[發明專利]基板干法刻蝕裝置在審
| 申請號： | 201711485183.0 | 申請日： | 2017-12-29 |
| 公開（公告）號： | CN108063082A | 公開（公告）日： | 2018-05-22 |
| 發明（設計）人： | 羅浩;張毅先;任思雨;蘇君海;李建華 | 申請（專利權）人： | 信利（惠州）智能顯示有限公司 |
| 主分類號： | H01J37/32 | 分類號： | H01J37/32;H01J37/20;H01L51/56 |
| 代理公司： | 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人： | 葉劍 |
| 地址： | 516029 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 基板干法 刻蝕 裝置 | ||
1.一種基板干法刻蝕裝置，其特征在于，包括上電極板、下電極板和若干支撐凸起件；
所述上電極板和所述下電極板相對且間隔設置；
所述下電極板上開設有若干活動孔和若干氣孔，各所述氣孔貫穿所述下電極板的兩個相背的表面，各所述活動孔開設于所述下電極板朝向所述上電極板的一面；
每一所述支撐凸起件活動插設于一所述活動孔內，各所述活動孔的寬度相同，且各所述活動孔的截面的形狀相同，每一所述支撐凸起件與對應的所述活動孔的側壁抵接；
各所述支撐凸起件凸起于所述下電極板的表面的最大高度相同。
2.根據權利要求1所述的基板干法刻蝕裝置，其特征在于，各所述活動孔呈陣列開設于所述下電極板上。
3.根據權利要求1所述的基板干法刻蝕裝置，其特征在于，各所述活動孔等距開設于所述下電極板上。
4.根據權利要求1所述的基板干法刻蝕裝置，其特征在于，各所述氣孔等距開設于所述下電極板上。
5.根據權利要求1所述的基板干法刻蝕裝置，其特征在于，各所述氣孔與各所述活動孔相互交錯設置。
6.根據權利要求1所述的基板干法刻蝕裝置，其特征在于，各所述支撐凸起件具有圓形截面。
7.根據權利要求1所述的基板干法刻蝕裝置，其特征在于，各所述支撐凸起件具有矩形截面。
8.根據權利要求1所述的基板干法刻蝕裝置，其特征在于，各所述支撐凸起件具有多邊形截面。
9.根據權利要求1所述的基板干法刻蝕裝置，其特征在于，各所述支撐凸起件凸起于所述下電極板的表面的最小高度相同。
10.根據權利要求1所述的基板干法刻蝕裝置，其特征在于，各所述支撐凸起件的長度相等。
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