[發(fā)明專利]電路板元器件插裝異常的檢測(cè)方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711495057.3 | 申請(qǐng)日: | 2017-12-31 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108254374A | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-07-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳朋波;陳健;林武;李龍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 蕪湖哈特機(jī)器人產(chǎn)業(yè)技術(shù)研究院有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N21/84 | 分類號(hào): | G01N21/84 |
| 代理公司: | 蕪湖安匯知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 34107 | 代理人: | 朱順利 |
| 地址: | 241000 安徽*** | 國(guó)省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電路板元器件 檢測(cè) 模板圖像 目標(biāo)圖像 插裝 采集電路板 定位元器件 檢測(cè)結(jié)果 檢測(cè)裝置 目標(biāo)區(qū)域 異常缺陷 匹配 圖像 分析 | ||
1.電路板元器件插裝異常的檢測(cè)方法,其特征在于,采用檢測(cè)裝置,且包括步驟:
S1、模板圖像的形成;
S2、采集電路板的圖像,形成目標(biāo)圖像;
S3、將目標(biāo)圖像與模板圖像進(jìn)行匹配,并根據(jù)模板圖像檢測(cè)目標(biāo)圖像的目標(biāo)區(qū)域;
S4、異常缺陷分析。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電路板元器件插裝異常的檢測(cè)方法,其特征在于,所述檢測(cè)裝置包括機(jī)架和設(shè)置于機(jī)架上且用于采集電路板的圖像的視覺(jué)系統(tǒng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電路板元器件插裝異常的檢測(cè)方法,其特征在于,所述視覺(jué)系統(tǒng)包括光源和工業(yè)相機(jī),光源位于工業(yè)相機(jī)的下方,檢測(cè)過(guò)程中,光源發(fā)出的光線射向電路板。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電路板元器件插裝異常的檢測(cè)方法,其特征在于,所述光源為可發(fā)出條形光的條形光源。
5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的電路板元器件插裝異常的檢測(cè)方法,其特征在于,所述光源設(shè)置多個(gè)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一所述的電路板元器件插裝異常的檢測(cè)方法,其特征在于,所述步驟S1包括:
S11、采集合格的電路板的圖像,形成標(biāo)準(zhǔn)圖像;
S12、對(duì)標(biāo)準(zhǔn)圖像進(jìn)行預(yù)處理;
S13、對(duì)預(yù)處理后的標(biāo)準(zhǔn)圖像進(jìn)行標(biāo)記,采集出合格電路板上的元器件所在區(qū)域的圖像作為模板圖像。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的電路板元器件插裝異常的檢測(cè)方法,其特征在于,所述步驟S12中,對(duì)所述標(biāo)準(zhǔn)圖像進(jìn)行預(yù)處理包括進(jìn)行圖像去噪和閾值處理。
8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的電路板元器件插裝異常的檢測(cè)方法,其特征在于,所述步驟S3包括:
S31、將目標(biāo)圖像與模板圖像進(jìn)行粗匹配;
S32、將目標(biāo)圖像的目標(biāo)區(qū)域與模板圖像進(jìn)行精匹配;
S33、根據(jù)模板圖像檢測(cè)目標(biāo)圖像的目標(biāo)區(qū)域,并進(jìn)行對(duì)比分析。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的電路板元器件插裝異常的檢測(cè)方法,其特征在于,所述步驟S31中,在進(jìn)行粗匹配時(shí),將目標(biāo)圖像進(jìn)行定位檢測(cè)和位姿校正。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至9任一所述的電路板元器件插裝異常的檢測(cè)方法,其特征在于,所述步驟S4中,異常缺陷分析包括檢測(cè)電路板上的元器件的有無(wú)、元器件的類型是否正確以及元器件的正負(fù)極是否正確。
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G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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