[實用新型]帶有抽真空系統(tǒng)的平板式PECVD進料腔有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201720030341.2 | 申請日: | 2017-01-11 |
| 公開(公告)號: | CN206418198U | 公開(公告)日: | 2017-08-18 |
| 發(fā)明(設計)人: | 傅林堅;石剛;洪昀;吳威;高振波;王偉星;祝廣輝 | 申請(專利權)人: | 浙江晶盛機電股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/513 | 分類號: | C23C16/513;C23C16/455 |
| 代理公司: | 杭州中成專利事務所有限公司33212 | 代理人: | 周世駿 |
| 地址: | 312300 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 帶有 真空 系統(tǒng) 平板 pecvd 進料 | ||
1.一種帶有抽真空系統(tǒng)的平板式PECVD進料腔,該進料腔呈中空狀;其特征在于,在進料腔的底部設有多條氣道,各氣道的一端在進料腔底部中央交匯互通形成中心出口;各氣道的另一端則均勻分布在進料腔底部的四周,且僅在該端部設置連接進料腔的氣道入口;所述中心出口通過真空管道連接至真空泵,在中心出口與真空管道相接處設過濾網(wǎng)。
2.根據(jù)權利要求1所述的平板式PECVD進料腔,其特征在于,所述氣道是設在進料腔底部的凹陷的條形槽,各氣道及中心出口的上部設蓋板使進料腔的底部保持平面狀態(tài)。
3.根據(jù)權利要求1所述的平板式PECVD進料腔,其特征在于,所述氣道有四條且呈十字形布置,或者氣道有八條且呈米字形布置。
4.根據(jù)權利要求1至3任意一項中所述的平板式PECVD進料腔,其特征在于,所述真空管道上設有角閥。
5.根據(jù)權利要求2所述的平板式PECVD進料腔,其特征在于,所述氣道上部的蓋板與中心出口上部的蓋板是分離式的。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





