[實用新型]一種深紫外探測器有效
| 申請號: | 201720051168.4 | 申請日: | 2017-01-16 |
| 公開(公告)號: | CN206471340U | 公開(公告)日: | 2017-09-05 |
| 發明(設計)人: | 孫卿;呂志勤;羅紹軍;楊福華;湯磊 | 申請(專利權)人: | 中蕊(武漢)光電科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/0352 | 分類號: | H01L31/0352;H01L31/0304;H01L31/105 |
| 代理公司: | 武漢開元知識產權代理有限公司42104 | 代理人: | 俞鴻 |
| 地址: | 430074 湖北省武漢市東湖新*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 深紫 探測器 | ||
1.一種深紫外探測器,它包括透明的襯底,所述襯底上生長的成核層,成核層上生長的緩沖層,其特征在于緩沖層上依次生長的有n型AlGaN層,周期性結構AlN/AlaGa1-aN阻擋層,周期性結構AlN/AlbGa1-bN吸收層,AlN限制層,周期性結構AlN/AlcGa1-cN阻擋層,p型GaN層;所述AlN/AlaGa1-aN阻擋層中每個周期的AlN厚度、AlN/AlcGa1-cN阻擋層中每個周期的AlN厚度、AlN/AlbGa1-bN吸收層中每個周期的AlN厚度為0.4nm-1.5nm;其中0≤b<a<c<1;p型GaN層上連接p型歐姆接觸電極合金,n型AlGaN層上連接n型歐姆接觸電極合金。
2.如權利要求1所述一種深紫外探測器,其特征在于AlN/AlaGa1-aN阻擋層首層為壘材料AlN層,其次為阱材料AlaGa1-aN層,接著重復周期壘材料AlN層、阱材料AlaGa1-aN層,最后一層為壘材料AlN層;總厚度為50-500nm。
3.如權利要求1所述一種深紫外探測器,其特征在于吸收層首層為阱材料AlbGa1-bN層,其次為壘材料AlN層,接著為重復周期阱材料AlbGa1-bN層、壘材料AlN層,最后一層為阱材料AlbGa1-bN層;總厚度為3-150nm。
4.如權利要求1所述一種深紫外探測器,其特征在于AlN/AlcGa1-cN阻擋層首層為阱材料AlcGa1-cN,其次為壘材料AlN層,接著為重復周期阱材料AlcGa1-cN層、壘材料AlN層,最后一層為阱材料AlcGa1-cN層;總厚度為10-200nm。
5.如權利要求1所述一種深紫外探測器,其特征在于所述a的范圍為:0≤a≤0.8,b的范圍為:0≤b≤0.5,c的范圍為:0≤c≤0.8。
6.如權利要求1所述一種深紫外探測器,其特征在于緩沖層為非故意摻雜u型AlGaN,緩沖層的Al組分不大于5%,厚度為2-6μm。
7.如權利要求1所述深紫外探測器,其特征在于.AlN限制層的厚度為1-3nm。
8.如權利要求1-4任一所述一種深紫外探測器,其特征在于AlN/AlaGa1-aN阻擋層和AlN/AlcGa1-cN阻擋層的禁帶寬度大于AlN/AlbGa1-bN吸收層的禁帶寬度。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





