[實用新型]CMP設備內(nèi)部噴灑系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201720065384.4
• 申請日: 2017-01-19
• 公開（公告）號: CN206464977U
• 公開（公告）日: 2017-09-05
• 發(fā)明（設計）人: 韋榮
• 申請（專利權）人: 吉姆西半導體科技（無錫）有限公司
• 主分類號: B24B37/34
• 分類號: B24B37/34;B24B53/017
• 代理公司: 無錫市大為專利商標事務所(普通合伙)32104
• 代理人: 曹祖良,屠志力

1.一種CMP設備內(nèi)部噴灑系統(tǒng)，其特征在于，包括至少一根支撐桿(5)，所述支撐桿(5)連接在支撐裝置(4)上，支撐桿(5)位于相鄰兩個研磨頭(3)之間；支撐桿(5)的安裝高度高于研磨頭(3)；

在支撐桿(5)上固定有噴灑器(6)；所述噴灑器(6)包括底座(601)、底座(601)內(nèi)部的通道(602)、轉(zhuǎn)接頭(603)和噴嘴(604)；兩個轉(zhuǎn)接頭(603)分別設在底座(601)的兩端，與通道(602)連通，且所述轉(zhuǎn)接頭(603)為傾斜角度轉(zhuǎn)接頭；噴嘴(604)設在轉(zhuǎn)接頭(603)上；

底座(601)固定在支撐桿(5)上，底座(601)上的兩個噴嘴(604)分別位于所在支撐桿(5)的兩側(cè)，并朝向外側(cè)下方。

2.如權利要求1所述的CMP設備內(nèi)部噴灑系統(tǒng)，其特征在于，

支撐桿(5)設有數(shù)根，連接在CMP設備大盤(1)中央上方的支撐裝置(4)上，并呈放射狀向大盤(1)外側(cè)邊緣延伸。

3.如權利要求1所述的CMP設備內(nèi)部噴灑系統(tǒng)，其特征在于，

轉(zhuǎn)接頭(603)采用45度轉(zhuǎn)接頭。