[實(shí)用新型]CMP設(shè)備內(nèi)部噴灑系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201720065384.4 | 申請(qǐng)日： | 2017-01-19 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN206464977U | 公開（公告）日： | 2017-09-05 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 韋榮 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 吉姆西半導(dǎo)體科技（無錫）有限公司 |
| 主分類號(hào)： | B24B37/34 | 分類號(hào)： | B24B37/34;B24B53/017 |
| 代理公司： | 無錫市大為專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙)32104 | 代理人： | 曹祖良,屠志力 |
| 地址： | 214194 江蘇省無錫市*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | cmp 設(shè)備 內(nèi)部 噴灑 系統(tǒng) | ||
1.一種CMP設(shè)備內(nèi)部噴灑系統(tǒng)，其特征在于，包括至少一根支撐桿(5)，所述支撐桿(5)連接在支撐裝置(4)上，支撐桿(5)位于相鄰兩個(gè)研磨頭(3)之間；支撐桿(5)的安裝高度高于研磨頭(3)；
在支撐桿(5)上固定有噴灑器(6)；所述噴灑器(6)包括底座(601)、底座(601)內(nèi)部的通道(602)、轉(zhuǎn)接頭(603)和噴嘴(604)；兩個(gè)轉(zhuǎn)接頭(603)分別設(shè)在底座(601)的兩端，與通道(602)連通，且所述轉(zhuǎn)接頭(603)為傾斜角度轉(zhuǎn)接頭；噴嘴(604)設(shè)在轉(zhuǎn)接頭(603)上；
底座(601)固定在支撐桿(5)上，底座(601)上的兩個(gè)噴嘴(604)分別位于所在支撐桿(5)的兩側(cè)，并朝向外側(cè)下方。
2.如權(quán)利要求1所述的CMP設(shè)備內(nèi)部噴灑系統(tǒng)，其特征在于，
支撐桿(5)設(shè)有數(shù)根，連接在CMP設(shè)備大盤(1)中央上方的支撐裝置(4)上，并呈放射狀向大盤(1)外側(cè)邊緣延伸。
3.如權(quán)利要求1所述的CMP設(shè)備內(nèi)部噴灑系統(tǒng)，其特征在于，
轉(zhuǎn)接頭(603)采用45度轉(zhuǎn)接頭。
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