[發(fā)明專利]偏光片光學(xué)參數(shù)的測量方法及測量裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711483432.2 | 申請日: | 2017-12-29 |
| 公開(公告)號: | CN108181095A | 公開(公告)日: | 2018-06-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 海博 | 申請(專利權(quán))人: | 惠州市華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G01M11/02 | 分類號: | G01M11/02;G02B5/30 |
| 代理公司: | 深圳市銘粵知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44304 | 代理人: | 孫偉峰;武岑飛 |
| 地址: | 516000 廣東省惠州市仲愷高新技術(shù)*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光學(xué)參數(shù) 補償膜 測量參數(shù) 偏光片 測量 入射線偏振光 測量裝置 出射光線 第二測量 第一測量 下偏光片 偏光 對偏光片 光學(xué)性能 偏光度 暗態(tài) | ||
本發(fā)明公開了一種偏光片光學(xué)參數(shù)的測量方法及測量裝置,偏光片包括補償膜和PVA層,測量方法包括:第一狀態(tài)下,入射線偏振光依次經(jīng)過補償膜和PVA層,獲取該狀態(tài)下偏光片出射光線亮度最低和亮度最高時的第一測量參數(shù)和第二測量參數(shù);第二狀態(tài)下,入射線偏振光依次經(jīng)過PVA層和補償膜,獲取該狀態(tài)下偏光片出射光線亮度最低和亮度最高時的第三測量參數(shù)和第四測量參數(shù);根據(jù)第一測量參數(shù)、第二測量參數(shù)、第三測量參數(shù)及第四測量參數(shù)中的一個或多個獲取偏光片中補償膜和/或PVA層的光學(xué)參數(shù),光學(xué)參數(shù)包括暗態(tài)亮度、對比度、偏光度中的任意一種或多種。本發(fā)明能夠測量得到偏光片中補償膜和/或PVA層對偏光片光學(xué)參數(shù)的影響,從而針對性改善偏光片的光學(xué)性能。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及偏光片技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種偏光片光學(xué)參數(shù)的測量方法及測量裝置。
背景技術(shù)
HDR(High-Dynamic Range,高動態(tài)范圍圖像)規(guī)格中要求峰值亮度和暗態(tài)亮度,實際要求為對比的層次感及對比度提升。因此,通過降低偏光片的暗態(tài)穿透率和提高偏光片的偏光度對提升液晶面板的對比度至關(guān)重要。
偏光片是多層膜組合結(jié)構(gòu),通常包括PVA層、補償膜等,影響偏光片偏光度的不僅僅只有核心層的PVA層,補償膜層也會影響偏光度,從而影響液晶面板的對比度。如何理清偏光片的影響膜層很重要,只有理清了影響膜層,才能針對性的去改善優(yōu)化整體結(jié)構(gòu),提高偏光度和面板對比度。
常用的液晶面板顯示模式為VA模式等,VA顯示是一種垂直配向的常黑模式,其上下基板偏光片吸收軸垂直偏貼。在整個顯示過程中,偏光片起到至關(guān)重要的作用。偏光片吸收與偏光軸垂直方向的光,只讓偏光軸方向的光透過,把自然光轉(zhuǎn)變成線偏振光。這種材料都是以膜或板的形式存在,因此常被成為偏光膜或偏光板。
而暗態(tài)亮度對液晶面板的對比度影響很大。具體參表1所示:
表1:液晶面板暗態(tài)亮度對對比度的影響
亮態(tài) 400 400 400 400 400 暗態(tài) 0.4 0.3 0.2 0.1 0.05 對比度 1000 1333 2000 4000 8000 對比度比值 100% 133% 200% 400% 800%
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