置,所述真空反應腔室與真空泵通過過濾通道連通,所述過濾裝置位于所述真空反應腔室和真空泵之間。
從上面所述可以看出,本實用新型提供的過濾裝置、真空抽氣裝置及刻蝕設備通過葉片在支撐框架所在平面上的投影面積覆蓋支撐框架內的通風面積,葉片起到阻擋粉塵反沖的作用,從而解決在開始抽氣的瞬間,真空反應腔室和真空抽氣裝置之間沉積的粉塵反沖至真空反應腔室的問題。而且,相比于傳統鏤空的過濾網,在本實用新型中,由于葉片的折角位置較少,可以更有效地在葉片表面鍍氧化膜,且尖端放電較少,耐腐蝕能力也較強。
附圖說明
圖1為本實用新型一個實施例過濾裝置的結構示意圖;
圖2為本實用新型一個實施例過濾裝置的側視圖;
圖3為本實用新型一個實施例過濾裝置的俯視圖;
圖4為本實用新型另一個實施例過濾裝置的結構示意圖;
圖5為本實用新型又一個實施例過濾裝置的俯視圖;
圖6為本實用新型又一個實施例過濾裝置的側視圖;
圖7為本實用新型再一個實施例葉片的結構示意圖;
圖8為本實用新型另一個實施例過濾裝置的側視圖。
具體實施方式
為使本實用新型的目的、技術方案和優點更加清楚明白,以下結合具體實施例,并參照附圖,對本實用新型進一步詳細說明。
參考圖1,其為本實用新型一個實施例過濾裝置的結構示意圖。作為本實用新型的一個實施例,所述過濾裝置包括支撐框架1、固定架2和葉片3,所述葉片3通過固定架2設置在所述支撐框架1內,并且所述葉片3與所述支撐框架1所在平面呈一定夾角,所述葉片3在所述支撐框架1所在平面上的投影面積覆蓋所述支撐框架1內的通風面積。
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