[實用新型]一種鏡片鍍膜裝置

有效

• 申請號: 201720085843.5
• 申請日: 2017-01-20
• 公開（公告）號: CN206486588U
• 公開（公告）日: 2017-09-12
• 發明（設計）人: 袁志峰
• 申請（專利權）人: 中山北方晶華精密光學有限公司
• 主分類號: C23C14/50
• 分類號: C23C14/50
• 代理公司: 中山市高端專利代理事務所(特殊普通合伙)44346
• 代理人: 鐘作亮

技術領域

本實用新型涉及一種鏡片鍍膜裝置。

背景技術

當光線進入不同傳遞物質時，大約有5％會被反射掉，在光學瞄準鏡中有許多透鏡和折射鏡，整個加起來可以讓入射光線損失達30％至40％。現代光學透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜。鍍膜主要是為了減少反射。為了提高鏡頭的透光率和影像的質量，在現代鏡頭制造工藝上都要對鏡頭進行鍍膜。鍍膜設備應用廣泛。需要鍍膜的鏡片一般稱之為基片，鍍膜所采用的材料被稱為靶材?；c靶材同在真空腔中。鍍膜設備主要包括真空離子蒸發、磁控濺射兩大類。發射源將靶材發射到基片上進行鍍膜。鍍膜時，基片一般放置在鍍膜傘上。然而目前的鍍膜設備往往存在一個問題，就是鍍膜效果不理想，基片的鍍膜層不均勻，甚至有的位置鍍不到膜。這是因為目前的鍍膜傘的形狀采用的是弧形的傘狀結構，基片放置于鍍膜傘的弧形面上，而發射源在鍍膜傘的下面，發射源將靶材從下面往上發射，由于鍍膜傘是弧形面，導致基片的有些位置存在死角，靶材不能噴射到基片的各個位置，特別是弧形的基片放置在弧形的鍍膜傘的情況更容易出現鍍膜死角。

實用新型內容

為了克服現有技術的不足，本實用新型提供一種鍍膜均勻，不存在鍍膜死角的鏡片鍍膜裝置。

本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是：

一種鏡片鍍膜裝置，包括真空腔體以及放置于該真空腔體內的發射源和鍍膜傘，發射源設置在真空腔體的底部，鍍膜傘設置在真空腔體的頂部。鍍膜傘包括基片安裝面以及圍板，基片安裝面設置有若干基片安裝位，基片安裝面為平面，鍍膜傘的上方連接旋轉機構，該旋轉機構安裝在真空腔體的頂部，旋轉機構在真空腔體的頂部旋轉。

作為本實用新型的進一步改進，真空腔體的底部設置有若干支撐柱，該支撐柱的頂端安裝有發射源固定板，發射源安裝發射源固定板的下面。

本實用新型的有益效果是：由于鍍膜傘基片安裝面為平面，待鍍膜的基片放置于鍍膜傘基片安裝面上，發射源將靶材從下面往上發射，基片的每個位置都可以噴射得到，不存在鍍膜死角，同時鍍膜傘的上方連接旋轉機構，旋轉機構可帶動鍍膜傘旋轉，更加促進基片的鍍膜接觸面，使鍍膜更加均勻。

附圖說明

下面結合附圖和實施例對本實用新型進一步說明。

圖1是本實用新型的立體示意圖。

具體實施方式

在此需要說明的是，對于這些實施方式的說明用于幫助理解本實用新型，但并不構成對本實用新型的限定。

參照圖1，本實用新型的一種鏡片鍍膜裝置，包括真空腔體3以及放置于該真空腔體3內的發射源5和鍍膜傘4，發射源5設置在真空腔體3的底部，鍍膜傘4設置在真空腔體3的頂部。鍍膜傘4包括基片安裝面41以及圍板43，基片安裝面41設置有若干基片安裝位42，基片安裝面41為平面，鍍膜傘4的上方連接旋轉機構6，該旋轉機構6安裝在真空腔體3的頂部，旋轉機構6在真空腔體3的頂部旋轉，旋轉機構6帶動鍍膜傘4旋轉。真空腔體3的底部設置有若干支撐柱1，該支撐柱1的頂端安裝有發射源固定板2，發射源5安裝發射源固定板2的下面，這樣可以以簡單的結構使得發射源5穩定的固定在真空腔體3的底部。

參照圖1，由于鍍膜傘4的基片安裝面41為平面，待鍍膜的基片放置于基片安裝面41的安裝位42上，發射源5從底部將靶材從下面往上發射，這樣的結構可以保證基片的每個位置都可以噴射得到，不存在鍍膜死角。同時鍍膜傘4的上方連接旋轉機構6，旋轉機構6可帶動鍍膜傘4旋轉，更能促進基片的鍍膜接觸面，使鍍膜更加均勻。

以上所述僅為本實用新型的實施方式而已，并不限制本實用新型，對于本領域的技術人員來說，本實用新型可以有各種更改和變化。凡在本實用新型的精神和原則之內，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本實用新型的保護范圍之內。