[發明專利]一種除草劑抗性高光譜多維掃描系統及方法

在審

• 申請號: 201711488349.4
• 申請日: 2017-12-29
• 公開（公告）號: CN108267408A
• 公開（公告）日: 2018-07-10
• 發明（設計）人: 馬偉;王秀
• 申請（專利權）人: 北京農業智能裝備技術研究中心
• 主分類號: G01N21/25
• 分類號: G01N21/25
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 王瑩;李相雨

本發明提供了一種除草劑抗性高光譜多維掃描系統及方法，其中，系統包括：圓柱形暗箱，在圓柱形暗箱內部沿圓柱形暗箱的側壁設置有升降軌道；在圓柱形暗箱內部沿圓柱形暗箱的一周設置有旋轉軌道，且旋轉軌道設置在升降軌道上，旋轉軌道在升降軌道的帶動下進行升降；旋轉軌道上設置有高光譜相機；圓柱形暗箱側壁底端設置有一對入口和出口，貫穿所述入口和所述出口設置有一平移軌道，平移軌道用于運載雜草進入所述圓柱形暗箱，并在高光譜相機從不同高度以及不同角度采集完雜草葉片的光譜信息后，運載雜草從所述出口離開圓柱形暗箱。本發明能夠獲取雜草葉片的高光譜信息，進而根據雜草葉片的高光譜信息可實現雜草葉片上的除草劑的抗藥性的識別。

技術領域

本發明涉及農業生產技術領域，具體涉及一種除草劑抗性高光譜多維掃描系統及方法。

背景技術

在農作物的培養種植過程中，雜草的生長對農作物的生長很不利，由于雜草的生長能力強、蔓延速度較快，嚴重影響農作物對陽光和養分的吸收。為了克服雜草對作物的危害，在過去的許多年里，農田化學除草已成為全球現代農業生產的重要組成部分。然而，由于過度依賴和長期使用相對有限的化學除草劑，導致了抗藥性雜草的發生和發展，且雜草抗藥性問題越來越突出。為了對雜草對抗藥性的發生原因進行推測并根據雜草的發展趨勢進行預警或提出相應的解決方案，科研工作者都需要及時掌握雜草抗藥性基礎數據才能做出判斷。

發明內容

針對現有技術中的缺陷，本發明提供了一種除草劑抗性高光譜多維掃描系統及方法，本發明能夠獲取雜草葉片的高光譜信息，進而根據雜草葉片的高光譜信息可實現雜草葉片上的除草劑的抗藥性的識別。

為實現上述目的，本發明提供了以下技術方案：

第一方面，本發明提供了一種除草劑抗性高光譜多維掃描系統，包括：圓柱形暗箱，在所述圓柱形暗箱內部沿所述圓柱形暗箱的側壁設置有升降軌道；在所述圓柱形暗箱內部沿所述圓柱形暗箱的一周設置有旋轉軌道，且所述旋轉軌道設置在所述升降軌道上，所述旋轉軌道在所述升降軌道的帶動下進行升降；所述旋轉軌道上設置有高光譜相機；

所述圓柱形暗箱側壁底端設置有一對入口和出口，貫穿所述入口和所述出口設置有一平移軌道，所述平移軌道用于運載雜草進入所述圓柱形暗箱，并在所述高光譜相機從不同高度以及不同角度采集完所述雜草葉片的光譜信息后，運載雜草從所述出口離開所述圓柱形暗箱。

優選地，所述圓柱形暗箱為塑料暗箱。

優選地，所述圓柱形暗箱為金屬暗箱。

優選地，所述升降軌道在第一步進電機的驅動下進行升降。

優選地，所述旋轉軌道在第二步進電機的驅動下進行旋轉。

優選地，所述平移軌道在第三步進電機的驅動下進行平移。

優選地，所述第一步進電機為微型步進電機。

優選地，所述升降軌道包括第一軌道桿和第二軌道桿，所述第一軌道桿和第二軌道桿分別設置在圓柱形暗箱的第一側壁位置和第二側壁位置，所述第一側壁位置和所述第二側壁位置相對設置；

相應地，所述旋轉軌道固定在所述第一軌道桿和第二軌道桿上，并在所述第一軌道桿和第二軌道桿的帶動下進行升降移動。

第二方面，本發明還提供了一種基于如第一方面所述的除草劑抗性高光譜多維掃描系統的除草劑抗性高光譜多維掃描方法，包括：

將雜草放置在所述平移軌道上，控制所述平移軌道運載雜草進入所述圓柱形暗箱內；

調整所述升降軌道的升降高度，在每一升降高度下調整所述旋轉軌道的旋轉角度，使得所述高光譜相機從不同高度以及不同角度采集所述雜草葉片的光譜信息。

優選地，所述方法還包括：