[實用新型]加熱裝置有效
| 申請號: | 201720064151.2 | 申請日: | 2017-01-19 |
| 公開(公告)號: | CN206835390U | 公開(公告)日: | 2018-01-02 |
| 發明(設計)人: | H.屈默勒;R.米爾尼克爾;K.舍內曼;V.布洛克;K.施密特;B.羅賓;M.塔費爾納 | 申請(專利權)人: | E.G.O.電氣設備制造股份有限公司 |
| 主分類號: | H05B1/00 | 分類號: | H05B1/00 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 盧江,劉春元 |
| 地址: | 德國奧*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 加熱 裝置 | ||
1.加熱裝置,其具有:
- 平面的載體,
- 至少一個加熱元件,
- 測量裝置,
- 在所述載體上方的電介質層,其中所述電介質層具有與溫度相關的電容特性,
- 在所述電介質層上方的兩個電極,其中所述電極并排地伸展,
- 在所述兩個電極上方的基礎絕緣層,其中所述至少一個加熱元件被施加在所述基礎絕緣層上方,
其中,所述測量裝置與所述兩個電極連接,而且被構造用于對在所述電極上的電容的變化進行檢測并且作為針對在所述加熱裝置上的溫度變化的量度來進行分析。
2.根據權利要求1所述的加熱裝置,其特征在于,所述測量裝置與所述兩個電極連接。
3.根據權利要求2所述的加熱裝置,其特征在于,所述測量裝置只以所述測量裝置的兩個輸入端與所述兩個電極連接,其中每個輸入端都與一個電極連接。
4.根據權利要求1所述的加熱裝置,其特征在于,所述電介質層直接被施加到所述載體上。
5.根據權利要求4所述的加熱裝置,其特征在于,所述電介質層在一側上基本上覆蓋所述載體的整個表面。
6.根據權利要求1所述的加熱裝置,其特征在于,所述兩個電極直接被施加到所述電介質層上。
7.根據權利要求6所述的加熱裝置,其特征在于,由相同材料構成并且具有相同厚度的所述兩個電極直接被施加到所述電介質層上。
8.根據權利要求1所述的加熱裝置,其特征在于,所述兩個電極中的每個都具有多個彼此并排地或彼此并行地伸展的電極銷,所述電極銷在沒有直接的電接觸的情況下與另一電極的類似的電極銷交替并排地來布置。
9.根據權利要求8所述的加熱裝置,其特征在于,從所述電極的對置的基帶出發,在每個電極上都分別設置有同樣多的電極銷。
10.根據權利要求8所述的加熱裝置,其特征在于,所述兩個電極的電極銷的寬度是不同的,其中所述一個電極的電極銷比所述另一電極的電極銷至少寬10%。
11.根據權利要求1所述的加熱裝置,其特征在于,所述兩個電極的總面積有最大10%的不同。
12.根據權利要求11所述的加熱裝置,其特征在于,所述兩個電極的總面積相同。
13.根據權利要求1所述的加熱裝置,其特征在于,所述基礎絕緣層直接被施加到所述兩個電極上。
14.根據權利要求1所述的加熱裝置,其特征在于,所述基礎絕緣層的材料與所述電介質層的材料相比具有電容特性和/或電阻特性的更低的溫度相關性。
15.根據權利要求14所述的加熱裝置,其特征在于,所述溫度相關性小于所述電介質層的溫度相關性的20%。
16.根據權利要求1所述的加熱裝置,其特征在于,所述電介質層具有比所述基礎絕緣層更低的電阻。
17.根據權利要求1所述的加熱裝置,其特征在于,所述加熱元件被施加到所述基礎絕緣層上。
18.根據權利要求17所述的加熱裝置,其特征在于,所述加熱裝置的所有加熱元件都被施加到所述基礎絕緣層上并且并排地來施加。
19.根據權利要求1所述的加熱裝置,其特征在于,所述測量裝置附加地與所述載體連接,而且被構造為:依據所述電介質層的與溫度相關的電阻的被存儲在所述測量裝置中的相關性來對在所述兩個電極中的至少一個與所述載體之間的電阻進行檢測并且作為針對在所述加熱裝置上的溫度變化的量度來進行分析。
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