[實用新型]刻蝕機的下電極載片臺

有效

• 申請號: 201720064444.0
• 申請日: 2017-01-19
• 公開（公告）號: CN206432233U
• 公開（公告）日: 2017-08-22
• 發明（設計）人: 車東辰;李娜;胡冬冬;許開東
• 申請（專利權）人: 江蘇魯汶儀器有限公司
• 主分類號: H01J37/20
• 分類號: H01J37/20;H01L21/67;H01L21/683
• 代理公司: 北京得信知識產權代理有限公司11511
• 代理人: 孟海娟

技術領域

本實用新型涉及半導體技術領域，具體涉及刻蝕機的下電極載片臺。

背景技術

在等離子體刻蝕工藝中所使用的下電極載片臺是一種固定待刻蝕晶圓的結構，合適的固定結構，對于等離子體刻蝕工藝的可靠性、穩定性和重復性有重要的作用。在選擇晶圓固定結構時，需要考慮刻蝕晶圓的尺寸，刻蝕工藝的氣體及流量分布，該固定結構使用材料對于刻蝕工藝過程的物理和化學影響，以及刻蝕工藝過程產生的熱效應等因素。對于具有射頻或者直流偏壓的工藝結構，在選擇固定結構時，還應考慮電極對載片臺的電磁場分布作用的影響。

為了實現等離子體刻蝕工藝，要求下電極對晶圓具有吸附能力，同時對刻蝕過程產生的熱量有冷卻的功能。現有技術中，載片臺通常采用的是鋁合金陽極氧化，具有氦氣體冷卻和水冷結構。這種載片臺結構復雜，不易安裝維護。并且，當冷卻水的溫度較低時，容易在載片臺外部或下電極周圍凝結水珠或者反應聚合物，導致刻蝕速率降低，從而影響刻蝕工藝的均勻性和穩定性。

實用新型內容

本實用新型旨在提供一種刻蝕機的下電極載片臺，以提高等離子體刻蝕工藝技術的穩定性、均勻性和重復性。

本實用新型的刻蝕機的下電極載片臺包括上載臺和下載臺，兩者相互連接，其中，所述上載臺用于放置晶圓，所述上載臺的下表面開有冷卻液循環槽，所述上載臺的上表面設有冷卻氣體分流槽和冷卻氣體出氣孔，所述下載臺中心設有通孔以與刻蝕機的頂針機構匹配安裝，具有冷卻液入口、冷卻液出口和冷卻氣體進氣孔，所述冷卻液入口和所述冷卻液出口均與所述冷卻液循環槽相連通，在對下電極進行冷卻時，冷卻液從所述下載臺的冷卻液入口進入所述上載臺的冷卻液循環槽內，而后從所述下載臺的冷卻液出口流出，對所述上載臺表面的晶圓進行冷卻時，冷卻氣體從所述下載臺的冷卻氣體進氣孔進入，從所述上載臺的冷卻氣體出氣孔通過，并向所述冷卻氣體分流槽內擴散。

優選為，所述冷卻氣體分流槽為多個同心環形槽，并且通過徑向槽相互連通。

優選為，所述冷卻氣體出氣孔呈環形分布。

優選為，所述冷卻氣體出氣孔位于所述冷卻氣體分流槽的最內側的環形槽上。

優選為，所述冷卻氣體出氣孔均勻分布。

優選為，在所述上載臺的所述上表面的邊緣區域設置有晶圓止滑區。

優選為，所述晶圓止滑區包括環形下沉臺階和粘性薄膜，所述環形下沉臺階位于所述上載臺的上表面的邊緣，所述粘性薄膜配置于所述環形臺階上，所述粘性薄膜的厚度與所述環形下沉臺階的高度相同。

優選為，所述環形下沉臺階的寬度為5～10mm，高度為0.1～0.3mm。

優選為，所述粘性薄膜為聚酰亞胺薄膜。

優選為，所述上載臺與所述下載臺通過螺栓緊固連接。

本實用新型的刻蝕機的下電極載片臺具有良好的晶片吸附能力，同時對刻蝕過程產生的熱量有顯著冷卻功能。結構簡單、易于實施、成本低且效果顯著。

附圖說明

為了更清楚地說明本實用新型具體實施方式或現有技術中的技術方案，下面將對具體實施方式或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖是本實用新型的一些實施方式，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1是刻蝕機的下電極載片臺的立體結構示意圖。

圖2是刻蝕機的下電極載片臺的上載臺的仰視圖。

圖3是刻蝕機的下電極載片臺的上載臺的俯視圖。

圖4是刻蝕機的下電極載片臺的下載臺的立體結構示意圖。

圖5是刻蝕機的下電極載片臺的上載臺的另一實施方式的俯視圖。

圖中：

1～上載臺；2～下載臺；11～冷卻液循環槽；12～冷卻氣體分流槽；13～冷卻氣體出氣孔；14～晶圓止滑區；21～通孔；22～冷卻液入口；23～冷卻液出口；24～冷卻氣體進氣孔。

具體實施方式

為了使本實用新型的目的、技術方案及優點更加清楚明白，下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，應當理解，此處所描述的具體實施例僅用以解釋本實用新型，并不用于限定本實用新型。所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其它實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。