[發明專利]含硫改性MQ硅樹脂的制備方法

有效

• 申請號: 201711500599.5
• 申請日: 2017-12-30
• 公開（公告）號: CN108341953B
• 公開（公告）日: 2021-01-26
• 發明（設計）人: 劉珠;丁小衛;祝琳
• 申請（專利權）人: 深圳市安品有機硅材料有限公司
• 主分類號: C08G77/28
• 分類號: C08G77/28;C08G77/20;C08G77/06
• 代理公司: 深圳市明日今典知識產權代理事務所(普通合伙) 44343
• 代理人: 王杰輝

本發明公開一種含硫改性MQ硅樹脂的制備方法，包括以下步驟：將含硫雜環單體、正硅酸烷基酯與有機溶劑混合，加入酸性穩定劑及催化劑，滴加水后進行改性反應，然后加入封端劑進行聚合反應，得到含硫改性MQ硅樹脂，該樹脂采用改進的制備方法制備，可顯著提高含硫雜環基團在合成過程中的穩定性，使制備的樹脂氣味小、與有機硅樹脂相容性佳，且制備條件溫和、工藝簡單。

技術領域

本發明屬于有機硅材料技術領域，涉及一種含硫改性MQ硅樹脂的制備方法。

技術背景

光學材料的應用領域正在拓寬，產品不斷向高折射率、高透光率和高可靠性方向發展，有機硅材料由于具有良好的耐溫性、機械性能及無毒環保性，在醫學、生物學、通訊等光學材料制備領域得到廣泛應用。目前光學透鏡、光纖材料等領域應用的有機硅材料要求折射率更高、甚至高達1.7以上，同時具有良好的機械性能。

現有技術提高有機硅材料折射率的方法主要是在聚硅氧烷樹脂的分子結構中引入高折射率基團，包括：

(1)引入芳香族化合物或稠環化合物，可提高折射率，但制備的聚合物色散大，且機械性能方面存在硬而脆的缺陷，折射率只能達到1.5左右。

(2)引入除F以外的鹵族元素，但樹脂的密度增大，耐候性差，易黃變。

(3)引入重金屬離子如鉛、鑭或TiO₂、PbS、FeS納米粒子來提高折射率，但樹脂密度大，抗沖擊性降低，易黃變，實用性差。

(4)引入脂肪族多環化合物,可提高折射率,且色散較低。

另外，引入硫、氮、磷等雜元素也可提高折射率，而在聚合物里引入硫元素是提高折射率最有效的方法,得到的材料色散小,環境穩定性好.近年有關在聚合物中引入硫元素以提高樹脂折射率的報道較多.通常是以硫醚鍵、硫酯鍵、硫代氨基甲酸酯和砜基等形式引入.或者以環硫的形式引入，以環硫的形式引入方法可以制備含硫量較高的聚合物(可達50mol％),從而有效提高樹脂折射率。

但是，現有通過硫雜環單體引入硫元素的方法是采用超低溫條件下的格氏反應制備，存在產物氣味大、制備條件苛刻的缺陷，其限制了該類高折射率硅烷及樹脂的應用推廣。

發明內容

針對上述現有技術的不足，本發明提供一種含硫改性MQ硅樹脂及其制備方法，所述含硫改性MQ硅樹脂采用改進的制備方法制備，顯著提高含硫雜環基團在合成過程中的穩定性，使制備的樹脂氣味小、與有機硅樹脂相容性佳，且制備條件溫和、工藝簡單。

本發明的目的通過以下技術方案實現：

一種含硫改性MQ硅樹脂，其具有如式1所示的平均組成式： (R¹SiO_3/2)_a(R¹₂SiO)_b(SiO₂)_c(R¹₃SiO_1/2)_d(R²R³R⁴SiO_1/2)_e (式1)；

所述R¹的結構式為-OR⁰，所述R⁰含有含硫雜環基團，所述含硫雜環基團具有n個硫原子，n為2的整倍數；所述R²、R³、R⁴為相同或不同的氫基、不含脂肪族不飽和鍵的單價烴基或具有2～10個碳原子的鏈烯基；

所述a、c、e為大于0小于1的數，b、d為大于等于0小于1的數，且(a+2b+3d) /(a+b+c+d)＝0.7～1.5，e/(a+b+c+d)＝0.1～0.5，a+b+c+d+e＝1。